专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种抗总剂量辐射效应的SOI LDMOS器件加固结构-CN202210247580.9有效
  • 于成浩;王颖;郭浩民;包梦恬;张立龙 - 杭州电子科技大学
  • 2022-03-14 - 2023-06-27 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种抗总剂量辐射效应的SOI LDMOS器件加固结构。本发明通过外延方法在埋氧层2的界面生长一层薄的N扩展层,该N扩展层可吸取因辐照在埋氧层引入固定正电荷镜像产生的电子;通过离子注入方法在浅槽隔离氧化层的下表面的拐角附近形成一个P保护区,该P保护区能够降低浅槽隔离拐角附近体硅内部电场峰值,从而提高器件的横向击穿电压;通过高能离子注入方法在漂移区形成一个P柱区15,该P柱区能够起到电导调制作用,在同一耐压条件下可以提高漂移区浓度对击穿电压的变化窗口。本发明在相同耐压条件下不但降低了比导通电阻,还可以大幅度提高器件的抗总剂量性能,从而保证SOI LDMOS器件在空间辐射环境中长时间稳定工作。
  • 一种剂量辐射效应soildmos器件加固结构
  • [发明专利]一种NP层交替外延的碳化硅微沟槽中子探测器结构-CN202210406250.X有效
  • 于成浩;王颖;郭浩民;包梦恬;张立龙 - 杭州电子科技大学
  • 2022-04-18 - 2023-06-27 - H01L31/0352
  • 本发明公开了一种NP层交替外延的碳化硅微沟槽中子探测器结构。本发明结构采用多次外延法在N+衬底上依次交替制作N型层和P型层。首先在N+衬底上外延第一层N型层,之后在第一层N型层上外延第一层P型层,之后在第一层P型层外延层上外延第二层N型层,之后在第二层N型层外延层上外延第二层P型层,直到外延最后一层为N型层为止。如果外延的N型层一共有M层,则外延的P型层一共有M‑1层,总的外延层数为2M‑1层。每个N型层与每个P型层的厚度、掺杂浓度完全相同。本发明在外延层内部形成“锯齿形”的纵向电场分布,该电场分布更加均匀,使探测器在更低的衬底偏压下实现外延层的全耗尽,从而有效降低SiC微沟槽中子探测器的工作电压。
  • 一种np交替外延碳化硅沟槽中子探测器结构
  • [发明专利]一种胖瘦条纹结构及其制备方法-CN202110466010.4有效
  • 张成云;胡琦;郭浩民;林茹 - 广州大学
  • 2021-04-28 - 2023-05-26 - B81B1/00
  • 本发明公开了一种胖瘦条纹结构及其制备方法,该制备方法,包括:在金膜样品的金膜上表面覆盖一玻片,将金膜样品放置在移动平台,飞秒激光微加工系统输出的飞秒脉冲激光聚焦到金膜样品,控制移动平台在X‑Y‑Z轴三个方向移动,进行二维移动线扫描,在金膜上制备微纳周期结构,即“胖瘦条纹”结构。本发明通过控制玻片与金膜的接触夹角可以诱导出不同角度的倾斜分布的胖瘦周期条纹,本发明的加工方法具有方便、快速、人为可控等特点。
  • 一种胖瘦条纹结构及其制备方法
  • [发明专利]一种双结型硅基纳米白光光源及其制备方法-CN202211567573.3在审
  • 张成云;郭浩民;胡琦;岑奕桦 - 广州大学
  • 2022-12-07 - 2023-03-31 - H01L33/00
  • 本发明提供了一种双结型硅基纳米白光光源及其制备方法。本发明的双结型硅基纳米白光光源包括衬底,在衬底上设有介电纳米球,在介电纳米球表面设有金属纳米薄膜,金属纳米薄膜与介电纳米球形成核壳纳米结构;其中,衬底为金衬底或银衬底;介电纳米球为硅纳米球或二氧化钛纳米球;金属纳米薄膜为钯纳米薄膜或金纳米薄膜。本发明制备的纳米光源结构能够显著地提高发光强度,该纳米光源通过引入电和磁谐振模式,能够耦合产生更多的杂化模式,通过调控模式的耦合能进一步调控光源的发光特性,进而实现整个纳米结构非线性特性的调控。
  • 一种双结型硅基纳米白光光源及其制备方法
  • [发明专利]一种硅纳米球的制备方法-CN202210074774.3在审
  • 张成云;萧雪莲;陈冬演;郭浩民 - 广州大学
  • 2022-01-21 - 2022-05-20 - B23K26/0622
  • 本发明公开一种硅纳米球的制备方法,包括以下步骤:步骤一:超声清洗硅片;步骤二:将清洗好的硅片固定于装有去离子水的石英培养皿中,并将石英样品池固定在飞秒激光微纳加工系统的三维电动平移台上方;步骤三:将飞秒脉冲激光聚焦到硅片表面;步骤四:用运动控制软件设置三维电动平移台的移动参数;步骤五:硅片通过程序控制移动,飞秒脉冲激光烧蚀硅片表面,得到淡黄色胶体状硅纳米水溶液。与现有技术相比,本发明具有无复杂工艺,操作简便,可以通过软件预设参数,实现了硅纳米颗粒溶液的自动化制备,制成的硅纳米球直径较大的特点。
  • 一种纳米制备方法
  • [发明专利]阶梯型微沟槽中子探测器及制备方法-CN202010239074.6有效
  • 王颖;于成浩;李雅男;郭浩民;曹菲 - 杭州电子科技大学
  • 2020-03-30 - 2022-01-04 - H01L31/118
  • 本发明提出了一种阶梯型微沟槽中子探测器及制备方法,该结构首先通过刻蚀技术在半导体器件内部制作一个宽度较窄的沟槽,之后在深沟槽区域内进行第二次刻蚀制作一个宽度较宽的沟槽从而形成一个阶梯型微沟槽结构(可采用多次刻蚀形成多阶梯型微沟槽结构),最终采用角旋转离子注入技术在沟槽侧壁及底部形成均匀的掺杂分布。一方面,阶梯型沟槽结构通过优化沟槽间距可以提高器件中子反应物的填充量,从而提高器件的中子探测效率。另一方面,阶梯型沟槽结构还可以优化沟槽底部的电场分布,使探测器的击穿电压提高。此外,阶梯型沟槽结构可以提高探测器灵敏区电场值,进而提高电荷收集率并降低收集时间。
  • 阶梯沟槽中子探测器制备方法
  • [发明专利]一种激光微纳加工图形的系统和方法-CN202110816721.X在审
  • 张成云;曹毓竣;郭浩民 - 广州大学
  • 2021-07-20 - 2021-11-12 - B23K26/064
  • 本发明公开了一种激光微纳加工图形的系统和方法,该方法包括:自动将待加工图案进行灰度化处理并提取出每个像素点的灰度值,将待加工图案的每个像素点的灰度值与预设灰度阈值进行比较,判断每个像素点是否需要加工,对待加工图片进行线扫描,将同一行/列中待加工状态相同的点整合成一条线段,最后将所有行/列整合的线段信息发送于上位机,上位机控制实体激光微纳加工平台将待加工图形加工在样品上。本发明采用的线扫描加工方式,可以自动运算出待加工图片的每一个像素点是否需要加工并对相邻像素点的待加工状态进行对比,使得像素点与像素点之间的目标量程为激光连续加工的方式,从而得出一套更节省时间的加工方案,而且加工效果更好。
  • 一种激光加工图形系统方法

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