专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种可调倍率双远心投影光学系统-CN202310600377.X在审
  • 霍大云;奚芳芳;郭宇涵 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2023-05-25 - 2023-09-26 - G02B27/18
  • 本发明的可变倍率投影光学系统为双远心光路,沿其光轴方向包括前透镜组、孔径光阑和后透镜组,所述前透镜群组包括从物方至像方依次设置:第一透镜;第二透镜;第三透镜;第四透镜;所述后透镜群组包括从物方至像方依次设置的:第五透镜;第六透镜;第七透镜;第八透镜;还包括一变倍透镜,通过控制变倍透镜沿光轴方向移动,实现倍率调节。本发明可以在保持良好的双远心投影光学特性和良好的光学成像质量的条件下,在不增加光学零件数量的基础上、利用单片透镜的移动实现焦距变化,方便有效地修正或调节光学系统的投影倍率;光学系统选用的所有透镜均为球面,不包含非球面镜片,大幅度降低了加工,检测和装校的难度和成本。
  • 一种可调倍率双远心投影光学系统
  • [发明专利]一种大视场长工作距低像差平场复消色差显微物镜-CN202310600386.9在审
  • 霍大云;奚芳芳;李冰杰 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2023-05-25 - 2023-09-05 - G02B21/02
  • 本发明涉及光学镜头技术领域,公开了一种大视场长工作距低像差平场复消色差显微物镜,包括沿光轴从左至右依次排列的第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组、第四透镜组。第一透镜组由第一透镜~第五透镜组成;第二透镜组由第六透镜~第八透镜组成,包含一个三胶合透镜;第三透镜组由第九透镜~第十四透镜组成,包含两个二胶合透镜;第四透镜组由第十三透镜~第十四透镜组成。在本显微物镜的有益效果中,物镜的视场达到了Ø2.3mm,工作距离达到了8.5mm,横向像差不超过2.5um。同时各个视场成像质量优良,在400~700nm波段内良好校正了色差。此外,本发明在设计时还考虑了各透镜边缘厚度、中心厚度、阻塞率及空气间隔,降低了加工、装调难度。
  • 一种视场工作距低像差平场复消色差显微物镜
  • [实用新型]大面积薄型产品的真空吸附装置-CN202222962664.9有效
  • 霍大云;刘伟 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2022-11-07 - 2023-02-21 - B23Q3/08
  • 本实用新型涉及大面积薄型产品的真空吸附装置,包括平面吸附组件,平面吸附组件一侧大平面上密集开设有多个吸附孔,平面吸附组件上还安装有两个以上连接件,各个吸附孔均与至少一个连接件相通;还包括主阀体,主阀体上并列安装有真空吸附阀组和防憋气阀组,真空吸附阀组与各个连接件连通,主阀体的主出气口与吸气机构的吸气口连通;真空吸附阀组或者防憋气阀组经主阀体与吸气机构相通;通过真空吸附阀组和防憋气阀组的设置,能够在吸气机构持续开启工作的状态下,实现平面吸附组件在真空吸附和破真空之间的频繁切换,从而有效实现大面积薄型产品可靠、稳定的真空吸附使用,并满足于其频繁切换的节拍需求,工作效率高,实用性好。
  • 大面积产品真空吸附装置
  • [发明专利]一种PCB印刷的喷墨印刷方法-CN202211383355.4在审
  • 霍大云;尹文旭 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2022-11-07 - 2022-12-23 - B41M5/00
  • 本发明涉及一种PCB印刷的喷墨印刷方法,在由CCD靶点定位系统抓取PCB板的实际尺寸后,夹持有PCB板的工作台从正向打印起始位置开始沿X正方向移动,喷墨打印小车静止并经下方喷头组件向着PCB板喷墨直至正向打印结束;而后,工作台从反向打印起始位置开始沿着X反方向移动,喷墨打印小车静止并经下方喷头组件向着PCB板喷墨,直至反向打印结束;在正向打印和反向打印过程中,由UV灯提供不同的固化能量,从而在工作台的往返运动中均能进行打印工作,并且在一个往返中即可完成字符的喷墨打印,大大提升了生产效率,实现了产速翻倍的效果,节约了生产成本,尤其适用于PCB阻焊喷墨打印中,能够高效率地兼顾精度和厚度两个方面,有效保证阻焊打印效果。
  • 一种pcb印刷喷墨方法
  • [发明专利]一种PCB内层板的层间对准精度检测方法-CN202210870490.5在审
