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[发明专利]用于调制光源波长的设备和方法-CN202080035506.X在审
发明人：邓国泰;R·阿拉瓦特;P·福祖恩玛耶 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2020-05-11 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H01S3/1055 文献下载
摘要：用于控制激光系统的设备和方法，该激光系统能够生成具有多个交替波长的激光辐射的脉冲的脉冲串，其中控制波长的元件被预定位在脉冲串之间，以处于其产生一个波长的位置与其产生另一波长的位置之间波长。还公开了一种使用二次规划、动态规划、反向前馈控制或迭代学习控制来确定元件在位置之间移动的最佳控制波形的系统。诸如预填充的查找表或现场可编程门阵列的数据存储装置可以用于针对多个重复速率中的每个重复速率存储至少一个最佳控制参数。
用于调制光源波长设备方法

[发明专利]在光刻系统中提供高精度延迟的装置和方法-CN201980063240.7在审
发明人： P·福祖恩玛耶 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-08-12 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01S3/097 文献下载
摘要：用于控制激光器系统中的脉冲的方法和装置，包括控制多腔室激光器系统中的触发脉冲的相对定时，以控制多个腔室的相应激发的延迟，其包括现场可编程门阵列和可编程延迟电路的组合的使用。
光刻系统提供高精度延迟装置方法