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[发明专利]纳米复合正型光敏性组合物及其用途-CN201280052881.0无效
发明人：卢炳宏;陈春伟;S·梅耶 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2012-10-31 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及适合于作为正型光致抗蚀剂成像式曝光和显影的正型光敏性组合物，该组合物包含正型光致抗蚀剂组合物和具有等于或大于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料，其中由所述组合物形成的光致抗蚀剂涂膜的厚度优选小于5微米。所述正型光致抗蚀剂组合物可以选自(1)包含如下组分的组合物：(i)具有酸不稳定基团的成膜树脂，和(ii)光酸产生剂，或(2)包含如下组分的组合物：(i)成膜酚醛清漆树脂，和(ii)光活性化合物，或(3)包含如下组分的组合物：(i)成膜树脂，(ii)光酸产生剂和(iii)溶解抑制剂。本发明还涉及使用所述新型光敏性组合物形成图像的方法。
纳米复合光敏组合及其用途

[发明专利]纳米复合负型光敏性组合物及其用途-CN201280052880.6无效
发明人：卢炳宏;陈春伟;S·梅耶 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2012-10-31 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及适合于作为负型光致抗蚀剂成像式曝光和显影的负型光敏性组合物，所述组合物包含负型光致抗蚀剂组合物和具有等于或大于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料，其中由所述组合物形成的光致抗蚀剂涂膜的厚度优选小于5μm。所述负型光致抗蚀剂组合物选自(1)包含如下组分的组合物：(i)树脂粘结剂、(ii)光酸产生剂和(iii)交联剂；或(2)包含如下组分的组合物：(i)树脂粘结剂、(ii)任选地，一种或多种可加成聚合的烯属不饱和化合物和(iii)光敏引发剂；或(3)包含如下组分的组合物：(i)含至少两个不饱和侧基的可光致聚合化合物；(ii)一种或多种烯属不饱和可光致聚合的聚氧化烯亲水性化合物和(iii)光敏引发剂。本发明还涉及使用所述新型光敏性组合物形成图像的方法。
纳米复合光敏组合及其用途

[发明专利]用于定向自组装嵌段共聚物的中性层组合物及其方法-CN201280044486.8有效
发明人：吴恒鹏;曹毅;洪圣恩;殷建;M·波内斯丘;M·O·尼斯尔;林观阳 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2012-09-21 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： C08L53/00 文献下载
摘要：本发明涉及新的中性层组合物和使用该中性层组合物来对定向自组装嵌段共聚物(BCP)的微畴进行对准的方法。该组合物和方法可用于制作电子装置。该中性层组合物包含至少一种无规共聚物，其具有至少一个结构单元(1)、至少一个结构单元(2)和至少一个结构单元(3)其中R₁选自C₁-C₈烷基、C₁-C₈氟烷基部分、C₁-C₈部分氟化的烷基、C₄-C₈环烷基、C₄-C₈环氟烷基、C₄-C₈部分氟化的环烷基和C₂-C₈羟基烷基；R₂、R₃和R₅独立的选自H、C₁-C₄烷基、CF₃和F；R₄选自H、C₁-C₈烷基、C₁-C₈部分氟化的烷基和C₁-C₈氟烷基，n是1-5，R₆选自H、F、C₁-C₈烷基和C₁-C₈氟烷基和m是1-3。
用于定向组装共聚物中性组合及其方法

[发明专利]底层组合物及其方法-CN201280026263.9有效
发明人：姚晖蓉;林观阳;Z·博格斯;卢炳宏;金羽圭;M·O·奈瑟 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2012-06-18 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： C08K5/00 文献下载
摘要：本发明涉及包括聚合物、有机钛酸酯化合物和任选的热酸发生剂的底层组合物，其中该聚合物包括至少一个氟代醇基和至少一个环氧基。本发明还涉及使用该底层材料作为抗反射涂料组合物和/或图案转移用硬掩模的方法。
底层组合及其方法