  • 霍大云;刘麟跃 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2022-07-22 - 2022-10-25 - G01N21/956
  • 本申请公开了一种PCB内层板的层间对准精度检测方法,涉及PCB技术领域,该方法使用刚性板材结构的标定板,标定板包括透明基板及其两侧的光致变色材料,真空吸附标定板并利用曝光设备执行曝光操作,使得标定板正反面的光致变色材料的感光区域变色而得到曝光图形,利用视觉系统提取两侧的曝光图形的图形偏差确定层间对准精度,完成检测标定过程。刚性板材结构的标定板在被真空吸附过程中不会产生变形,因此最终确定得到的层间对准精度的准确度较高,检测精度和可靠性高。
  • 一种pcb内层对准精度检测方法
  • [实用新型]一种高精度相机垂直度调整结构-CN202122925487.2有效
  • 霍大云;刘伟;李洋 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-11-25 - 2022-05-27 - G01N21/01
  • 本实用新型公开了一种高精度相机垂直度调整结构,具体涉及机器视觉对位技术领域,包括动子座,所述动子座的右端设有粗调螺栓,所述粗调螺栓的下端设有相机组件安装板,所述相机组件安装板的上端设有基准支撑点、辅助支撑点和随动支撑点,所述辅助支撑点的上端设有微调螺钉,所述微调螺钉的外端设有调整螺母,所述调整螺母的外端设有调平安装板,所述调平安装板的内端设有蝶形弹簧。本实用新型具备预紧结构和微导向结构,可以保证每次松开和锁紧螺钉的时候,不会破坏相机的原始位置参考基准,或者将相机原始位置参考基准的变化控制在可接受的很小范围内,且锁紧安装螺钉的时候,不影响相机的当前姿态,不会破坏已经调整好的相机姿态。
  • 一种高精度相机垂直调整结构
  • [实用新型]一种双远心投影光刻镜头-CN202123440890.2有效
  • 霍大云;刘麟跃;贺文丽 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-05-27 - G02B13/22
  • 本实用新型提供了一种双远心投影光刻镜头,包括物方和像方,物方至像方依次设置棱镜、前透镜组、孔径光阑和后透镜组;前透镜组包括3片透镜,第一透镜是双凸透镜,具有正光焦度;第二透镜是弯月透镜,具有负光焦度,其物侧面为凸面,像侧面为凹面;第三透镜是弯月透镜,具有负光焦度,其物侧面为凸面,像侧面为凹面;后透镜组包括4片透镜,第四透镜是双凹透镜,具有负光焦度;第五透镜是弯月透镜,具有负光焦度,其物侧面为凸面,像侧面为凹面;第六透镜是弯月透镜,具有正光焦度,其物侧面为凹面,像侧面为凸面;所述第七透镜为双凸透镜,具有正光焦度。具有高分辨率、超宽景深、超低畸变以及平行光设计,适用于光刻机光刻镜头。
  • 一种双远心投影光刻镜头
  • [实用新型]一种数码PCB字符白墨喷墨机供墨循环系统-CN202122925240.0有效
  • 霍大云;尹文旭 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-11-25 - 2022-04-26 - B41J2/175
  • 本实用新型公开了一种数码PCB字符白墨喷墨机供墨循环系统,具体涉及喷墨机供墨技术领域,包括两次墨路循环系统,第一次墨路循环系统包括主墨罐、墨罐密封盖、直流搅拌电机和供墨搅拌杆,所述墨罐密封盖固定设在主墨罐顶部,所述直流搅拌电机固定设在墨罐密封盖顶端,所述直流搅拌电机的输出端贯穿墨罐密封盖固定设有供墨搅拌杆,所述供墨搅拌杆设在主墨罐内部,第二次墨路循环系统包括二级墨盒一和二级墨盒二。本实用新型采用两次墨路循环系统使白墨得到充分的搅拌,沉淀无法形成,且避免含有无机颜料二氧化钛的白墨沉淀堵塞喷头的现象发生,极大的提高了产品的成品生产效率,延长喷头使用寿命一倍以上,节约大量的维护清洗的时间。
  • 一种数码pcb字符喷墨机供墨循环系统
  • [发明专利]一种光刻机能量检测装置及检测方法-CN202111554580.5在审
  • 霍大云;刘麟跃;刘靖 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-12-17 - 2022-04-12 - G01J1/42
  • 本发明属于能量检测领域,公开了一种光刻机能量检测装置及检测方法,装置包括安装板,安装板固定安装在光刻机运动机构中,安装板的前端面横向固定设置有两根导轨,安装板的一侧固定设置有伺服电机,伺服电机通过同步轮同步带驱动有安装座,安装座通过滑块滑动设置在两根导轨之间。本发明通过CCD和能量探头的配合使用,对光刻机的出光进行精确到像素点的能量检测,便于对光刻机的出光能量均匀性进行更精确的检测,有效提高光刻机的曝光精度,防止因衰减片的老化而出现测量误差;通过衰减片的使用,有效提高CCD可检测的能量范围,通过同步带的使用,有效降低能量检测装置的重量,有效减少运动机构的变形量。
