[发明专利]一种低真空氛围靶材制备工艺在审

专利信息
申请号: 201911380195.6 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111057989A 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 蔺裕平;韩刚库 申请(专利权)人: 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
主分类号: C23C4/134 分类号: C23C4/134;C23C4/137
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 王凯
地址: 214437 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明一种低真空氛围靶材制备工艺,所述工艺为:将靶材(1)放置于靶材驱动总成上后,先对喷涂密封舱(101)抽真空使得舱内形成真空值低于0.1Pa的密闭真空环境;随后,靶材驱动总成启动,驱动靶材旋转的同时进行左右平移,与此同时,等离子喷枪系统(201)的喷枪开始喷涂对靶材(1)进行喷涂;且在喷涂过程中,粉尘传感器(105)将粉尘浓度传递至处理器,处理器控制除尘净化器(104)的伺服电机保证与之匹配的除尘频率。本发明一种低真空氛围靶材制备工艺,其能够在真空环境下进行喷涂,从而保证靶材的喷涂质量。
搜索关键词: 一种 真空 氛围 制备 工艺
【主权项】:
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