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[发明专利]掩模组件-CN202211280390.3在审
发明人： M·克鲁兹恩卡;马尔滕·M·M·詹森;约根·M·阿泽雷L;埃里克·W·博加特;德克·S·G·布龙;马克·布鲁因;理查德·J·布鲁尔斯;J·德克尔斯;保罗·詹森;穆罕默德·R·卡迈利;R·H·G·克莱默;R·G·M·兰斯博根;M·H·A·里恩德尔斯;马太·利普森;E·R·鲁普斯特拉;约瑟夫·H·莱昂斯;S·鲁;G·范德博世;S·范德黑坎特;S·范德格拉夫;F·范德穆伦;J·F·S·V·范罗;B·L·M-J·K·韦伯罗根 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2015-11-16 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
模组

[发明专利]掩模组件-CN201580062446.X有效
发明人： M·克鲁兹恩卡;马尔滕·M·M·詹森;约根·M·阿泽雷L;埃里克·W·博加特;德克·S·G·布龙;马克·布鲁因;理查德·J·布鲁尔斯;J·德克尔斯;保罗·詹森;穆罕默德·R·卡迈利;R·H·G·克莱默;R·G·M·兰斯博根;M·H·A·里恩德尔斯;马太·利普森;E·R·鲁普斯特拉;约瑟夫·H·莱昂斯;S·鲁;G·范德博世;S·范德黑坎特;S·范德格拉夫;F·范德穆伦;J·F·S·V·范罗;B·L·M-J·K·韦伯罗根 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2015-11-16 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
模组

[发明专利]辐射系统-CN201680013084.X有效
发明人： H-K·尼恩惠斯;埃里克·W·博加特;R·L·唐克;B·克鲁兹卡;E·R·鲁普斯特拉;H·博特马;G·C·德弗里斯;O·W·V·弗吉恩斯;J·J·M·巴塞曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-02-16 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辐射系统包括：分束设备，配置成接收主辐射束且将所述主辐射束分成多个分支辐射束；和辐射更改装置，布置成接收输入辐射束且输出修改后的辐射束，其中所述辐射更改装置配置成提供输出的修改后的辐射束，所述输出的修改后的辐射束在与所述所接收的输入辐射束相比较时具有增加的集光率，其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束为主辐射束，且所述辐射更改装置配置成将修改后的主辐射束提供至所述分束设备，或其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束是从所述分束设备输出的分支辐射束。
辐射系统

[发明专利]光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法-CN201780045432.6有效
发明人： H·巴特勒;B·M·古伯特;E·R·鲁普斯特拉;M·W·J·E·威吉克曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2017-06-16 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻设备，包括：‑基部框架(10)，适于将所述光刻设备(1)安装在支撑表面(9)上；‑投影系统(20)，所述投影系统包括：‑力框架(30)，‑光学元件(21)，所述光学元件能够相对于所述力框架移动，‑传感器框架(40)，所述传感器框架与所述力框架分开，‑至少一个传感器，适于监测所述光学元件，包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件(25)，‑力框架支撑件(31)，适于支撑在所述基部框架上的力框架，‑中间框架(45)，所述中间框架与所述力框架分开，‑传感器框架联接器(41)，适于将所述传感器框架耦接到所述中间框架，‑中间框架支撑件(46)，所述中间框架支撑件与所述力框架支撑件分开并且适于支撑位于所述基部框架上的所述中间框架。
光刻设备投影设备器件制造方法

[发明专利]辐射束设备-CN201580063807.2有效
发明人： J·德克尔斯;H-K·尼恩惠斯;M·J·M·林肯斯;J·A·G·阿克曼斯;G·C·德弗里斯;E·R·鲁普斯特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-11-10 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种可调整衍射光栅包括：光学元件和变形机构。光学元件具有用于接收输入辐射束的光学表面。光学元件设置有在光学表面下方的多个闭合通道，在每一闭合通道上方，光学表面由材料薄膜形成。变形机构包括一个或多个致动器，所述一个或多个致动器可操作以使在闭合通道上的薄膜变形，以便控制光学表面的形状和在光学表面上形成周期性结构，所述周期性结构用作衍射光栅使得输入辐射束从光学元件衍射以形成多个角分离的子束。
辐射设备

[发明专利]用于EUV的自由电子激光器辐射源-CN201580043627.8有效
发明人：安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫;T·J·克嫩;J·J·M·范海尔福尔特;W·J·恩格伦;G·J·H·布鲁斯阿德;G·G·波尔特;E·R·鲁普斯特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-07-27 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： H01S3/09 文献下载
摘要：协调了在电子聚束的加速阶段电子聚束穿过线性加速器(LINAC)与在电子聚束的减速阶段电子聚束穿过所述LINAC。根据重复电子聚束序列而将每个连续电子聚束对在时间上间隔开相应的聚束间隔。电子源在所述电子聚束序列中提供清除间隙以允许在波荡器处的离子的清除。所述电子源根据清除间隙序列而提供所述清除间隙，使得对于多个能量恢复LINAC中的每个和对于实质上所有所述清除间隙：对于在加速阶段或减速阶段中的所述清除间隙的每次穿过所述LINAC，协调了所述清除间隙与在减速阶段或加速阶段中穿过所述LINAC的所述清除间隙中的另外一个清除间隙，由此维持所述LINAC的能量恢复操作。
用于 euv 自由电子激光器辐射源

