专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN200910151115.X有效
  • J·J·库特;D·F·库普 - ASML荷兰有限公司
  • 2009-07-21 - 2010-01-27 - G03F7/20
  • 本发明提供一种光刻设备和一种器件制造方法。光刻设备具有:配置用于调节辐射束的照射系统;构造用于支撑图案形成装置的支撑结构,所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束;构造用于保持衬底的衬底台,配置用于将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统;和布置成向物体施加力的致动器,其中所述设备包括热膨胀误差补偿装置,该热膨胀误差补偿装置用以避免由致动器或其他热源耗散的任何热导致的所述物体的热膨胀引起的误差。
  • 光刻设备器件制造方法

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