专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果193个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种钨酸铋-钒酸铋复合催化剂及其制备方法与应用-CN202310285482.9在审
  • 翟继卫;刘劲周 - 同济大学
  • 2023-03-22 - 2023-07-18 - B01J23/31
  • 本发明涉及一种钨酸铋‑钒酸铋复合催化剂及其制备方法与应用,催化剂是由单层片状的钨酸铋和纳米量子钒酸铋通过水热法合成,结合了压电材料和光催化剂的优点,具有成本低、易制备,结构独特,比表面积大,暴露更多边缘活性位点,载流子运输距离短等优势。制备的单层片状结构的Bi2WO6表面由于Br的存在使其带负电荷,增加了催化剂对正电荷染料RhB的吸附,进而对其有更好的降解性。将催化剂分散在乙醇‑水溶液或罗丹明B溶液中,在模拟太阳光和超声振动条件下可高效催化合成H2O2或降解罗丹明B。与现有技术相比,该催化剂合成程序简单,有利于规模化制备;材料成本低且绿色环保,有效拓展工业量产H2O2的合成工艺路线和低成本净化罗丹明B污染废水。
  • 一种钨酸铋钒酸铋复合催化剂及其制备方法应用
  • [发明专利]高电致应变的钛酸铋钠基无铅压电薄膜及其制备方法-CN202211726940.X在审
  • 沈波;朱坤;翟继卫 - 同济大学
  • 2022-12-30 - 2023-06-06 - H10N30/853
  • 本发明提供了一种高电致应变的钛酸铋钠基无铅压电薄膜,化学通式为:0.9212(Bi0.5Na0.5)TiO3‑0.0588BaTiO3‑0.02La0.7Sr0.3MnO3。本发明还提供了一种高电致应变的钛酸铋钠基无铅压电薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤S1,按照钛酸铋钠基无铅压电薄膜的化学通式的化学计量比称取硝酸铋、乙酸钠、乙酸钡、乙酸镧、乙酸锶溶于乙酸,制得第一溶液;步骤S2,按照钛酸铋钠基无铅压电薄膜的化学通式的化学计量比称取乙酰丙酮、钛酸四丁酯、四水合乙酸锰溶于乙二醇甲醚,制得第二溶液;步骤S3,将第一溶液和第二溶液混合得到混合溶液,调整混合溶液的浓度和酸碱度,制得前驱体溶液;步骤S4,清洗基片,并将基片吹干;步骤S5,将前驱体溶液涂覆在基片上,制备得到高电致应变的钛酸铋钠基无铅压电薄膜。
  • 高电致应变钛酸铋钠基无铅压电薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种窄带隙硫化铋纳米铁电半导体及其制备和应用-CN202211603709.1在审
  • 翟继卫;周小风;沈波 - 同济大学
  • 2022-12-13 - 2023-05-09 - B01J27/04
  • 本发明涉及一种窄带隙硫化铋纳米铁电半导体及其制备和应用,所述的硫化铋纳米铁电半导体采用低温水热反应合成,其中,包括两种形貌结构,分别为无规则的纳米颗粒聚集体和纳米棒集合体。本发明制备的窄带隙硫化铋纳米铁电半导体在超声作用下对废水中的有机染料降解效率高。与现有技术相比,本发明通过温和廉价的方法制备合成了富含硫缺陷的硫化铋纳米铁电半导体,该半导体在超声作用下表现出了较高的降解废水中有机染料的催化活性,在材料层面丰富了纳米铁电研究内容,在技术层面拓展了水处理技术途径,并且该降解废水中有机染料的净水工艺易于大规模推广应用。
  • 一种窄带硫化纳米半导体及其制备应用
  • [发明专利]一种纳米复合堆叠相变薄膜及其制备方法与应用-CN202211261934.1在审
  • 翟继卫;袁宇康;沈波 - 同济大学
  • 2022-10-14 - 2023-02-03 - H10N70/20
  • 本发明涉及一种纳米复合堆叠相变薄膜及其制备方法和应用,该纳米复合堆叠相变薄膜由Ta5Sb95薄膜和GeSb6Te薄膜交替排列成堆叠薄膜单元,堆叠薄膜单元为一层,其结构符合下列通式:[Ta5Sb95(a)/GeSb6Te(b)]1,其中10≤a≤20nm,20≤b≤40nm。与现有技术相比,本发明采用室温磁控溅射的方法制备的纳米堆叠薄膜,结构相较于目前纳米复合多层薄膜更加简单,有利于简化薄膜制备工艺,且具有两次稳定的相变过程,能够实现多级存储从而提高存储密度,还综合了Ta5Sb95和GeSb6Te的优势,可以通过控制结构参数对相变性能进行调控,在相变存储器应用方面具有充足的潜力。
  • 一种纳米复合堆叠相变薄膜及其制备方法应用

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top