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[发明专利]SEM量测工具的双焦点解决方案-CN202180088585.5在审
发明人： N·J·M·博世;王旭;P·P·亨佩尼尤斯;王永强;H·巴特勒;王友金;J·H·格拉斯曼;隋建志;陈添明;吴爱民 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：提供了一种带电粒子装置，其包括粒子射束生成器、光学器件、第一定位设备和第二定位设备、以及控制器，该第一和第二定位设备都被配置为沿着粒子射束生成器的光轴相对于粒子射束生成器定位衬底，控制器被配置为在第一操作模式与第二操作模式之间进行切换。该装置被配置为：当在第一操作模式下操作时，用于通过粒子射束以粒子射束的第一着陆能量照射衬底，并且当在第二操作模式下操作时，用于以不同的第二着陆能量照射衬底。当在第一操作模式下操作时，第二定位设备被配置为将衬底相对于粒子射束生成器定位在粒子射束的第一焦点位置处，并且在第二操作模式下，将衬底定位在不同的第二焦点位置处。
sem 工具焦点解决方案

[发明专利]量测设备和量测方法-CN202180087931.8在审
发明人： J·A·L·J·拉伊马克思;B·A·G·罗曼斯;A·J·登博夫;H·巴特勒 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-12-16 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于测量衬底上的目标的感兴趣参数的量测设备，该量测设备包括：m*n个检测器，其中m≥1且n≥1；第一框架；(n‑1)个第二框架；以及(m‑1)*n个中间框架，其中：每个检测器经由初级定位组件连接到中间框架或第一框架或第二框架中的一者；并且每个中间框架经由次级定位组件连接到第一框架或第二框架中的一者。
设备方法

[发明专利]电子束检查设备的台架定位-CN201880057197.9有效
发明人： M·K·M·巴格根;A·H·阿伦茨;L·库因德尔斯玛;J·H·A·范德里杰特;P·P·亨佩尼尤斯;R·J·T·范肯彭;N·J·M·博世;H·M·J·范德格罗伊斯;曾国峰;H·巴特勒;M·J·C·龙德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-31 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：一种电子束设备包括：用于生成电子束的电子光学系统；用于将样本保持在目标位置，使得样本的目标部分被电子束照射的载物台；以及用于将载物台相对于电子束移位的定位装置。定位装置包括台架致动器和平衡质量体。台架致动器将力施加到载物台上来使得载物台加速。施加到载物台上的力导致施加到平衡质量体上的反作用力。平衡质量体响应于反作用力而移动。定位装置使得平衡质量体能够响应于反作用力在第一方向上的分量而在第一方向上移动。
电子束检查设备台架定位

[发明专利]光刻设备-CN202210996206.9在审
发明人： H·巴特勒;M·J·沃奥尔戴尔冬克;M·W·J·E·威吉克曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-01-11 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了一种光刻设备，该设备包括：投影系统(PS；200)，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束(B)投影到衬底(W)上；所述投影系统包括多个光学元件(200.1、200.2)；传感器框架(220)；第一位置测量系统(240)，所述第一位置测量系统被配置为测量所述多个光学元件相对于所述传感器框架的位置；其中所述传感器框架包括：‑N个子框架(220.1、220.2)，N是大于1的整数；‑耦合N个子框架的耦合系统(220.3)；和‑第二位置测量系统(250)，所述第二位置测量系统被配置为确定所述N个子框架的相对位置。
光刻设备

[发明专利]包括压电致动器或电致伸缩致动器的致动器组件-CN202080037099.6在审
发明人： H·巴特勒;B·詹森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-05-12 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种致动器组件，包括第一压电致动器和第二压电致动器。根据第一方面，所述压电致动器包括校正单元，其被配置为确定：输出电压差，表示所述第一压电致动器的所述输出端子处的电压与所述第二压电致动器的所述输出端子处的电压之间的差异；以及基于所述输出电压差的用于校正所述第一功率信号的第一功率校正和/或用于校正所述第二功率信号的第二功率校正。根据第二方面，一种功率单元，所述功率单元被配置为基于所述设定点来生成用于所述第一压电致动器和所述第二压电致动器的功率信号，并且向所述第一压电致动器的所述第一端子和所述第二压电致动器的所述第二端子提供所述功率信号。
包括压电致动器伸缩组件

