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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于处理基板的设备-CN202211698270.5在审
发明人：金泰信;郑映大;金源根;李智暎;郑智训 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于处理基板的设备，所述设备包括：具有处理空间的室；基板支撑单元，所述基板支撑单元在所述处理空间内支撑和旋转基板；液体供应单元，所述液体供应单元向支撑在基板支撑单元上的基板供应化学液体；激光照射单元，所述激光照射单元将激光照射到支撑在基板支撑单元上的基板的底部；以及激光反射单元，所述激光反射单元联接到所述激光照射单元并将照射并反射的激光反射到基板的底部，其中所述激光反射单元包括反射构件和驱动构件，所述反射构件反射从基板反射的激光，所述驱动构件使所述反射构件以预定的倾斜角倾斜。
用于处理设备

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202210871683.2在审
发明人： 李智暎;郑映大;郑智训;金源根;金泰信 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-07-22 - 公布日： 2023-02-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。本发明构思提供了基板处理装置。该基板处理装置包括支承单元，该支承单元水平地维持基板；激光照射单元，该激光照射单元用于用激光照射该基板；光检测器，该光检测器用于检测照射在该基板上的激光中从该基板反射的反射光的能量；以及处理器，并且其中，该处理器将第一输出的第一激光照射到该基板，并且基于由该光检测器检测到的该第一激光从该基板反射的第一反射光的能量，设置用于照射该基板以加热该基板的第二激光的第二输出。
用于处理装置方法

[发明专利]基板处理设备及基板处理方法-CN202110855238.2在审
发明人： 李智暎;郑映大;郑智训;金泰信;金源根 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理设备和基板处理方法，该基板处理设备包括第一工艺腔室组，该第一工艺腔室组包括多个工艺腔室，每个工艺腔室包括将激光光束施用至基板以加热基板的激光光束发射单元；一个激光光束发生器，该一个激光光束发生器通过包括在第一工艺腔室组中的多个工艺腔室中的每个工艺腔室的激光光束发射单元产生施用至基板的激光光束；以及光束移动模块，该光束移动模块包括对应于包括在第一工艺腔室组中的多个工艺腔室的一个或多个镜。一个或多个镜中的每个镜被移动到镜形成激光光束的朝向多个工艺腔室中的预定的一个工艺腔室的光路的位置。
处理设备方法

[发明专利]基板处理装置-CN202110973602.5在审
发明人：郑智训;金源根;郑映大;李智暎;金泰信 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括支承单元，该支承单元支承基板；以及加热单元，该加热单元将光束照射到基板并且加热基板；并且加热单元还包括照射光束的照射部和旋转光束的旋转部。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN202110976205.3在审
发明人：郑智训;金源根;郑映大;金泰信;李智暎 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括支承基板的支承单元和激光单元，该激光单元向由支承单元支承的基板照射激光光束，该激光单元包括照射构件、透镜和反射构件，该照射构件照射激光光束，该透镜设置在由照射构件照射的激光光束的行进路径上、从而是可旋转的，该反射构件具有用于改变穿过透镜的激光光束的行进路径的倾斜表面。
处理装置

[发明专利]基板加热单元、基板处理装置以及基板处理方法-CN202011343448.5在审
发明人：金泰信;郑暎大;郑智训;李智暎;金源根 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板加热单元、基板处理装置以及基板处理方法。在处理基板时，将具有均匀化的能量分布的第一光束(整体均匀形态的平顶激光束)和具有边缘区域被强化的能量分布的第二光束(边缘强化形态的平顶激光束)中一个光束选择性地提供于基板，从而既能够将基板加热到整体均匀的温度，也能够在基板的边缘区域的温度相对低情况下最小化基板的温度偏差。
加热单元处理装置以及方法

[发明专利]用于蚀刻薄层的方法和设备-CN202011458403.2在审
发明人：高定奭;李在晟;林度延;金局生;郑暎大;金泰信;李智暎;金源根;郑智训;金光燮;许弼覠;史允基;延蕊林;尹铉;金度延;徐溶晙;金昺槿;严永堤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了用于蚀刻薄层的方法和设备，所述薄层包括形成在基板上的氮化硅。在所述基板上供应包括磷酸和水的蚀刻剂，使得在所述基板上形成液层。通过在所述薄层和所述蚀刻剂的反应来蚀刻所述薄层。测量所述液层的厚度，以在蚀刻所述薄层的同时检测所述液层的所述厚度的变化。基于所述液层的所述厚度的所述变化来计算所述磷酸和所述水的浓度的变化。基于所述磷酸和所述水的所述浓度的所述变化在所述基板上供应水，使得所述磷酸和所述水的所述浓度变为预定值。
用于蚀刻薄层方法设备

[发明专利]基板处理装置-CN202011077967.1在审
发明人：郑暎大;金源根;李智暎;郑智训;金泰信;吴世勋;许弼覠;朴炫九 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-10-10 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置包括：旋转单元，支承基板，并使基板旋转；药液喷出单元，向所述旋转单元喷出药液；药液回收单元，位于与所述旋转单元相邻的位置，并回收从所述旋转单元飞散的药液；以及激光照射单元，向所述基板照射激光，并加热所述基板，从而通过将激光照射于基板而调整基板温度，能够增加基于药液的蚀刻量。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202011109697.8在审
发明人：郑暎大;金源根;李智暎;郑智训;金泰信;高定奭;崔成彬;延蕊林 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的实施例的基板处理装置的特征在于，包括：基板支承单元；药液供应单元，用于将药液供应于被所述基板支承单元支承的基板上面；激光照射单元，用于将激光照射于基板而加热基板；以及控制部，控制成激光照射单元照射激光脉冲，从而反复加热及冷却基板。
处理装置以及方法

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