[发明专利]反射器-CN201580066792.5有效
发明人： H-K·尼恩惠斯;S·N·L·多纳斯;G·C·德弗里斯;M·J·M·林肯斯;E·R·鲁普斯特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-11-04 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种反射器(2)，包括由衬底(8)支撑的板(4)，其中所述板具有反射表面(5)，并且通过无粘合剂结合方式被固定在衬底上，并且其中冷却通道阵列(10)被设置在反射器中。冷却通道阵列的通道(16)可以由衬底的表面中的开口通道形成，所述开口通道被所述板封闭以形成通道。
反射器衬底开口通道冷却通道反射表面结合方式无粘合剂封闭支撑

[发明专利]掩模版台环境中的气流最优化-CN201480009319.9有效
发明人： K·库依皮尔斯;M·H·德安德里德奥利维拉;M·J·莱米;C·辛夫;L·J·A·凡鲍克霍文;H·A·J·W·范德文;J·N·小方塞卡;F·J·J·鲍克斯泰尔;D·N·伯班克;E·R·鲁普斯特拉;约翰内斯·昂伍李;M·J·舒斯特尔;R·N·J·范巴莱高吉;C·C·沃德;J·S·C·维斯特尔拉肯 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2014-02-20 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。
模版环境中的气流优化

[发明专利]辐射系统和光刻设备-CN201510142259.4在审
发明人： V·Y·班尼恩;E·R·鲁普斯特拉;V·V·伊万诺夫;V·M·克里夫特逊 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-04-30 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辐射系统，配置成产生辐射束。所述辐射系统包括：辐射源(50)，配置成产生发射辐射和碎片的等离子体；辐射收集器(70)，配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场，以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。
辐射系统光刻设备

[发明专利]光刻设备和方法-CN201210099754.8有效
发明人： E·R·鲁普斯特拉;S·派克德尔;H-K·尼恩惠斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-04-06 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备和方法。所述光刻设备包括投影系统，投影系统包括多个反射性光学元件。反射性光学元件中的一个设置有开口，所述开口穿过反射性光学元件。所述开口由覆盖层封闭，所述覆盖层对于EUV辐射基本上是透明的。覆盖层防止污染物进入到投影系统中，同时允许图案化的EUV辐射从投影系统通到衬底上。
光刻设备方法

[发明专利]光刻装置和器件制造方法-CN201110083335.0有效
发明人： J·洛夫;H·布特勒;S·N·L·当德斯;A·科勒斯辰科;E·R·鲁普斯特拉;H·J·M·梅杰;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;F·范沙克;T·F·森格斯;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里科克;E·T·M·比拉尔特;C·A·胡根达姆;H·范桑坦;M·A·范德科霍夫;M·克鲁恩;A·J·登博夫;J·J·奥坦斯;J·J·S·M·梅坦斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-06-09 - 公布日： 2011-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
光刻装置器件制造方法

[发明专利]辐射系统和光刻设备-CN200980134829.8无效
发明人： V·Y·班尼恩;E·R·鲁普斯特拉;V·V·伊万诺夫;V·M·克里夫特逊 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-04-30 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辐射系统，配置成产生辐射束。所述辐射系统包括：辐射源(50)，配置成产生发射辐射和碎片的等离子体；辐射收集器(70)，配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场，以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。
辐射系统光刻设备

[发明专利]辐射源、光刻设备和器件制造方法-CN200980131196.5有效
发明人： V·Y·巴尼内;E·R·鲁普斯特拉;J·H·J·莫尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-30 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备(1)，包括：辐射源(SO)，被配置成产生极紫外辐射，所述辐射源(SO)包括：腔(210)，在所述腔中产生等离子体(225)；收集器反射镜(270)，被配置以反射由所述等离子体(225)发射的辐射；和碎片减缓系统(230)，所述碎片减缓系统(230)包括：气体供给系统(235)，被配置以朝向所述等离子体供给第一气流(240)，所述第一气流(240)被选择以将由所述等离子体(225)产生的碎片热能化；和多个气体岐管(247)，被布置在靠近所述收集器反射镜(270)的位置处，所述气体岐管被配置成将第二气流(250)供给到所述腔(210)内，所述第二气流(250)被朝向所述等离子体(225)引导，以防止被热能化的碎片沉积到所述收集器反射镜(270)上。
辐射源光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻设备和图案形成装置-CN201010525965.4有效
发明人： H·巴特勒;E·R·鲁普斯特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-10-27 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备和图案形成装置，光刻设备包括：照射系统，配置以调节辐射束；支撑件，构造以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在其横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造以保持衬底；和投影系统，配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上。所述光刻设备还包括投影传递测量布置，以测量投影系统的光学投影传递信息。投影传递测量布置包括：光学装置，在扫描移动期间将测量束引导到投影系统；探测器，在扫描移动期间探测已经穿过所述投影系统的所述测量束；和测量处理装置，根据所探测的测量束确定光学投影传递信息。所述光学装置和所述探测器被布置在所述投影系统的上游端。
光刻设备图案形成装置

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201010186587.1有效
发明人： T·P·M·卡迪;J·H·W·贾科布斯;N·坦卡特;E·R·鲁普斯特拉;A·L·H·J·范米尔;J·J·S·M·梅坦斯;C·G·M·德莫;M·J·E·H·米特詹斯;A·J·范德内特;J·J·奥坦斯;J·A·夸伊达克斯;M·E·鲁曼-休斯肯;M·K·斯塔温加;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;F·E·德荣格;K·戈尔曼;B·门奇奇科夫;H·博姆;S·尼蒂亚诺夫;R·莫尔曼;M·F·P·斯米特斯;B·L·P·小恩德马克;F·J·J·詹斯森;M·里伊彭 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-08-12 - 公布日： 2010-12-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
光刻设备器件制造方法

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