[发明专利]载物台、工作台设备、光刻设备以及将物体装载到载物台或工作台设备上的方法-CN202080030190.5在审
发明人： S·J·赫尔曼努森;J·P·M·B·沃缪伦;H·巴特勒;B·简森;M·M·A·斯特尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种被配置为将物体保持在保持表面上的载物台，所述载物台包括：主体；从主体延伸的多个突节，突节的端面限定保持表面；致动器组件；其中致动器组件被配置为使主体变形，以基于要被保持的物体的形状信息来生成保持表面的平面外变形。
载物台工作台设备光刻以及物体装载到载物台方法

[发明专利]高度传感器、光刻设备和用于制造器件的方法-CN201780068065.1有效
发明人： H·巴特勒;J·P·M·B·沃缪伦;M·P·瑞因德斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-10-12 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种光刻设备(LA)将图案施加于衬底(W)。所述光刻设备包括高度传感器(LS)、衬底定位子系统和控制器，所述控制器被配置成使高度传感器测量跨越衬底的部位处的衬底表面的高度(h)。所测量的高度用于控制施加到衬底的一个或更多个图案的聚焦。相对于参考高度(zref)测量高度h。高度传感器可操作以改变参考高度(zref)，这允许更宽的有效操作范围。可以放宽在测量期间控制衬底高度的规范。可以通过在高度传感器内移动一个或更多个光学元件(566，572，576，504和/或512)或移动高度传感器来改变参考高度。没有移动部件的实施例包括多元件光电探测器(1212)。
高度传感器光刻设备用于制造器件方法

[发明专利]物体定位系统、诊断和校准方法、定位控制方法、光刻设备和器件制造方法-CN202080027579.4在审
发明人： B·詹森;S·A·A·阿布德尔莫伊蒂;H·巴特勒;K·J·F·卢南;A·辛格;R·E·J·R·范德维尔登 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种物体定位系统，包括：致动器系统；和测量系统，其中致动器系统包括由主要具有电致伸缩特性并且在没有电场的情况下基本没有净极化的材料制成的致动器，其中致动器系统被配置为向致动器施加电场，该电场包括偏置电场和叠加在偏置电场上的致动电场，所述致动电场的场强等于或小于偏置电场的场强，其中测量系统被配置为测量致动器的电特性，该电特性代表致动器的机械状态。
物体定位系统诊断校准方法控制光刻设备器件制造

[发明专利]承载装置、磁性重力补偿器、振动隔离系统、光刻设备、控制具有负刚度的重力补偿器的方法、以及弹簧-CN201880017655.6有效
发明人： M·H·基曼;H·巴特勒;O·M·J·费希尔;C·A·霍根达姆;A·T·M·J·M·休伊辛加;J·M·M·罗弗斯;E·P-Y·文纳特;M·W·J·E·维杰克曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-02-15 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种承载装置，被布置成相对于设备的第二部分在竖直方向上支撑设备的第一部分，承载装置包括磁性重力补偿器。磁性重力补偿器包括：第一永磁体组件，被安装到第一部分和第二部分中的一个部分并且包括永磁体的至少第一列，第一列在竖直方向上延伸，其中永磁体具有在第一水平方向上或在与第一水平方向相反的第二水平方向上的极化方向，其中竖直相邻的永磁体具有相反的极化方向；第二永磁体组件，安装到第一部分和第二部分中的另一个部分，并且包括永磁体的至少另一列，至少另一列在竖直方向上延伸，其中至少另一列的竖直相邻的永磁体在第一水平方向或第二水平方向上具有相反的极化方向，其中第一永磁体组件至少部分地包围第二永磁体组件。
承载装置磁性重力补偿振动隔离系统光刻设备控制具有刚度方法以及弹簧

