专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种片状三氧化钨光电极及其制备方法-CN201310691028.X在审
  • 李灿;王楠;施晶莹;郑霄家 - 中国科学院大连化学物理研究所
  • 2013-12-13 - 2015-06-17 - C23C14/35
  • 本发明涉及一种多孔WO3片状阵列薄膜的制备,首先利用直流反应磁控溅射方法,以Ar气为溅射气体,O2气为反应气体,采用双金属靶共溅射,其中一个靶为钨靶,另一种为铝、铜、锌中的一种,溅射得到非晶氧化物薄膜。将制备的非晶金属氧化物薄膜浸入强酸性溶液中进行选择性刻蚀,在基片上得到了片状的多孔结构,空气中450-550℃退火,形成单斜晶相WO3,形貌保存完好。该方法得到的多孔氧化钨电极的比表面积增加,吸光性能大幅度提高,材料与基底的结合力较好。本发明的优点在于:可以实现大规模生产,制备工艺简单,制备的WO3电极相比于未刻蚀的致密的WO3电极,饱和光电流提高3倍,亦可应用到染料敏化电池,电致变色器件等。
  • 一种片状氧化钨电极及其制备方法

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