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[发明专利]用于在小量测目标上对准的拍频图案-CN201880057808.X有效
发明人： B·O·夫艾格金格奥尔;P·C·赫因恩;H·A·J·克瑞姆;A·齐亚托马斯;M·V·梅德韦久瓦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：此处公开了一种形成在衬底上的目标，所述目标包括：对准结构；和量测结构；其中所述对准结构包括被布置成当用源辐射照射所述对准结构时产生拍频图案的结构。有利地，当照射所述目标时，在所述目标的图像中出现的拍频图案允许使用图案识别技术容易地识别出所述目标。
用于小量目标对准拍频图案

[发明专利]暗场数字全息显微镜和相关的量测方法-CN202180076569.4在审
发明人： N·潘迪;A·J·登鲍埃夫;H·A·J·克瑞姆;V·T·滕纳 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-10-07 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了一种暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法，所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的关注的特性。所述暗场数字全息显微镜包括照射分支，所述照射分支用于提供照射辐射以照射所述结构；检测装置，所述检测装置用于捕获由所述结构对所述照射辐射的衍射所产生的物体辐射；以及参考分支，所述参考分支用于提供与物体束干涉的参考辐射，以获得由所述照射辐射和所述参考辐射形成的干涉图案的图像。所述参考分支具有光学元件，所述光学元件能够操作以改变所述参考辐射的特性，以便减小和/或最小化所述暗场数字全息显微镜的视场内的所述图像在检测器平面处的对比度度量的变化。
暗场数字全息显微镜相关方法

[发明专利]确定用于量测设备的最佳聚焦高度的方法-CN201980011519.0有效
发明人： M·V·梅德韦久瓦;A·齐亚托马斯;H·A·J·克瑞姆;M·H·M·范维尔特;B·O·夫艾格金格奥尔;尚晓昕;J·M·范博克斯梅尔;B·韦斯特拉特恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-01-10 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开确定最佳聚焦高度的方法。在一种布置中，获得来自所述量测过程至目标的多次应用的测量数据。所述量测过程的每次应用包括利用辐射斑来照射所述目标并检测由所述目标改变方向的辐射。所述量测过程的所述应用包括在不同名义聚焦高度处的应用。针对所述量测过程的每次应用，所述测量数据包含被改变方向的辐射的光学特性在光瞳平面中的检测到的光瞳表示的至少一个分量。所述方法包括使用所获得的测量数据来确定所述量测过程的最佳聚焦高度。
确定用于设备最佳聚焦高度方法

[发明专利]确定采样方案的方法、相关联的设备以及计算机程序-CN202180023410.6在审
发明人： H·A·J·克瑞姆;P·A·J·廷尼曼斯;J·A·L·J·瑞马克;J·S·威尔登伯格 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种确定采样方案的方法。该方法包括获得并行传感器描述，基于所述并行传感器描述和潜在量测位置来识别多个候选获取配置。在评估度量方面评估每个所述候选获取配置，并且基于所述评估来选择候选获取配置。将所选择的获取配置的相应量测位置添加到采样方案。
确定采样方案方法相关设备以及计算机程序

[发明专利]量测方法和用于测量衬底上的周期性结构的装置-CN202180011634.5在审
发明人： P·A·J·廷尼曼斯;帕特里克·华纳;V·T·滕纳;H·A·J·克瑞姆;B·A·G·洛马士;B·L·W·M·范德文;A·B·昆布尔;A·P·康宁贝格 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-01-20 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：披露了一种利用具有至少一个波长的照射辐射来测量衬底上的周期性结构的方法，所述周期性结构具有至少一个间距。所述方法包括基于所述间距与所述波长的比率来配置成下各项中的一个或更多个：照射孔轮廓，所述照射孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个照射区；用于测量的所述周期性结构的取向；以及检测孔轮廓，所述检测孔轮廓包括傅里叶空间中的一个或更多个分离的检测区。这种配置使得：i)在所述检测孔轮廓内捕获至少一对互补衍射阶的衍射辐射，和ii)所述衍射辐射填充所述一个或更多个分离的检测区的至少80％。所述周期性结构被测量，而同时应用照射孔轮廓、检测孔轮廓和所述周期性结构的取向中的经配置的一个或更多个。
方法用于测量衬底周期性结构装置

[发明专利]量测目标的改进-CN202080048483.6在审
发明人： N·梅塔;J·科塔尔;帕特里克·华纳;M·范德斯卡;M·G·M·M·范卡拉埃吉;H·A·J·克瑞姆;O·V·兹维尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2020-07-06 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种图案形成装置和使用该图案形成装置进行图案化的辅助衬底，该图案形成装置用于将产品结构图案化到衬底上。该图案形成装置包括目标图案化元件，其用于图案化至少一个目标，从至少一个目标能够推断感兴趣参数。目标图案化元件和用于图案化产品结构的产品图案化元件。目标图案化元件和产品图案化元件被配置为使得所述至少一个目标具有至少一个边界，该至少一个边界既不平行也不垂直于所述衬底上的所述产品结构。
目标改进

