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[发明专利]基板检查装置、基板检查方法以及计算机可读存储介质-CN202310002690.3在审
发明人：梶原大介;西山直;富田浩 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-01-03 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本公开涉及一种基板检查装置、基板检查方法以及计算机可读存储介质。基板检查装置使用拍摄基板的表面而得到的图像来检查基板，所述基板检查装置具有：保持部(31)，其用于保持基板；第一光源部(51)，其用于对保持于保持部(31)的基板射出可见光；第二光源部(52)，其用于对保持于保持部(31)的基板射出红外光；第一摄像传感器，其接受通过照射可见光而从基板射出的第一反射光，来拍摄关于基板的表面的可见光图像；以及第二摄像传感器，其接受通过照射红外光而从基板射出的第二反射光，来拍摄关于基板的表面的红外光图像。
检查装置方法以及计算机可读存储介质

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质-CN202010450886.5有效
发明人：野田康朗;西山直 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-22 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质。基板处理方法包括：从照相机取得被处理基板的端面的拍摄图像；对所述被处理基板的端面的拍摄图像进行图像处理而取得所述被处理基板的端面的形状数据；以及基于翘曲量已知的基准基板的端面的形状数据以及利用图像处理得到的所述被处理基板的端面的形状数据对所述被处理基板的翘曲量进行计算。
处理方法装置以及计算机可读存储介质

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质-CN202010451614.7有效
发明人：野田康朗;西山直 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-22 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质。基板处理方法包括：取得被处理基板的翘曲量；基于所述被处理基板的翘曲量来决定处理液相对于所述被处理基板的周缘部的供给位置；以及使表面形成有膜的所述被处理基板旋转，同时利用从所述供给位置供给的处理液使所述周缘部上的所述膜溶解而从所述被处理基板上去除。
处理方法装置以及计算机可读存储介质

[发明专利]基板拍摄装置-CN202111214841.9在审
发明人：古闲法久;西山直;野田康朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-08 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H04N7/18 文献下载
摘要：本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
拍摄装置

[发明专利]基板拍摄装置-CN202111215335.1在审
发明人：古闲法久;西山直;野田康朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-08 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
拍摄装置

[发明专利]基片检查装置、基片检查系统和基片检查方法-CN202080039553.1在审
发明人：岩永修儿;西山直 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-05-28 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：提供一种对基片进行检查的基片检查装置，包括：取得部，其基于图像估计模型和经基片处理装置处理前的检查对象基片的拍摄图像，取得经所述基片处理装置处理后的所述检查对象基片的估计图像，其中，所述图像估计模型是使用多个基片各自的经所述基片处理装置处理前的拍摄图像和处理后的拍摄图像通过机器学习而生成的；和判断部，其基于经所述基片处理装置处理后的所述检查对象基片的拍摄图像和所述估计图像，判断该检查对象基片有无缺陷。
检查装置系统方法

[发明专利]基板拍摄装置-CN201710068654.1有效
发明人：古闲法久;西山直;野田康朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-08 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
拍摄装置

[发明专利]基板缺陷检査装置和缺陷检査用灵敏度参数值调整方法-CN201710526715.4有效
发明人：北田泰裕;叶濑川泉;富田浩;中山浩介;西山直 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明能够自动对检査基板的缺陷时所使用的参数值进行调整，在检査基板的缺陷时实现减少疑似缺陷的检测。对于所选择的虚拟检査用的基板的各像素值，使用供调整后使用的基准像素数据，在各像素值偏离与其位置对应的允许范围时，将偏离量和调整前的灵敏度参数值进行比较。然后，在偏离量超过该灵敏度参数值并且上述偏离量与该灵敏度参数值的差在阈值以下时，将上述偏离量更新为新的灵敏度参数值。进而，对上述过去已检査过的多个基板的图像数据依次进行该操作，并且在作为偏离量的比较对象的灵敏度参数值发生了更新时使用更新后的灵敏度参数值，将最后更新了的灵敏度参数值作为调整后的灵敏度参数。
缺陷装置检査用灵敏度参数调整方法

[发明专利]基片的缺陷检查方法、存储介质和基片的缺陷检查装置-CN201980039737.5在审
发明人：井上慎;久野和哉;清富晶子;西山直 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-06-10 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明为一种在实施指定了基片的处理方案和作为处理对象的上述基片的任务来对上述基片进行规定的处理时，检查上述基片的缺陷的方法，其包括：依次拍摄上述基片的拍摄步骤；第1判断步骤，其从上述任务的开头的上述基片起依次地，使用泽尼克多项式将上述拍摄步骤中拍摄到的基片图像中的像素值的平面分布分解成多个像素值分布成分，计算与要检测的缺陷对应的上述像素值分布成分的泽尼克系数，基于计算出的上述泽尼克系数判断该基片是否存在缺陷；和第2判断步骤，其从至少一个基片在上述第1判断步骤中被判断为没有缺陷后的规定的时刻起，基于在上述第1判断步骤中判断为没有上述缺陷的上述基片图像，判断作为判断对象的上述基片是否存在缺陷。
缺陷检查方法存储介质装置

