|
钻瓜专利网为您找到相关结果 280个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]一种半导体制造晶圆光刻设备-CN202211036479.5有效
-
聂新明;赵波
-
苏师大半导体材料与设备研究院(邳州)有限公司
-
2022-08-26
-
2023-07-25
-
G03F7/20
- 本发明公开了一种半导体制造晶圆光刻设备,涉及晶圆光刻技术领域,目的在于提供一种吸收灰尘,提高加工效果和加工效率的半导体制造晶圆光刻设备,其技术要点包括光刻台、曝光机箱、活动组块、传动机构和吸尘机构,传动机构用于带动活动组块沿X轴和Y轴移动吸尘机构,吸尘机构包括吸尘罩、动力电机和吸尘叶片,吸尘罩在曝光机箱的顶面安装,且吸尘罩的罩底延伸至曝光机箱的内腔,吸尘罩的外侧安装有出风管,动力电机在吸尘罩的顶部安装,且吸尘罩的输出轴驱动安装连接轴,吸尘叶片在连接轴上安装,技术效果是吸收空气中的灰尘,防止其掉落至晶圆块的表面,从而提高晶圆加工效果,避免晶圆因表面不干净造成返工,提高晶圆整体加工效率。
- 一种半导体制造圆光设备
- [发明专利]一种硅晶圆连续提取装置-CN201910980670.7有效
-
钱波
-
苏师大半导体材料与设备研究院(邳州)有限公司
-
2019-10-16
-
2022-02-18
-
H01L21/683
- 本发明涉及硅晶圆加工领域,具体涉及一种硅晶圆连续提取装置,包括有吸附提取组件包括真空分配器和吸附载盘,真空分配器的输出轴连接有吸附载盘,角度调节组件包括角度调节器和安装座,真空分配器的侧部设有支撑架,支撑架上安装有角度调节器,支撑架上设有安装架,安装座的一端与安装架铰接,安装座的另一端与角度调节器的输出轴铰接,安装座上安装有真空分配器,高度调节组件包括高度调节器,安装座上固定有高度调节器,高度调节器的输出轴传动连接有真空分配器,并带动真空分配器靠近或者远离安装架,本发明盘体的沟槽可供溢出的黏胶流入,以避免胶渗漏至硅晶圆与盘体之间而堵塞盘体的吸孔而造成吸附力下降,以防止硅晶圆因为吸附力不足导致晃动而破裂。
- 一种硅晶圆连续提取装置
- [发明专利]一种半导体材料的表面钝化方法-CN201911017817.9有效
-
闫一方
-
苏师大半导体材料与设备研究院(邳州)有限公司
-
2019-10-24
-
2022-01-11
-
H01L21/02
- 本发明提供一种半导体材料的表面钝化方法,涉及材料科学技术领域。该半导体材料的表面钝化方法,包括以下步骤:S1.准备好HCl溶液,将半导体材料置于HCl溶液中浸泡15‑30min,然后取出半导体材料使用蒸馏水对其表面进行清洗,清洗干净之后,将半导体材料送入到真空环境中进行干燥处理;S2.将半导体材料置于高温炉中,调节高温炉内的温度在1000‑1200℃范围内,在半导体材料的表面形成热氧化膜,然后利用氮气对半导体材料进行冷却。通过将形成的热氧化膜去除,然后再低温形成二氧化硅钝化层,使得二氧化硅钝化层可以更好的附着在半导体材料的表面,同时通过HCl溶液与HF溶液的处理,进一步去除了Na离子对半导体材料的影响,使得半导体材料的钝化效果大大提升。
- 一种半导体材料表面钝化方法
|