专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种陶瓷材料喷涂系统-CN202222554505.5有效
  • 韩刚库;王改良 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2022-09-27 - 2023-06-23 - B05B13/02
  • 本实用新型涉及一种陶瓷材料喷涂系统,包括驱动台,所述驱动台的上侧设置有两处支架,两处所述支架的中间安装有固定辊,所述固定辊的两端安装有防护罩,所述固定辊外侧的中部安装有工件,所述工件的侧部分别安装有等离子枪和位置传感器,所述等离子枪的侧部安装有导料阀。本实用新型一种陶瓷材料喷涂系统,通过在喷涂工序的一侧安装位置传感器,可以对工件的移动位置进行把控,通过在等离子枪和输料管的中间设置导料阀、回料管和回料桶,当工件的端部移动等离子枪的位置时,利用相关控制系统对导料阀的控制,可以使物料由喷涂状态切换为进入到回料桶内部的状态,能够有效节约喷涂原料,从而降低加工成本。
  • 一种陶瓷材料喷涂系统
  • [实用新型]一种靶材喷涂设备-CN202222629785.1有效
  • 韩刚库;王改良 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2022-10-08 - 2023-05-02 - C23C4/129
  • 本实用新型涉及一种靶材喷涂设备,包括支架一,所述同步带移动模组安装在支架一上,所述驱动电机一与同步带移动模组连接,所述驱动电机二安装在同步带移动模组上,所述腔体的底部安装有支架二,所述侧门安装在腔体的一侧,所述腔体的内部安装有轨道,所述轨道上安装有滚动支架,所述靶材通过固定支架安装在滚动支架上,所述腔体的顶端安装有顶盖,所述等离子枪系统、挡板安装在顶盖上,所述腔体的底部安装有吸尘管,所述控制柜安装在支架二的外壁上,本实用新型一种靶材喷涂设备,通过在等离子枪系统的两侧安装挡板,对等离子枪系统起到遮挡作用,减少材料的浪费,提高材料利用率和生产效率,减少浪费。
  • 一种喷涂设备
  • [实用新型]一种靶材模管内壁清洁装置-CN202222542162.0有效
  • 韩刚库;王改良 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2022-09-26 - 2023-03-24 - B08B9/047
  • 本实用新型涉及一种靶材模管内壁清洁装置,包括机架,所述机架的内部滑动连接有移动台,所述机架和所述移动台之间安装有驱动装置,所述移动台的上侧安装有支架,所述支架的上侧安装有模管,所述机架上侧的左端安装有减速电机,所述减速电机的前端安装有清洁杆,所述清洁杆的前端安装有与所述模管内壁滚动配合的清洁头。本实用新型一种靶材模管内壁清洁装置,通过在装置内部设置由移动台、驱动装置组成的模管往复移动装置,在装置的左方设置由减速电机、清洁杆和清洁头组成的清洁头转动装置,利用二者的配合,可以对模管的内部进行快速清洁,不仅降低了操作人员的劳动强度,还提升了装置的安全性。
  • 一种靶材模管内壁清洁装置
  • [实用新型]一种喷砂电弧喷涂一体机-CN202220029850.4有效
  • 蒋宏翔;韩刚库 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2022-01-07 - 2022-08-02 - B24C3/02
  • 本实用新型涉及一种喷砂电弧喷涂一体机,包括机体,所述机体内下部的中间设有工作仓,所述机体内下部的左方设有第一休息仓,所述工作仓和所述第一休息仓的中间设置有第一门体,所述机体内下部的右方设有第二休息仓,所述工作仓和所述第二休息仓的中间设置有第二门体,所述工作仓内的底部安装有支撑台,所述支撑台上侧的左端安装有固定回转座;本实用新型一种喷砂电弧喷涂一体机,通过在机体内的上方设置两处第二滑座,并在第二滑座的前侧分别安装喷砂二轴机械手和电弧二轴机械手,将喷砂机和电弧喷涂机整合在一个装置的内部,无需再对工件进行两道工序之间的转运,不仅提升了工件的加工效率,还可以使工件的表面免受污染。
  • 一种喷砂电弧喷涂一体机
  • [发明专利]一种导电金属氧化物靶材制备工艺-CN202111292657.6在审
  • 蔺裕平;韩刚库 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2021-11-03 - 2022-03-15 - C23C14/35
  • 本发明一种导电金属氧化物靶材制备工艺,所述工艺步骤为:步骤1、选料:准备好Zn锭和Sn锭;步骤2、融化:Zn锭和Sn锭加热升温至400‑500℃融化,并采用电磁搅拌技术搅拌1‑2小时;步骤3、金属雾化:采用金属雾化工艺将步骤2中的熔融的金属合金制备成粉末状颗粒,粉末状颗为表面为氧化锌锡涂层、中心为ZnSn合金的球形颗粒;步骤4、筛分:从步骤3中的粉末状颗粒筛选出粒径为40~120um的球形颗粒作为粉料;步骤5、喷涂:采用等离子喷涂工艺,将步骤4中的粉料喷涂形成靶材。本发明一种导电金属氧化物靶材制备工艺,能够采用磁控溅射制备氧化锌锡膜层,从而提高其镀膜工艺效率。