[发明专利]基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质-CN202010120395.4在审
发明人：清富晶子;保坂理人;西山直;久野和哉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-02-26 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、基板检查装置及方法、以及记录介质，能够根据图像数据更可靠地检测多个边缘中的检查对象的边缘。基板检查装置具备：存储部，其构成为存储检查制程以及根据形成有多个覆膜的基板的周缘部的摄像图像得到的检查图像数据；以及边缘检测部，其构成为使用存储部中存储的检查制程并且基于存储部中存储的检查图像数据来检测多个覆膜中的检查对象覆膜的边缘即对象边缘。多个覆膜各自的边缘沿基板的周缘延伸。检查制程是将多个从多个选项之中确定出一个选项所得到的参数进行组合来构成的。
处理装置检查方法以及记录介质

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201710097382.8有效
发明人：野田康朗;西山直 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-22 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种即使是在晶圆具有翘曲的情况下、也对该晶圆的周缘进行恰当的处理的基板处理方法和基板处理装置。晶圆的处理方法包括如下工序：在翘曲量已知的基准晶圆的周缘整周上利用照相机对基准晶圆的端面进行拍摄、在基准晶圆的周缘整周上取得基准晶圆的端面的形状数据的工序；在晶圆的周缘整周上利用照相机对晶圆的端面进行拍摄、在晶圆的周缘整周上取得晶圆的端面的形状数据的工序；基于各形状数据对晶圆的翘曲量进行计算的工序；在晶圆的表面形成抗蚀剂膜的工序；基于该翘曲量来决定有机溶剂相对于抗蚀剂膜的周缘部的供给位置、利用从该供给位置供给的有机溶剂使该周缘部溶解而从晶圆上去除的第7工序。
处理方法装置

[发明专利]基片检查方法、基片检查装置和存储介质-CN201910904935.5在审
发明人：久野和哉;清富晶子;野田康朗;滨本启佑;西山直 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供基片检查方法、基片检查装置和存储介质。基片检查方法包括：第一步骤，其使保持翘曲量已知的基准基片的保持台旋转，拍摄基准基片的端面；第二步骤，其对第一步骤中获得的拍摄图像进行图像处理，获取基准基片的端面的形状数据；第三步骤，其使保持被处理基片的保持台旋转，拍摄被处理基片的端面；第四步骤，其对第三步骤中获得的拍摄图像进行图像处理，获取被处理基片的端面的形状数据；和第五步骤，其在第一步骤的保持台的旋转位置与第三步骤的保持台的旋转位置相同的条件下，求取第二步骤获取的形状数据与第四步骤获取的形状数据的差，由此计算被处理基片的翘曲量。本发明能够高精度地测量晶片的翘曲。
检查方法装置存储介质

[发明专利]处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统-CN201880035426.7在审
发明人：森拓也;西山直;清富晶子;富田浩 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统，本方法包括：利用基板处理系统内的摄像装置拍摄作为条件设定的基准的基准基板，取得基准基板的拍摄图像的工序；利用摄像装置拍摄在现在的处理条件进行了规定的处理的已处理基板，取得已处理基板的拍摄图像的工序；计算已处理基板的拍摄图像和基准基板的拍摄图像的颜色信息的偏差量的工序；基于预先取得的相关模型和上述颜色信息的偏差量，计算处理条件的补正量的工序；和基于补正量设定处理条件的工序，在每个处理装置中进行取得基准基板的拍摄图像的工序以外的工序。
拍摄图像基准基板处理基板基板处理系统摄像装置颜色信息补正量偏差量处理装置存储介质计算处理条件设定拍摄

[发明专利]膜厚测定装置和膜厚测定方法-CN201510232473.9有效
发明人：岩永修儿;西山直;加藤宽三 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-05-08 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种膜厚测定装置和膜厚测定方法。取得预先测定测定准备用晶片上的多个点得到的膜厚测定值和与该膜厚测定值对应的各坐标。从预先由拍摄装置拍摄测定准备用晶片得到的准备用拍摄图像中，提取各坐标的像素值。生成各坐标中所提取的像素值与各坐标的膜厚测定值的相关数据。用拍摄装置拍摄成为膜厚测定对象的基板，取得拍摄图像，根据该拍摄图像的像素值和相关数据，计算形成于成为膜厚测定对象的基板上的膜的膜厚。
测定装置方法

[发明专利]基板检查装置、基板检查方法和存储介质-CN201210135466.3有效
发明人：久野和哉;富田浩;古闲法久;西山直;早川诚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-05-03 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明提供不使用检查用基板、能够防止产生由照明部的照度的降低引起的检查的不顺利的问题的技术。本发明的基板检查装置，具有：模式选择部，用于在检查模式和维护模式之间选择模式，所述检查模式以载置于设置在机箱内的载置台的基板为被摄体进行摄像来进行检查，所述维护模式用于确认照明部的照度；导光部件，设置于上述机箱内，用于将上述照明部的光导向摄像部的摄像元件；判定部，对在维护模式执行时经由上述导光部件被摄像元件取得的照明部的光的亮度是否在预先设定的容许范围内进行判定；和报知部，当由上述判定部判定为上述亮度在上述容许范围外时，用于报知需要进行照明部的更换。
检查装置方法存储介质

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