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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板处理装置、基板处理方法和存储介质-CN201810798557.2有效
发明人：井关智弘;田中启一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-07-19 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置、基板处理方法和存储介质，改善掩膜图案的表面的粗糙并抑制掩膜图案的轮廓形状发生变化。所述装置具备：载置台(24)，其在处理容器(21)内载置表面形成有图案掩膜(12)的基板(W)；减压机构(32)，其对所述处理容器(21)内进行减压；光照射机构(42)，其在所述处理容器内被减压并且达到1Pa以下的压力之后向所述基板(W)照射真空紫外光来改善所述图案掩膜(12)的表面的粗糙；以及控制部，其输出控制信号，以使在所述处理容器(21)内从10000Pa以上的压力减压到1Pa的期间中由所述减压机构(32)进行减压的该处理容器(21)内的减压速度为250Pa/秒以下。
处理装置方法存储介质

[发明专利]具有空间原子层沉积的自对准式双图案化-CN202010350832.1有效
发明人：李宁;V·恩古耶;M·巴尔西努;夏立群;田中启一;S·D·马克斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-01-13 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供了自对准式双图案化方法，所述方法包括特征修整。在单个批处理腔室中执行SADP工艺，在所述单个批处理腔室中，基板在处理腔室的被气体幕分开的区段之间侧向移动，使得每个区段独立地具有工艺条件。
具有空间原子沉积对准图案

[发明专利]通过表面毒化处理的由下而上的间隙填充-CN201680061712.1有效
发明人： M·萨利;田中启一;E·文卡塔苏布磊曼聂;M·斯里拉姆;B·J·布扬;P·曼纳;D·汤普森;A·肖特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-10-19 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L21/3205 文献下载
摘要：用于沉积膜的方法包含使基板表面暴露于有机基毒化剂，以相对于特征的底部优先抑制在特征的顶部的膜生长并沉积膜。可以使基板暴露于毒化剂任意次数以促进在特征中由下而上的膜生长。
通过表面毒化处理由下而上间隙填充

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置和存储介质-CN202111146745.5在审
发明人： 田中启一;吉原孝介;近藤良弘;村松诚;小玉辉彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明的课题在于改善使用了适于EUV光刻的抗蚀剂材料的基板的曝光时的灵敏度。在基板处理方法中，在处理容器内，对形成有基于EUV光刻用抗蚀剂材料的抗蚀剂膜的基板的表面，在曝光处理前照射包含真空紫外光的光。
处理方法装置存储介质

[发明专利]连接器及工具更换装置-CN201980095143.6在审
发明人： 田中启一 -专利权人：必爱路自动化设备株式会社
申请日： 2019-04-08 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： H01R13/52 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种可抑制因液体的侵入而邻接的端子间电短路的连接器。本发明的连接器包括：公端子，具有柱状的底座及从所述底座的顶面突出的圆柱状的凸部；以及母端子，具有筒状的插座，所述插座在顶面具有开口且具有能够与所述凸部嵌合的凹部，所述公端子具有与所述底座相接并包围所述凸部的密封材，在所述公端子及所述母端子的嵌合状态下，所述密封材以包围所述开口的方式与所述插座的顶面相接。
连接器工具更换装置

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202010877451.9在审
发明人： 田中启一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置、基片处理方法和存储介质。基片处理装置(1)包括：在处理容器内保持基片的保持部，其中上述基片在表面形成有由EUV光刻用抗蚀剂材料构成的图案；使上述保持部旋转的旋转驱动部；和具有多个光源的光源部，其对由上述保持部保持的上述基片的表面照射包含真空紫外光的光，其中上述保持部通过上述旋转驱动部以0.5rpm～3rpm的转速旋转。本发明能够在使用了适合于EUV光刻的抗蚀剂材料的基片中改善表面的粗糙度。
处理装置方法存储介质

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202010878313.2在审
发明人： 田中启一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置、基片处理方法和存储介质。基片处理装置(1)包括：在处理容器内保持基片的保持部，其中该基片在表面形成有由ArF液浸光刻用抗蚀剂材料构成的图案；使保持部旋转的旋转驱动部；和具有多个光源的光源部，其对通过旋转驱动部旋转的保持部所保持的基片的表面照射包含真空紫外光的光，使从光源部对基片的内侧照射光的照射量比从光源部对基片的外侧照射光的照射量大。本发明能够在使用适合于ArF液浸光刻的抗蚀剂材料的基片上改善表面的粗糙度。
处理装置方法存储介质

[发明专利]具有开槽接地板的等离子体模块-CN201680052156.1有效
发明人： J·约德伏斯基;J·C·福斯特;K·贝拉;S·坎德沃尔;M·斯里拉姆;田中启一;K·竹下;N·坂本;T·柳川 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-09-09 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体源组件，包括壳体；与壳体电连通的阻隔板，与壳体电连通的阻隔板，该阻隔板具有限定场域的内周边缘、外周边缘、第一侧和第二侧，细长槽在所述场域内并且延伸穿过所述阻隔板，细长槽具有长度与宽度；以及在壳体内的RF热电极，RF热电极具有正面和背面，内周端和外周端，RF热电极的正面与阻隔板隔开以限定间隙。
具有开槽接地等离子体模块

