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- [发明专利]摄像装置-CN201880057803.7在审
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平濑顺司;佐藤好弘;远藤康行;纲川裕之
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松下知识产权经营株式会社
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2018-11-06
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2020-05-01
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H01L27/146
- 一种摄像装置,具备:半导体基板,包括半导体区域、第1扩散区域以及第2扩散区域,上述半导体区域包含第1导电型的杂质,上述第1扩散区域与上述半导体区域相接,包含与上述第1导电型不同的第2导电型的杂质,并将入射光变换为电荷,上述第2扩散区域包含上述第2导电型的杂质,积蓄从上述第1扩散区域流入的上述电荷的至少一部分;第1晶体管,包括位于上述半导体基板上的第1栅极电极,包括上述第2扩散区域作为源极及漏极中的一方;接触插塞,与上述第2扩散区域电连接;电容元件,一端与上述接触插塞电连接;以及第2晶体管,包括位于上述半导体基板上的第2栅极电极,上述第2栅极电极与上述电容元件的上述一端电连接。
- 摄像装置
- [发明专利]半导体器件的制造方法及半导体器件-CN02154822.6无效
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木村雅俊;远藤康行
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三菱电机株式会社
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2002-12-02
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2003-09-24
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H01L31/18
- 本发明的课题是,获得一种不采用倾斜旋转注入和过剩的热扩散而能形成有在栅电极的下方形成的部分的光电二极管的杂质导入区的半导体器件的制造方法。采用照相制版法,在栅极结构15的端部上和与该端部相邻的光电二极管18的形成预定区域上形成有开口的图形的光致抗蚀剂30。其次,将光致抗蚀剂30用作注入掩模,在能量为300~600keV、剂量为1E12~1E14离子/cm2的注入条件下,垂直注入磷等N型杂质31。因此,能在P阱11的上表面内形成N型杂质导入区17。这时,N型杂质31能穿通栅极结构15而到达P阱11内,所以在栅极结构15的下方也能形成N型杂质导入区17。
- 半导体器件制造方法
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