  • 一种光刻机能检测装置方法
  • [发明专利]一种用于无掩模激光高精度扫描的图形拼接方法-CN202111599447.1在审
  • 霍大云;杨琳韵;茆荣超 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-03-18 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种用于无掩模激光高精度扫描的图形拼接方法。其通过对DMD进行标定,以确定与DMD相应任一镜头的角度以及相应位置;对一镜头投图形成的一正曝光区域与反曝光区域进行图形拼接时,配置镜头内正曝光三角拼接区的镜头内正曝光三角拼接区曝光参数以及镜头内反曝光三角拼接区的镜头内反曝光三角拼接区曝光参数,并使得得镜头内正曝光三角拼接区曝光参数内的有效曝光次数与镜头内反曝光三角拼接区曝光参数内的有效曝光次数之和为镜头内水平拼接长度所包含的像素数量的k倍,其中,k为0.5~0.9。本发明能有效改善曝光区域之间的拼接效果,灵活性高,可满足高精度、高分辨率的工业需求。
  • 一种用于无掩模激光高精度扫描图形拼接方法
  • [发明专利]可提高分辨率的无掩膜激光直写光刻用扫描方法-CN202111600355.0在审
  • 霍大云;杨琳韵;茆荣超 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-03-18 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种可提高分辨率的无掩膜激光直写光刻用扫描方法。其包括如下步骤:步骤1、对原始图像数据进行栅格化,以得到所需的目标图像栅格化数据;步骤2、对与一子帧相对应的目标图像栅格化数据进行移位重组,以在一子帧的目标图像删格化数据移位重组后得到若干直接用于一DMD像元行的重组数据单元;步骤3、依据DMD曝光投图的设置,将任一重组数据单元均封装成所需的曝光投图有效数据体;步骤4、运动平台在y轴运动方向上每前进设定距离,向DMD发送投图触发信号,以驱动DMD读取所需曝光投图有效数据体并根据所读取的曝光投图有效数据体进行曝光投图。本发明满足高速率、高精度、高分辨率的无掩膜激光直写光刻的需求。
  • 提高分辨率无掩膜激光光刻扫描方法
  • [发明专利]用于无掩模激光直写光刻的位置触发系统及方法-CN202111600359.9在审
  • 霍大云;茆荣超;杨琳韵;汪留芳 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-03-18 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种用于无掩模激光直写光刻的位置触发系统及方法。其包括运动轨迹采样装置、位置触发装置以及上位机;上位机将获取等距离触发的位置触发误差补偿表以及与当前直写光刻图形相对应的直写光刻工作参数传输至位置触发装置内,位置触发装置根据直写光刻工作参数以及位置触发误差补偿表确定实际触发位置,当根据所接收Y方向的实际运动轨迹确定运动平台的当前位置与位置触发装置所确定的实际触发位置匹配时,位置触发装置向所连接的DMD数字微镜发送曝光触发信号,以使得DMD数字微镜根据所接收的曝光触发信号进行所需的曝光。本发明能有效实现等距位置触发,消除等距触发时Y方向的错位,提高曝光图像的质量,安全可靠。
  • 用于无掩模激光光刻位置触发系统方法
  • [发明专利]一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法-CN202110223813.7在审
  • 霍大云;张斌;刘麟跃;刘伟 - 锡凡半导体无锡有限公司
  • 2021-03-01 - 2021-06-22 - G03F9/00
  • 本申请涉及激光成像的领域,尤其是涉及一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法,图像检测装置包括基底,基底为方形杆,基底的表面涂有感温变色材料,运用图像检测装置的检测方法,其技术方案要点是:初定位:将基底固定在吸盘上;再定位:将基底移动至出光镜头的下方;激光对焦:调节基底的位置使得激光投射在感温变色材料上;激光成像:激光在感温变色材料上成红色图像;图像获取:将基底移动至对位相机的下方,对位相机对红色图像进行抓拍;图像对比:对位相机将获取的红色图像传输到对比系统与原图进行对比,对比系统输出结果。本申请具有提高变色标记的稳定性,从而便于对激光直写光刻设备进行图像校准的效果。
  • 一种图像检测装置运用方法

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