[发明专利]测量目标的方法、量测设备、光刻单元和目标-CN201880032928.4有效
发明人： H·A·J·克瑞姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-05-01 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了用于测量在衬底上形成的目标的方法和设备。所述目标包括对准结构和量测结构。在一种方法中，执行第一测量过程，所述第一测量过程包括利用第一辐射照射目标并检测由第一辐射从目标的散射引起的辐射。第二测量过程包括利用第二辐射照射所述目标并检测由所述第二辐射从所述目标的散射引起的辐射。所述第一测量过程检测所述对准结构的位置。第二测量过程使用由所述第一测量过程检测到的所述对准结构的位置，以将所述第二辐射的辐射斑对准至所述量测结构内的期望部位上。
测量目标方法设备光刻单元

[发明专利]由量测数据的统计分层重建-CN201680071040.2有效
发明人： S·I·马萨瓦特;R·德克斯;H·A·J·克瑞姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种方法，所述方法包括：获得器件制造过程或该器件制造过程的产品的测量结果；通过分别针对于所述测量结果拟合分布来获得所述分布的一个或更多个参数的一个或更多个值的多个组；使用计算机通过针对于所述参数的值的多个组拟合超分布获得所述超分布的一个或更多个超参数的一个或更多个值的组。
数据统计分层重建

[发明专利]量测方法和设备、计算机程序和光刻系统-CN201780046063.2有效
发明人： T·希尤维斯;H·A·J·克瑞姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-07-11 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种重建在衬底上通过光刻过程形成的结构的特性的方法，以及相关的量测设备。该方法包括将与光刻过程相关的第一参数的测量值组合以获得第一参数的估计值；以及使用第一参数的估计值和结构的测量值重建与结构的特性相关的至少第二参数。组合步骤可以包括对第一参数的变化建模以获得第一参数的参数模型或指纹。
方法设备计算机程序光刻系统

[发明专利]确定边缘定位误差的方法、检测设备、图案形成装置、衬底及器件制造方法-CN201580008855.1有效
发明人： S·I·马萨瓦特;H·A·J·克瑞姆;毛瑞特斯·范德查尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-01-22 - 公布日： 2018-02-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种确定使用光刻过程而产生的结构内的边缘定位误差的方法，所述方法包括如下步骤(a)接收包括使用所述光刻过程而产生的第一结构的衬底，所述第一结构包括第一层及第二层，所述层中的每个层具有导电材料的第一区域及非导电材料的第二区域；(b)接收指示第一目标相对位置的目标信号，所述第一目标相对位置指示在所述光刻过程期间在所述第一结构中所述第一层的所述第一区域与所述第二区域之间的边缘相对于所述第二层的所述第一区域与所述第二区域之间的边缘而言的目标位置；(c)在利用光学辐射来照射所述第一结构的同时检测散射的辐射以获得第一信号；和(d)基于所述第一信号及所述第一目标相对位置来确定边缘定位误差参数。
确定边缘定位误差方法检测设备图案形成装置衬底器件制造

[发明专利]评估衬底的模型的方法、检查设备和光刻设备-CN200980109332.0有效
发明人： A·J·登鲍埃夫;H·A·J·克瑞姆;M·A·范德克尔克豪夫;H·P·M·派勒曼斯;M·埃伯特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-03-30 - 公布日： 2011-02-16 - 主分类号： G01N21/47 文献下载
摘要：本发明提出了一种评估衬底的模型的方法。使用第一波长的辐射进行散射测量。之后改变辐射的波长，且进行另外的散射测量。如果散射测量在波长范围上是一致的，那么模型是足够准确的。然而，如果散射测量随着波长变化而变化，那么衬底的模型是不充分准确的。
评估衬底模型方法检查设备光刻

[发明专利]检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法-CN201010116824.7有效
发明人： H·A·J·克瑞姆;A·G·M·基尔斯;H·P·M·派勒曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-02-09 - 公布日： 2010-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法。对于角度分解光谱测量，使用具有四个扇形的照射轮廓的辐射束。第一和第三扇形被照射，而第二和第四扇形没有被照射。因此，最终的光瞳面被分成四个扇形，并且仅零级衍射图案出现在第一和第三扇形中，而仅第一级衍射图案出现在第二和第三扇形中。
检验设备光刻处理单元以及方法

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