[发明专利]抗反射涂层组合物及其方法-CN201280015041.7有效
发明人： M·D·拉赫曼;D·麦肯齐;单槛会;J·赵;S·K·穆伦;C·阿尼亚安迪格乌 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2012-03-27 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： C08G61/02 文献下载
摘要：本发明涉及抗反射涂层组合物，包含交联剂和能够通过该交联剂交联的可交联的聚合物，其中该可交联的聚合物包含结构(1)表示的单元，其中A是稠合芳环，B具有结构(2)，以及C是结构(3)的羟基联苯，(2)和(3)，其中R₁是C₁-C₄烷基且R₂是C₁-C₄烷基。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。
反射涂层组合及其方法

[发明专利]底层涂料组合物及制造微电子器件的方法-CN201280005810.5有效
发明人：姚晖蓉;Z·博格斯;林观阳;M·O·奈瑟 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2012-02-07 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及包括聚合物的底层涂料组合物，其中该聚合物包含在该聚合物主链中的至少一个具有包含氟或碘部分的侧基的羟基芳香族单元和至少一个包含氨基塑料的单元。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法，尤其用于EUV。
底层涂料组合制造微电子器件方法

[发明专利]抗反射涂料组合物-CN201310254286.1无效
发明人：金羽圭;吴恒鹏;D·J·阿布达拉;M·内瑟;卢炳宏;张汝志;M·D·拉曼 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2007-10-15 - 公布日： 2013-10-16 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及抗反射涂料组合物，其包含（i）热致酸产生剂；（ii）包含至少一种芳族基团的可交联聚合物；和（iii）包含至少一种结构（6）单元的聚合物型交联剂，其中R₁₁-R₁₃独立地选自H、（C₁-C₆）烷基和芳族基团，R₁₄和R₁₅独立地是（C₁-C₁₀）烷基。本发明还涉及使本发明抗反射涂料组合物成像的方法。
反射涂料组合

[发明专利]在光刻胶图案上涂覆的组合物-CN201180036748.1有效
发明人：吴恒鹏;李猛;曹毅;殷建;李东官;洪圣恩;M·鲍内斯库 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2011-07-27 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： C09D183/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在光刻胶图案上涂覆的水性组合物，包括含有至少1个硅部分和至少1个氨基的水溶性化合物，和含有至少1个羧基的第二化合物。本发明进一步涉及使用该新型发明的方法。
光刻图案上涂覆组合

[发明专利]抗反射涂料组合物和制造微电子器件的方法-CN201180027257.0有效
发明人：姚晖蓉;殷建;林观阳;M·O·奈塞尔;D·J·阿卜杜拉 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2011-06-01 - 公布日： 2013-02-20 - 主分类号： G02B1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含第一聚合物和第二聚合物的混合物以及热酸产生剂，其中第一聚合物包含至少一个氟代醇部分、至少一个脂肪族羟基部分和至少一个不同于氟代醇的pKa范围在约8-约11的酸部分；其中第二聚合物是氨基塑料化合物与包含至少一个羟基和/或至少一个酸基的化合物的反应产物。本发明进一步涉及一种采用该新型组合物成像的方法。
反射涂料组合制造微电子器件方法

[发明专利]正性操作的可光成像的底部抗反射涂层-CN201210393108.2有效
发明人：隋郁;吴恒鹏;康文兵;M·O·那斯尔;片山朋英;S·S·丁-李;菱田有高;J·E·欧博兰德;M·A·托克西 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2005-03-23 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及正性操作的可光成像的底部抗反射涂层。正性底部可光成像的抗反射涂料组合物能在含水碱性显影剂内显影，其中该抗反射涂料组合物包括含至少一种带生色团的重复单元和一种带羟基和/或羧基的重复单元的聚合物，乙烯基醚封端的交联剂，和任选地光致产酸剂和/或酸和/或热致产酸剂。本发明进一步涉及使用这种组合物的方法。
操作成像底部反射涂层