  • 一种导电金属氧化物制备工艺
  • [实用新型]一种低真空氛围靶材制备系统-CN201922414210.6有效
  • 蔺裕平;韩刚库 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2019-12-27 - 2021-05-28 - C23C4/134
  • 本实用新型一种低真空氛围靶材制备系统,喷涂密封舱(101)内安装有靶材驱动总成;靶材驱动总成包含有位于喷涂密封舱(101)底面上的滑轨(302),有一滑板(301)滑动行走于滑轨(302)上,所述滑板(301)的右端竖向固定设置有右端板(401),左端板(402)竖向固定设置于移动板(403)上,靶材(1)的两端通过端头夹持件(2)分别架设于右端板(401)和左端板(402)上,安装于滑板(301)上的旋转电机(405)经端头夹持件(2)驱动靶材(1)旋转。本实用新型一种低真空氛围靶材制备系统,其能够在真空环境下进行喷涂,从而保证靶材的喷涂质量。
  • 一种真空氛围制备系统
  • [实用新型]一种高密度金属靶材制备系统-CN201922413467.X有效
  • 蔺裕平;韩刚库 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-10-09 - C23C4/134
  • 本实用新型一种高密度金属靶材制备系统,包含有靶材驱动总成,滑板(301)滑动行走于滑轨(302)上,滑移电机(304)驱动丝杆(303)旋转;所述滑板(301)的右端竖向固定设置有右端板(401),左端板(402)竖向固定设置于移动板(403)上,所述移动板(403)滑动设置于移动滑轨(404)上,移动滑轨(404)位于滑板(301)上,靶材(1)的两端通过端头夹持件(2)分别架设于右端板(401)和左端板(402)上,安装于滑板(301)上的旋转电机(405)经端头夹持件(2)驱动靶材(1)旋转。本实用新型一种高密度金属靶材制备方式,其采用喷涂方式取代常规的铸造方式,从而节约材料且保证靶材的喷涂质量。
  • 一种高密度金属制备系统
  • [发明专利]一种高均匀性导电硅靶材制备工艺-CN201911380867.3在审
  • 蔺裕平;韩刚库 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-04-28 - C23C4/04
  • 本发明一种高均匀性导电硅靶材制备工艺,步骤一:备料:按照硼浓度含量为20~200ppm的配比放入高纯硅粉和硼粉;步骤二:研磨:使用机械球磨机对步骤一种的混合料进行球磨;步骤三:喷雾造粒:将步骤二研磨后的粒度为1~10um的粉末导入喷雾造粒干燥机进行造粒,获得粒度为40~160um的球形磨粉;步骤四:真空喷涂:将步骤三获取的球形磨粉在低真空环境下利用等离子喷涂方式喷涂在靶材基材表面。本发明一种高均匀性导电硅靶材制备工艺,其有效的提高了靶材的质量,且降低了成本。
  • 一种均匀导电硅靶材制备工艺
  • [发明专利]一种低真空氛围靶材制备工艺-CN201911380195.6在审
  • 蔺裕平;韩刚库 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-04-24 - C23C4/134
  • 本发明一种低真空氛围靶材制备工艺,所述工艺为:将靶材(1)放置于靶材驱动总成上后,先对喷涂密封舱(101)抽真空使得舱内形成真空值低于0.1Pa的密闭真空环境;随后,靶材驱动总成启动,驱动靶材旋转的同时进行左右平移,与此同时,等离子喷枪系统(201)的喷枪开始喷涂对靶材(1)进行喷涂;且在喷涂过程中,粉尘传感器(105)将粉尘浓度传递至处理器,处理器控制除尘净化器(104)的伺服电机保证与之匹配的除尘频率。本发明一种低真空氛围靶材制备工艺,其能够在真空环境下进行喷涂,从而保证靶材的喷涂质量。
  • 一种真空氛围制备工艺
  • [发明专利]一种高密度金属靶材制备工艺-CN201911377170.0在审
  • 蔺裕平;韩刚库 - 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-04-14 - C23C4/134
  • 本发明一种高密度金属靶材制备工艺,所述工艺为:将靶材(1)放置于靶材驱动总成上后,先对喷涂密封舱(101)抽真空使得舱内形成压力为2Pa的密闭真空环境;随后,靶材驱动总成启动,驱动靶材旋转的同时进行左右平移,与此同时,等离子喷枪系统(201)的喷枪开始喷涂对靶材(1)进行喷涂;且在喷涂过程中,红外温度传感器(106)对靶材(1)的表面温度实时监测,当温度偏离设定点时,等离子喷枪系统(201)的功率以及其供丝速度随之调整,从而让靶材(1)的表面始终保持微熔状态。本发明一种高密度金属靶材制备工艺,其能够在真空环境下进行喷涂,从而保证靶材的喷涂质量。
  • 一种高密度金属制备工艺

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