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[发明专利]用于处理衬底的装置和方法-CN202211545329.7在审
发明人：辛承敃;朴相真;崔海圆;李章晋;朴智焕;李根泽;克里科里安·安东;元俊皓;成进荣;许弼覠 -专利权人：三星电子株式会社;细美事有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：提供了一种用于处理衬底的装置和方法。该装置包括：至少一个第一工艺室，被配置为将显影剂供应到衬底上；至少一个第二工艺室，被配置为使用超临界流体处理衬底；传送室，被配置为将衬底从至少一个第一工艺室传送到至少一个第二工艺室，同时在至少一个第一工艺室中供应的显影剂残留在衬底上；以及温湿度控制系统，被配置为通过将恒温恒湿的第一气体供应到传送室中来管理传送室的温度和湿度。
用于处理衬底装置方法

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN202211167154.0在审
发明人：崔海圆;辛承敃;朴相真;辛在原;朴智焕;李根泽;科里亚金·安东;元俊皓;许弼覠 -专利权人：三星电子株式会社;细美事有限公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：提供了衬底处理设备和衬底处理方法，其中通过多级压力控制来控制注入到超临界干燥容器中的CO2的流速。所述衬底处理方法包括：将涂覆有化学液体的衬底设置在处理室中，所述处理室包括在其中处理所述衬底的空间；通过使用超临界流体来干燥所述衬底；以及在所述衬底被干燥后，将所述衬底从所述处理室中取出。
衬底处理设备方法

[发明专利]基板处理设备及基板处理方法-CN202211262127.1在审
发明人：孙源湜;吴世勋;郑仁基;许弼覠 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：提供一种用于处理基板的设备及一种基板处理方法，所述设备包括：具有处理空间的处理容器；用于在处理空间中支承基板并旋转基板的支承单元；用于供应处理液至由支承单元支承的基板的液体供应单元；及用于加热基板的加热单元，其中支承单元包括：自旋卡盘；用于旋转自旋卡盘的旋转驱动器；安装于自旋卡盘上从而与自旋卡盘一起旋转的卡盘销；及卡盘销移动单元，用于在卡盘销与基板的侧面部分接触的接触位置与卡盘销自基板的侧面部分隔离开的打开位置之间移动卡盘销，且卡盘销移动单元在基板由自旋卡盘旋转的同时移动卡盘销。
处理设备方法

[发明专利]流动阻力产生单元及包括其的基板处理装置-CN202210853629.5在审
发明人：辛在原;李在晟;崔海圆;元俊皓;科里亚金·安东;金旻祐;姜亨奭;金应秀;许弼覠;成进荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-07-11 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供设置在管道内以稳定内部气流的流动阻力产生单元及包括其的基板处理装置。基板处理装置包括壳体；支承单元，设置在壳体内部，并且在两侧支承基板；加热部件，设置于壳体的侧壁，并且用于产生用于处理基板的热量；流体供应单元，用于向壳体的内部供应用于处理基板的流体，并且包括上部流体供应部、下部流体供应部和供应管道，上部流体供应部用于向基板的上部供应流体，下部流体供应部用于向基板的下部供应流体，供应管道与上部流体供应部和下部流体供应部中的至少一个流体供应部连接；以及流动阻力产生单元，设置于供应管道，并且对通过供应管道的流体产生流动阻力，其中，流动阻力产生单元设置在供应管道所包括的曲管与流体供应部之间。
流动阻力产生单元包括处理装置

[发明专利]用于处理基板的方法及设备-CN202210239103.8在审
发明人：崔海圆;A·科里阿金;元俊皓;金旻祐;崔基熏;金应秀;金泰熙;许弼覠;李章晋;成进荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的方法及设备。本发明构思提供一种用于处理基板的方法。用于处理基板的方法包含：加压步骤，用于在将基板放入内部空间之后，通过向内部空间供应处理流体来增大腔室的内部空间的压力；流动步骤，用于通过将处理流体供应给内部空间及从内部空间排放处理流体的组合来产生处理流体的流动；及减压步骤，通过从内部空间排放处理流体来降低内部空间的压力，且加压步骤包含：底面供应工艺，通过将处理流体供应给被放入内部空间中的基板的背面来增大内部空间的压力；及顶面供应工艺，通过向放入到内部空间中的基板的顶面供应处理流体来增大内部空间的压力。
用于处理方法设备