[发明专利]用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物-CN201210229074.3有效
发明人：工藤隆范;M·帕德曼纳班;R·R·达莫尔 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2005-10-25 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含氨基的聚合物。本发明还涉及微电子元件的制造方法，包括：提供具有光致抗蚀剂图案的衬底，用新型涂料涂覆所述光致抗蚀剂图案，让与所述光致抗蚀剂图案接触的涂料的一部分反应，和将没有与移除溶液反应的涂料的一部分除去。
用于光致抗蚀剂图案上涂覆组合

[发明专利]抗反射组合物及其使用方法-CN201180007899.4有效
发明人：姚晖蓉;林观阳;单槛会;赵俊衍;S·K·马伦 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2011-02-17 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供了新型抗反射涂料组合物，所述抗反射涂料组合物包含a）式1的化合物，b）热酸产生剂，（c）至少一种聚合物，（式1）（I），其中U₁和U₂独立地是C₁-C₁₀亚烷基；V选自C₁-C₁₀亚烷基、亚芳基和芳族亚烷基；W选自H、C₁-C₁₀烷基、芳基、烷芳基和V-OH；Y选自H、W和U₃C（O）OW，其中U₃独立地是C₁-C₁₀亚烷基，m是1-10。还提供了使用所述组合物作为光刻方法中的基材的抗反射涂料的方法。
反射组合及其使用方法

[发明专利]抗反射涂料组合物及其工艺方法-CN201080054063.5有效
发明人： M·D·拉赫曼;D·麦肯齐;姚晖蓉;赵俊衍;易毅;林观阳 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2010-12-23 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： C09D165/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种抗反射涂料组合物，含有交联剂和能够通过所述交联剂被交联的可交联聚合物，其中所述可交联聚合物含有结构式(1)所表示的单元，其中A是稠合的芳环，B具有结构式(2)，其中R₁是C₁-C₄烷基，R₂是C₁-C₄烷基。本发明进一步涉及一种使用该组合物形成图像的方法。
反射涂料组合及其工艺方法

[发明专利]抗反射光致抗蚀剂组合物-CN201080045299.2有效
发明人：姚晖蓉;林观阳;M·O·奈塞尔 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2010-10-29 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C09D167/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构1单元，(结构式I)(I)其中，X是连接部分，其选自非芳族的(A)组成部分，芳族(P)组成部分及其混合物，R′是结构(2)的基团，R″独立地选自氢，结构(2)的组成部分，Z以及W-OH，其中Z是(C₁-C₂₀)烃基组成部分以及W是(C₁-C₂₀)亚烃基连接部分，以及，Y′独立地是(C_1-C₂₀)亚烃基连接部分，其中结构(2)是(结构式II)(II)其中R₁以及R₂独立地选自H以及C₁-C₄烷基以及L是有机烃基。此外本发明涉及使该抗反射涂料组合物成像的方法。
反射光致抗蚀剂组合

[发明专利]正性作用的可光成像底部抗反射涂层-CN200980161858.3无效
发明人： R·R·达梅尔;S·查克拉帕尼;M·帕德马纳班;宫崎真治;E·W·额;工藤隆范;A·D·迪奥赛斯;F·M·霍利亨 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2009-11-12 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及正性底部可光成像抗反射涂料组合物，其能在含水碱性显影剂中显影，其中该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种具有发色团的重复单元以及一种具有羟基和/或羧基的重复单元，结构(7)的乙烯基醚封端交联剂，还任选，光致酸产生剂和/或酸和/或热致酸产生剂，其中结构(7)是，其中W选自(C1-C30)直链、支链或者环状的烷基组成部分，取代的或者未被取代的(C3-C40)脂环烃组成部分以及取代的或者未被取代的(C3-C40)环烷基亚烷基组成部分；R选自C1-C10直链或者支链亚烷基以及n＞2。本发明还涉及使用上述组合物的方法。
作用成像底部反射涂层

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