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[发明专利]一维标准器长度测量误差标定装置及长度测量方法-CN202210396042.6在审
发明人：王国名;朱志忠;崔成君;董登峰;王博;周维虎;石俊凯;程智;梅东滨 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一维标准器长度测量误差标定装置和长度测量方法，一维标准器长度测量误差标定装置包括激光测距光路和PSD探测光路；激光测距光路包括沿着光路方向依次设置的第一激光管、第一APD探测器、合束器、准直器、第一分光棱镜、分色镜以及设置于分色镜的反射端的第二APD探测器；PSD探测光路包括沿着光路方向依次设置的第二激光管，合束器、准直器、第一分光棱镜、分色镜和以及设置于分色镜的透射端的PSD；激光测距光路用于测量复合靶镜在第一指定方向的位移量；PSD探测光路用于测量复合靶镜在第二指定方向的位移量和/或者复合靶镜的偏转角度。本发明可以消除精密测量过程中激光器受热量影响带来的位置漂移与角度漂移。
标准长度测量误差标定装置测量方法

[发明专利]精密转台误差测量装置-CN202210381695.7在审
发明人：王国名;王博;程智;石俊凯;崔成君;董登峰;朱志忠;周维虎;梅东滨 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01C25/00 文献下载
摘要：本发明提供一种精密转台误差测量装置，包括：两个复合靶标，用于分别设置在待测转台的两个旋转轴上；每个所述复合靶标能对第一波长激光进行镜面反射和对第二波长激光进行角锥反射器反射；两个测量组件，用于分别对应两个复合靶标设置；所述测量组件能向对应的复合靶标发射具有第一波长激光和第二波长激光的测量光束，接收对应复合靶标反射的第一波长激光并标定对应旋转轴的角度，接收对应复合靶标反射的第二波长激光并标定对应旋转轴的位移。本发明提供的精密转台误差测量装置，采用双站基准，由两个测量组件搭建垂直度和相交度测量基准，能够实现待测二维转台垂直度和相交度误差的一站式高精度检测，解决垂直度和相交度分离测量时过程误差不可控难题。
精密转台误差测量装置

[发明专利]一种激光跟踪仪跟踪能力测试装置及方法-CN201710061546.1有效
发明人：董登峰;王岩庆;程智;崔成君;周维虎;张明玉;王博;张滋黎;劳达宝;纪荣祎;袁江;王国名;石俊凯 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2017-01-26 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G01M11/00 文献下载
摘要：本发明涉及仪器检测技术领域，尤其涉及一种激光跟踪仪跟踪能力测试装置及方法，其装置包括一维跟踪能力测试模块，所述一维跟踪能力测试模块包括长直线电机平台和短直线电机平台，所述长直线电机平台上设有长直线导轨，所述长直线导轨上滑动连接所述短直线电机平台，所述短直线电机平台上设有与所述长直线导轨垂直的短直线导轨，所述短直线导轨上滑动连接设有靶球的固定座；所述长直线电机平台和所述短直线电机平台均与控制单元连接。本发明可以产生不同半径的标准圆弧，在进行一维跟踪能力测试过程中，实现合作目标可变半径的标准圆弧轨迹，为评价激光跟踪仪提供更加有效的决策数据。
一种激光跟踪能力测试装置方法

[发明专利]用于位移测量系统的电光相位调制器及位移测量系统-CN202310304061.6在审
发明人：高超;董登峰;周维虎;纪荣祎;石俊凯;潘映伶 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-03-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：本公开提出了一种用于位移测量系统的电光相位调制器及位移测量系统。该电光相位调制器，包括：壳体，内置有容纳空间，壳体上开设有入射口和出射口，偏振测量光由入射口射入容纳空间；调制晶体，设置在容纳空间内，被配置为调制来自入射口的偏振测量光，偏振测量光的偏振方向与调制晶体的调制电场方向成45°；以及四分之一波片，位于调制晶体和出射口之间，四分之一波片的光轴与调制晶体的调制电场方向成45°，偏振测量光经四分之一波片后由出射口射出至待测物上，待测物将偏振测量光经由四分之一波片反射回调制晶体，使得反射回调制晶体的偏振测量光与由入射口射入调制晶体的偏振测量光的偏振分量方向变化90°。
用于位移测量系统电光相位调制器

[发明专利]显微视觉入射光角度标定方法-CN202111617952.4在审
发明人：张滋黎;孟繁昌;纪荣祎;崔成君;王国名;石俊凯;潘映伶;王博;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G01B11/26 文献下载
摘要：本发明提供一种显微视觉入射光角度标定方法，包括固定线结构光光源与显微图像采集单元，二者相对位置固定；计算显微图像采集单元放大倍率；设置标定块使线结构光光源发射的线结构光经标定块反射后被显微图像采集单元采集；移动标定块使线结构光投射到第一平面，第一平面反射后被显微图像采集单元采集，在显微图像采集单元像平面上得到第一线结构光像；在同一水平面内移动标定块，使得线结构光投射到第二平面，第二平面反射后被显微图像采集单元采集，在显微图像采集单元像平面上得到第二线结构光像；计算第一线结构光像与第二线结构光像的像间距；计算显微视觉入射光角度。本发明装置制备简单，标定流程简单，可快速完成结构光入射角度的标定。
显微视觉入射角度标定方法