[发明专利]异质复合物及异质复合物的制造方法-CN202110612193.6在审
发明人：金度延;许弼覠;黄浩钟;尹铉;李钟民;白哲均 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： B29C43/02 文献下载
摘要：本发明提供了异质复合物及异质复合物的制造方法。异质复合物包括：第一压缩结构体，其通过压缩第一材料来形成；第二压缩结构体，其通过压缩与第一材料不同的第二材料形成，并且与第一压缩结构体紧贴地布置，其中，第一压缩结构体的至少一部分与第二压缩结构体的至少一部分以在以中心轴为基准具有恒定半径的圆形界面彼此接触的状态布置在界面的两侧。
复合物制造方法

[发明专利]用于蚀刻薄层的方法和设备-CN202011458403.2在审
发明人：高定奭;李在晟;林度延;金局生;郑暎大;金泰信;李智暎;金源根;郑智训;金光燮;许弼覠;史允基;延蕊林;尹铉;金度延;徐溶晙;金昺槿;严永堤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了用于蚀刻薄层的方法和设备，所述薄层包括形成在基板上的氮化硅。在所述基板上供应包括磷酸和水的蚀刻剂，使得在所述基板上形成液层。通过在所述薄层和所述蚀刻剂的反应来蚀刻所述薄层。测量所述液层的厚度，以在蚀刻所述薄层的同时检测所述液层的所述厚度的变化。基于所述液层的所述厚度的所述变化来计算所述磷酸和所述水的浓度的变化。基于所述磷酸和所述水的所述浓度的所述变化在所述基板上供应水，使得所述磷酸和所述水的所述浓度变为预定值。
用于蚀刻薄层方法设备

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202011224945.3在审
发明人：高定奭;金善美;洪志守;金局生;崔成彬;许弼覠 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置包括：支承单元，支承基板，并使基板旋转；以及喷射单元，包括一个以上喷嘴，所述喷嘴将混合有清洗液和二氧化碳的二流体向基板喷射。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置-CN202011077967.1在审
发明人：郑暎大;金源根;李智暎;郑智训;金泰信;吴世勋;许弼覠;朴炫九 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-10-10 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置包括：旋转单元，支承基板，并使基板旋转；药液喷出单元，向所述旋转单元喷出药液；药液回收单元，位于与所述旋转单元相邻的位置，并回收从所述旋转单元飞散的药液；以及激光照射单元，向所述基板照射激光，并加热所述基板，从而通过将激光照射于基板而调整基板温度，能够增加基于药液的蚀刻量。
处理装置

[发明专利]旋转头及包括该旋转头的基板处理装置和方法-CN201611011607.5有效
发明人：李知桓;崔重奉;许瓒宁;许弼覠 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及一种旋转头、包括所述旋转头的基板处理装置和方法。根据本发明的实施方式，所述旋转头包括放置基板的支撑板和放置在所述支撑板上并支撑所述基板侧部的卡盘销，其中所述卡盘销包括外本体和插入所述外本体中并且具有与所述外主体不同材料的内本体，其中所述外本体和所述内本体中的每个具有第一材料或第二材料中的任一种，并且其中所述第一材料和所述第二材料中的一种材料包括具有比另一种更低的导热性和更好的耐热性的材料。
旋转包括处理装置方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202010609507.2在审
发明人：金度延;吴世勋;金源根;李周美;黄浩钟;许弼覠;尹铉;李忠现;朴炫九 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置在处理容器设有导电性部件，导电性部件由具有比处理容器的材质小的电阻的材质形成，从而能够在液体处理工艺中抑制基于带电现象的处理容器的电位增大，由此能够防止基板被粒子、静电弧光等损伤。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理设备和基板处理方法-CN201310214510.4在审
发明人：崔龙贤;朴正善;许弼覠 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2013-05-31 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种基板处理设备。该基板处理设备包括：提供了空间的容器，在该空间中超临界流体流动或被接收；回收管，其一端连接到容器以排出在容器内的超临界流体，该回收管包括阀；以及废液管，其连接到容器，以排出在容器内的超临界流体，该废液管包括安全阀。回收管的另一端连接到回收容器，在该回收容器中，从容器排出的超临界流体被接收以用于再利用。
处理设备方法

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