专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于IC封装的硅空间转变器-CN201410293670.7有效
  • D·马利克;R·L·赞克曼;S·沙兰 - 英特尔公司
  • 2014-06-26 - 2018-05-01 - H01L23/538
  • 本发明涉及一种用于IC封装的硅空间转变器。描述了一种包括至少第一集成电路(IC)和晶片制造的空间转变器(ST)的装置。所述IC包括底表面上的具有第一焊盘间距的接合焊盘。所述ST包括具有所述第一焊盘间距的接合焊盘的顶表面,并且所述第一IC的接合焊盘中的至少一部分与所述顶表面的接合焊盘接合。所述ST包括具有第二焊盘间距的接合焊盘的底表面、所述顶表面与所述底表面之间的至少一个电介质绝缘层、以及所述电介质层中的导电性互连,其被配置为提供所述顶表面的接合焊盘与所述底表面的接合焊盘之间的电连续性。
  • 用于ic封装空间转变
  • [发明专利]TSV连接的背侧去耦-CN201480076464.9在审
  • W·J·兰贝特;R·L·赞克曼;T·N·奥斯本;C·A·加勒尔 - 英特尔公司
  • 2014-03-28 - 2017-02-22 - H01L23/48
  • 一种装置,包括:管芯,管芯包括从管芯的器件侧延伸至管芯的背侧的多个穿硅过孔(TSV);以及去耦电容器,去耦电容器耦合到TSV。一种方法,包括:提供管芯,管芯包括从管芯的器件侧延伸至管芯的背侧的多个穿硅过孔(TSV);将去耦电容器耦合到管芯的背侧。一种装置,包括:计算设备,计算设备包括封装体,封装体包括包含有器件侧和背侧的微处理器,其中穿硅过孔(TSV)从器件侧延伸至背侧,以及去耦电容器,去耦电容器耦合到管芯的背侧;以及印刷电路板,其中,封装体耦合到印刷电路板。
  • tsv连接背侧去耦
  • [发明专利]模穿孔聚合物块封装-CN201080064633.9有效
  • M·K·罗伊;I·A·萨拉马;C·K·古鲁默西;R·L·赞克曼 - 英特尔公司
  • 2010-11-19 - 2012-11-07 - H01L23/485
  • 描述了形成具有在聚合物块中的模穿孔的集成电路芯片封装的方法以及这种封装。例如,第一互连层可以形成在模制聚合物块上,其中所述第一互连层包括穿过第一聚合物层且到达所述块的第一互连。随后,至少一个第二互连层可以形成在所述第一互连层上,其中所述第二互连层包括穿过第二聚合物层且到达所述第一互连层的所述第一互连的第二互连。随后,可以形成穿过所述块、进入所述第一互连层中且到达所述第一互连的模穿孔。所述模穿孔可以填充有焊料以形成接触所述第一互连并在所述块上延伸的凸块。还描述并要求了其它实施例。
  • 穿孔聚合物封装

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