[发明专利]基于声光调制器的过焦扫描显微系统及测量方法-CN202111327686.1在审
发明人：霍树春;石俊凯;陈晓梅;李冠楠;姜行健;高超;刘立拓;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：本公开提供了一种基于声光调制器的过焦扫描显微系统及测量方法。该扫描显微系统包括：光源模块、分光模块、样品台、采集模块和测量模块。光源模块包括声光调制器，用于产生一系列波长可调的单色准直照明光束；分光模块用于将所述单色准直照明光束分为第一照明光束和第二照明光束；样品台用于固定待测样品并实现待测样品的显微对焦；采集模块用于采集光束从正面和背面照射至所述待测样品后形成的显微图像；测量模块，用于测量所述第一照明光束的波长值，并传送给外部上位机，由外部上位机反馈调控所述光源模块中声光调制器的控制参数，使所述光源模块输出设定波长的单色准直照明光束。
基于声光调制器扫描显微系统测量方法

[发明专利]定位装置及方法-CN202111297141.0在审
发明人：霍树春;石俊凯;高超;陈晓梅;李冠楠;姜行健;刘立拓;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本公开提供一种定位装置及方法，装置包括：采集模块(A)，用于产生照明光；调光模块(B)，用于对照明光进行分束，产生基准光和测量光；传感模块(C)，包括参考反射器(4)和测量反射器(5)，参考反射器(4)被配置成设于待测装置的固定基座上，以用于反射基准光，得到基准反射光，测量反射器(5)被配置成设于待测装置的移动部件上，以用于反射测量光，得到测量反射光；其中，调光模块(B)还用于对基准反射光与测量反射光进行合束，得到合束光；采集模块(A)还用于测量合束光的光谱数据，并输出光谱数据来定位移动部件。本公开的定位装置，测量分辨力可达埃米，系统结构简单，组装、操作方便，适用于多种测量场景。
定位装置方法

[发明专利]一种双亲性氟代醚分子的制备方法及其在锂电池中的应用-CN202211376877.1在审
发明人：郑奇峰;丁奎;石俊凯 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2022-11-04 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C07C43/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种双亲性氟代醚分子，其结构如下结构通式所示：其中，R1选自烷基链、烷氧基链或含芳香基的烷基链；m、n均为正整数；x选自1‑3。该材料作为锂二次电池电解液溶剂或共溶剂，能形成一种弱溶剂化作用的电解液体系，并且能适配高电压正极材料，从而提高锂金属电池的能量密度。研究表明，引入双亲性结构可以形成类似胶束的溶剂化结构，一方面可以形成一种弱溶剂化电解液，另一方面能提高盐溶解度，从而实现阴离子衍生的富含无机组分的SEI膜的构筑。
一种双亲性氟代醚分子制备方法及其锂电池中的应用

[发明专利]凸点高度测量装置及测量方法-CN202211703732.8在审
发明人：张滋黎;孟繁昌;石俊凯;程智;王博;张佳;朱志忠;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种凸点高度测量装置及测量方法，涉及光学测量技术领域。该装置包括：光源模块，用于输出光条并将光条从‑45°方向倾斜照射至球形微凸点和相邻基底面，照射至球形微凸点和相邻基底面上的光条被球形微凸点顶部部分区域和相邻基底面反射；接收器，用于接收被相邻基底面反射后的第一光束，以及由球形微凸点顶部部分区域反射后的第二光束；设置于接收器的成像平面上的图像探测器，用于对第一光束和第二光束进行成像，第一光束和第二光束在图像探测器上分别形成长条形亮斑和圆形光斑。本发明可以计算出凸点顶部距离基底面的高度值，实现凸点高度的精确测量。
高度测量装置测量方法

[发明专利]测量硅通孔三维轮廓的方法、装置、电子设备和存储介质-CN202111155704.2在审
发明人： 石俊凯;李冠楠;陈晓梅;姜行健;高超;霍树春;刘立拓;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本公开提出了一种测量硅通孔的三维轮廓的方法，该方法包括：将预设光谱范围内的激光分为第一激光束和第二激光束；将第一激光束照射到硅通孔上得到漫反射光；将第二激光束照射到反射装置上得到反射光；将漫反射光和反射光合为干涉光；将干涉光分为第三激光束和第四激光束；探测第三激光束得到干涉光的光强信号；探测第四激光束得到干涉光的光谱信号；记录光强信号和光谱信号；调整待测样品或反射装置的位置，重复执行将第一激光束照射到硅通孔上的步骤，直至硅通孔的每一待测层的光强信号和光谱信号均被记录；将硅通孔的每一待测层的光强信号和光谱信号输入预先训练完成的机器学习模型，利用机器学习模型计算硅通孔的三维轮廓。
测量硅通孔三维轮廓方法装置电子设备存储介质