[发明专利]电子系统、加速度计、校准方法、光刻设备和器件制造方法-CN202080012377.2在审
发明人： H·巴特勒;B·詹森;C·A·L·德霍恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-01-03 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： G01P15/09 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子系统，所述电子系统用于具有压电元件和第一机械共振频率的加速度计，所述电子系统包括：a)阻尼电路，所述阻尼电路被配置成：‑接收来自所述压电元件的加速度信号，‑以电学方式使所述第一机械共振频率的振幅减幅；以及‑产生经减幅的加速度信号，b)扩展器，所述扩展器被配置成：‑接收经减幅的加速度信号；‑扩展频率响应；以及‑输出经扩展的经减幅的加速度信号，其中所述扩展器被配置成具有与经减幅的第一机械共振频率相匹配的第一电子反共振频率，并且被配置成具有介于所述第一电子反共振频率与更高的第二频率之间的、与所述加速度计和所述阻尼电路的组合的相对应的频率响应大致相反的频率响应。
电子系统加速度计校准方法光刻设备器件制造

[发明专利]光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法-CN201780045432.6有效
发明人： H·巴特勒;B·M·古伯特;E·R·鲁普斯特拉;M·W·J·E·威吉克曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2017-06-16 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻设备，包括：‑基部框架(10)，适于将所述光刻设备(1)安装在支撑表面(9)上；‑投影系统(20)，所述投影系统包括：‑力框架(30)，‑光学元件(21)，所述光学元件能够相对于所述力框架移动，‑传感器框架(40)，所述传感器框架与所述力框架分开，‑至少一个传感器，适于监测所述光学元件，包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件(25)，‑力框架支撑件(31)，适于支撑在所述基部框架上的力框架，‑中间框架(45)，所述中间框架与所述力框架分开，‑传感器框架联接器(41)，适于将所述传感器框架耦接到所述中间框架，‑中间框架支撑件(46)，所述中间框架支撑件与所述力框架支撑件分开并且适于支撑位于所述基部框架上的所述中间框架。
光刻设备投影设备器件制造方法

[发明专利]具有主动式底架支撑件的光刻设备-CN202110397458.5在审
发明人： H·巴特勒;B·H·M·布克基马;C·A·L·德霍恩;M·W·J·E·威吉克曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：构造成形成光刻设备的支撑结构的底架、布置在底架与地板之间的主动式底架支撑件。该主动式底架支撑件配置成在底板上支撑底架。该主动式底架支撑件包括致动器，该致动器配置成在底架与地面之间沿水平方向施加力。该光刻设备还包括控制装置，该控制装置配置成驱动致动器，表示该底架上的扰动力的信号被提供至控制装置，该控制装置配置成使用力传感器信号来驱动致动器。
具有主动底架支撑光刻设备

[发明专利]光刻设备和操作光刻设备的方法-CN202110161152.X在审
发明人：金原淳一;H·巴特勒;P·C·H·德威特;E·A·F·范德帕斯奇 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-09-30 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第―衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。
光刻设备操作方法

[发明专利]光刻装置-CN201780032309.0有效
发明人： H·巴特勒;E·A·F·范德帕施;P·C·H·德威特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-04-20 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供了一种光刻装置，其包括衬底台(WT)、投影系统(PS)、编码器系统(210)、测量框架(220)和测量系统(230)。衬底台具有用于保持衬底(W)的保持表面(200)。投影系统用于在衬底上投影图像。编码器系统用于提供表示衬底台的位置的信号。测量系统用于测量光刻装置的性质。保持表面是沿着平面(240)的。投影系统位于平面的第一侧。测量框架被布置为在平面的不同于第一侧的第二侧支撑编码器系统的至少一部分和测量系统的至少一部分。
光刻装置

[发明专利]定位系统、用于定位的方法、光刻设备及器件制造方法-CN201780048911.3有效
发明人： H·巴特勒;W·西门斯;B·詹森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-06-29 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种定位系统，所述定位系统包括第一主体、第二主体、布置在第一主体和第二主体之间的致动器以相对于第二主体定位第一主体；其中所述致动器包括串联布置的第一压电致动器和第二压电致动器，其中第一压电致动器具有第一迟滞，其中第二压电致动器具有第二迟滞，所述第二迟滞小于第一迟滞，其中第二压电致动器具有至少等于第一迟滞的定位范围。
定位系统用于方法光刻设备器件制造

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