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- [发明专利]可燃气体处理装置-CN202110356263.6有效
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李岑;闫晓腾;韩子迦
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2021-04-01
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2023-07-11
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F23G7/06
- 本发明提供一种可燃气体处理装置,用于对工艺腔室排放的工艺废气中的可燃气体进行处理,可燃气体处理装置包括燃烧腔室和吸收存储腔室,其中,燃烧腔室用于连通工艺腔室和吸收存储腔室;燃烧腔室内设有高温燃烧组件,高温燃烧组件用于使排放至燃烧腔室中的工艺废气中的可燃气体燃烧,燃烧后的工艺废气进入吸收存储腔室中;吸收存储腔室的制作材料能够吸收并存储燃烧后的工艺废气中的可燃气体,且吸收存储腔室上设置有第一排气结构,第一排气结构用于将未经吸收存储的工艺废气排放。本发明提供的可燃气体处理装置,能够降低可燃气体排放到外界的量,降低工艺污染,提高工艺安全性。
- 可燃气体处理装置
- [发明专利]半导体工艺设备的尾气处理装置-CN202011248286.7有效
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闫晓腾;杨帅;杨慧萍
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2020-11-10
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2023-06-16
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F23G7/06
- 本申请公开一种半导体工艺设备的尾气处理装置,所公开的尾气处理装置中:加热装置设置于壳体内,且第一容纳空间和第二容纳空间通过加热装置连通,壳体设置有出口部,出口部与第一容纳空间连通,且加热装置的出口朝向第一容纳空间,气压调节装置设置于加热装置的出口处,以调节加热装置和第一容纳空间二者的气压差;加热装置的入口朝向第二容纳空间,尾气进气装置的出气口位于第二容纳空间内,且与加热装置的入口相对设置,尾气进气装置的进气口位于壳体外,第二容纳空间通过空气进气量调节装置与壳体外连通,以调节进入第二容纳空间中空气的进气量。上述方案能够解决目前的尾气处理装置存在空气进气量以及进出口压差均不可调节的问题。
- 半导体工艺设备尾气处理装置
- [发明专利]半导体工艺炉-CN202111401340.1在审
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闫晓腾;杨帅;杨慧萍
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2021-11-19
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2022-03-08
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H01L21/67
- 本申请公开一种半导体工艺炉,其包括炉管和送气组件,所述送气组件包括:进气管、多个送气管和多个环状匀流件,所述进气管一端设有进气口,多个所述送气管的一端均与所述进气管的另一端连通,各所述送气管的另一端均设有送气口,多个所述送气口沿所述炉管的轴向间隔设置;各所述环状匀流件均设置于所述炉管的内部,且沿所述炉管的轴向间隔设置,所述环状匀流件内设置有匀流腔,其上间隔分布有多个匀流孔,多个所述送气口与多个所述环状匀流件的所述匀流腔一一对应地连通。上述半导体工艺炉能够解决因目前工艺炉中工艺气体分布不均匀导致部分晶圆的工艺效果较差的问题。
- 半导体工艺
- [发明专利]一种用于建筑外墙攀爬用的爬梯-CN202010661546.7有效
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楼和根
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安徽冠纵建筑有限公司;闫晓腾
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2020-07-10
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2021-12-10
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E06C9/08
- 本发明属于爬梯技术领域,尤其涉及一种用于建筑外墙攀爬用的爬梯,它包括爬梯本体、安装杆,其中爬梯本体通过多个从上到下均匀分布的安装杆安装在墙体上;本发明设计的爬梯,如果在攀爬过程中,如果攀爬者不小心掉落后,对应的梯架就会失去攀爬者施加的压力,在对应复位弹簧的作用下上移,梯架上带动限位杆上移,使得限位杆解除对对应限位卡板的限位,对应的防摔半圆板下摆,与对应爬梯单元中的护栏下端配合;对下摔者起到保护作用。如果摔下的人不能自己站起时,此时就需要有人从下侧爬到触发后的防摔半圆板的下侧,打开防摔半圆板,然后从打开后的摆板处爬上,将摔下的人救出。
- 一种用于建筑外墙攀爬爬梯
- [发明专利]半导体设备的门结构-CN202011304449.9在审
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闫晓腾;程晨;杨帅;韩子迦
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2020-11-19
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2021-02-05
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H01L21/67
- 本发明提供一种半导体设备的门结构,门框组件包括转动连接件、通过转动连接件与半导体设备主体可转动连接的第一支架、与第一支架相对设置并通过第一驱动机构与半导体设备主体连接的第二支架、设置在第一支架和第二支架之间并与二者连接的导轨、可驱动第二支架靠近或远离半导体设备主体的第一驱动机构;门体组件包括移动连接件、通过移动连接件可移动设置在导轨上的门体、设置在第一支架或第二支架上并与门体或移动连接件连接可驱动门体沿导轨移动的第二驱动机构。本发明提供的半导体设备的门结构能够提高门结构开关的便捷性,并能够任意调节门体对半导体设备主体的压力,提高门结构的适应性,且能够降低门体的损坏概率,提高门结构的使用稳定性。
- 半导体设备结构
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