[发明专利]基于非相干光源和波带片成像的掩模缺陷检测方法及系统-CN201911374143.8有效
发明人：刘立拓;周维虎;吴晓斌;王宇;陈晓梅;石俊凯;黎尧 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种基于非相干光源和波带片成像的掩模缺陷检测方法及系统，该检测系统包括光源，用于提供非相干极紫外光；滤光装置，用于缩小光源的带宽；聚焦装置，将通过滤光装置的光源聚焦到待检测掩模上；成像装置，用于将经过待检测掩模反射的光成像；以及探测器，探测经过成像装置形成的像。本发明提出利用非相干极紫外光源进行波带片成像，加入滤光片控制光源带宽，有效地消除了波带片成像色差；本发明的非相干光源相对于同步辐射源体积较小，且低相干，不需要加入扫描镜降低相干性，使光路系统进一步简化。
基于相干光源波带片成像缺陷检测方法系统

[发明专利]硅穿孔内衬层厚度测量方法-CN202210495702.6在审
发明人：霍树春;石俊凯;陈晓梅;李冠楠;姜行健;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开提供了一种硅穿孔内衬层厚度测量方法，包括：步骤1，向待测硅穿孔的侧壁斜向入射一光波，获取待测硅穿孔内返回的回归光波；步骤2，根据光波的入射位置、入射角度与待测硅穿孔的几何结构参数，建立不同厚度内衬层的硅穿孔的光学传播模型；步骤3，获取回归光波的反射率；步骤4，根据回归光波的反射率、入射光波的波长和硅穿孔的光学传播模型得到硅穿孔内衬层的厚度。本公开通过使用光束测量硅穿孔内衬层，可以灵活地测量所有几何结构的硅穿孔，同时通过测量回归光波的反射率测量内衬层厚度具有高精度，从而本公开可用于导体、半导体、绝缘体等材料构成的微孔、微槽的内壁粗糙度。
穿孔内衬厚度测量方法

[发明专利]一种透明样品亚表面标准缺陷数据库的创建方法及装置-CN202210444957.X在审
发明人：刘立拓;王娜;宋晓娇;王盛阳;石俊凯;霍树春;陈晓梅;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-26 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G06F16/583 文献下载
摘要：本发明提供一种透明样品亚表面标准缺陷数据库的创建方法及装置，方法包括：根据预设的亚表面标准缺陷参数创建虚拟透明样品；利用仿真激光作用于虚拟透明样品的亚表面，获得虚拟透明样品亚表面标准缺陷对应的近场光场分布数据；根据近场光场分布数据确定对应的目标远场光强分布数据；根据目标远场光强分布数据及对应的亚表面标准缺陷参数创建透明样品亚表面标准缺陷数据库；如此，可根据所需要的标准缺陷参数创建对应的虚拟透明样品，相比于现有技术中标准样品的制作，样品制作效率较高；并且本申请是利用仿真数据确定最终的目标远场光强分布数据，减小人为实验误差，提高标准缺陷库的准确度。
一种透明样品表面标准缺陷数据库创建方法装置

[发明专利]一种过硅孔钝化层的厚度测量装置-CN202210478408.4在审
发明人：霍树春;石俊凯;陈晓梅;李冠楠;姜行健;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开提供了一种过硅孔钝化层的厚度测量装置，包括入射光调控装置，用于调整原始光束，使其形成环形的入射光；凸透镜，用于调整入射光的角度，使其斜向入射过硅孔钝化层，并接收过硅孔钝化层反射的反射光；光谱/光强测量装置，用于接收反射光，并测量反射光的光谱/光强，根据入射光的光谱/光强与反射光的光谱/光强，计算过硅孔钝化层的反射率，并根据反射率计算过硅孔的钝化层的厚度。本公开通过设置入射光调控装置、凸透镜和光谱/光强测量装置，使得本公开可以调控测量光束的截面形状，从而灵活地测量多种形状的过硅孔，通过测量回归光波的反射率测量钝化层厚度使得测量结果具有高精度，具有广泛的应用场景。
一种钝化厚度测量装置

[发明专利]基于光谱调制的自启动Mamyshev光纤振荡装置-CN202011642665.4在审
发明人： 石俊凯;李冠楠;姜行健;陈晓梅;高超;刘立拓;董登峰;周维虎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01S3/067 文献下载
摘要：本公开提供一种基于光谱调制的自启动Mamyshev光纤激光振荡器，包括：两光谱滤波器，两泵浦源，两波分复用器，两光纤增益展宽器，两输出耦合器，两光学隔离器，所述光纤增益展宽器，包括增益光纤和无源光纤所述自启动Mamyshev光纤振荡装置可以有效提高Mamyshev振荡器的自启动性能，不会增加激光器结构的复杂性，有助于集成化设计，同时维持较高的输出能量。
基于光谱调制启动 mamyshev 光纤振荡装置

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