[发明专利]具有空间原子层沉积的自对准式双图案化-CN201580004367.3有效
发明人：李宁;V·恩古耶;M·巴尔西努;夏立群;田中启一;S·D·马克斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-01-13 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：提供了自对准式双图案化方法，所述方法包括特征修整。在单个批处理腔室中执行SADP工艺，在所述单个批处理腔室中，基板在处理腔室的被气体幕分开的区段之间侧向移动，使得每个区段独立地具有工艺条件。
具有空间原子沉积对准图案

[发明专利]基于巨噬细胞游走抑制因子的抑制作用的疾病的治疗剂-CN201480040609.X有效
发明人： 田中启一;森本贵美子 -专利权人：富山化学工业株式会社
申请日： 2014-07-17 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： A61K31/352 文献下载
摘要：本发明的通式[1]表示的苯并吡喃衍生物或其盐与巨噬细胞游走抑制因子(MIF)结合，显示MIF抑制作用，对于通过抑制MIF而显示出有效性的疾病的治疗或预防等的处理有效(式[1]中，R1表示可被取代的C1‑6烷基；R2和R3之一表示氢原子；R2和R3中的另一者表示氢原子、可被取代的氨基、可被取代的酰氨基、可被取代的氨基甲酰基或可被取代的芳基)。
基于巨噬细胞游走抑制因子作用疾病治疗

[发明专利]利用空间原子层沉积的原位膜退火-CN201680072606.3在审
发明人： 田中启一;A·肖特;M·斯里拉姆;S·冈迪科塔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-09 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：用于填充半导体特征的间隙的方法包括将基板表面暴露于前驱物和反应物并暴露于退火环境以降低沉积的膜的湿法蚀刻速率比率，并且填充间隙。
填充退火半导体特征原子层沉积基板表面湿法蚀刻速率比率退火环境反应物前驱物原位膜暴露沉积

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201410136462.6有效
发明人： 田中启一;吉原孝介;井关智弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-04-04 - 公布日： 2018-02-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够在对显影后的基板进行清洗时抑制形成抗蚀剂图案的壁部的倒塌和上述图案的线宽度的变化的技术。进行以下工序为了形成抗蚀剂图案而向曝光后的基板的表面供给显影液的显影工序；接着，向上述基板的该表面供给清洗液、从基板除去由于上述显影而产生的残渣的清洗工序；接着，向上述基板的表面供给置换液、利用上述置换液置换上述基板上的清洗液的置换工序，其中，该置换液的表面张力为50mN/m以下，含有浸透抑制剂，以抑制对构成上述抗蚀剂图案的抗蚀剂的壁部的浸透；和接着，使上述基板旋转并且向基板的中心部供给气体而形成干燥区域，利用离心力使上述干燥区域扩展至基板的周缘部，由此使基板的表面干燥的干燥工序。
处理方法装置

[发明专利]连接器和使用了该连接器的工具更换装置-CN201480041252.7在审
发明人： 田中启一 -专利权人：必爱路自动化设备株式会社
申请日： 2014-06-12 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： H01R13/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供连接器和使用了该连接器的工具更换装置，其电连接可靠性高、能容易且可靠地进行公端子和母端子的嵌合脱离。所述连接器具备大体圆柱状的公端子和能与公端子嵌合的母端子，所述公端子具有朝前端方向直径逐渐缩小的锥形部，所述母端子在内周面的与所述锥形部抵接的抵接位置具有隆起部。所述锥形部的轴向的直径缩小率可以大体固定，作为所述锥形部的锥角优选1°以上10°以下。所述隆起部只与所述公端子的锥形部抵接。所述隆起部由朝向轴向配置且在中央部向内侧弯曲的多个带状构件形成。所述连接器具备直立设置有所述公端子的公连接器部以及直立设置有所述母端子的母连接器部，所述公连接器部和母连接器部能嵌合。
连接器使用工具更换装置

[发明专利]类风湿性关节炎等自身免疫疾病的处置的改善方法-CN201280041819.1在审
发明人： 田中启一 -专利权人：富山化学工业株式会社
申请日： 2012-08-29 - 公布日： 2014-05-28 - 主分类号： A61K31/352 文献下载
摘要：本发明的组合使用艾拉莫德或其盐和一种以上免疫抑制剂的方法可用作减轻副作用的自身免疫疾病的处置方法，含有它们的药物组合物可用于处置自身免疫疾病。本发明的方法和药物组合物可用于处置更重度的自身免疫疾病。
类风湿性关节炎自身免疫疾病处置改善方法

[发明专利]老化程度判定装置-CN201080065229.3有效
发明人：石川智康;田中启一 -专利权人：丰田自动车株式会社
申请日： 2010-06-18 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： B60R16/04 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在车辆运行过程中判定电池老化程度的老化程度判定装置。判定车辆电池老化程度的老化程度判定装置包括：为判定上述电池的老化程度而以上述电池的电力来驱动上述车辆的非行驶系统电装件的电装件驱动部；获取在由上述电装件驱动部驱动上述电装件而使上述电池放电预定时间之后利用上述车辆的发电机的发电电力使上述电池的充电状态增大至预定程度时的充电程度的充电程度获取部；及基于由上述充电程度获取部获取的上述充电程度对上述电池的老化程度进行判定的老化程度判定部。
老化程度判定装置

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