“王画然”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法-CN202110089100.6有效
发明人：蒋文波;王画然;周波;卜云;宋潇潇;付钱华;郭奕;黄永茂 -专利权人：西华大学
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法。该光刻对准标记包括硅片标记和掩膜标记，两个标记外部轮廓尺寸相同，均由五个边长相同的正方形呈十字型排列构成，通过重合外部轮廓可以完成硅片和掩膜两个平面的粗对准，硅片标记和掩膜标记内部设计有独特的图形结构和光栅结构，通过观察粗对准后的掩膜标记和硅片标记内部图形及光栅产生的莫尔条纹实现了硅片和掩膜两个平面倾角和旋转角的定量检测。本发明为了解决现有技术中小偏移量捕捉方法复杂、掩膜‑硅片两平面之间存在倾角和旋转角等问题，设计了独特的光刻对准标记，优化了对应的光刻对准方法，具有对准过程简易，对准效果好，对准精度高的优点。
一种测量倾角旋转光刻对准标记方法

[发明专利]一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法-CN202210035089.X有效
发明人：蒋文波;王画然 -专利权人：西华大学
申请日： 2022-01-13 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法，该曲面复眼透镜为半球形结构，半球形结构由内至外依次包括半球型曲面焦面、弹力膜以及曲面微透镜阵列，所有级次子眼构成曲面微透镜阵列，所有级次子眼包括位于曲面微透镜阵列中心的一级子眼以及以一级子眼为圆心设置的多圈n级子眼，其中n为大于等于2的整数。半球型曲面焦面向弹力膜的一面均匀设置有若干个与子眼一一对应的感光传感器。本发明通过数字微反射镜DMD数字光刻对微透镜结构进行三维光刻，仅需要进行一次倒模即可获得微透镜阵列。子眼的口径、矢高以及曲面复眼透镜的曲率半径可控，制造的微透镜尺寸和面形精度高以及表面均匀性好，且制备工艺简单，成本低。
一种基于 dmd 数字光刻曲面复眼透镜及其制备方法

[实用新型]一种用于超分辨成像的介质微球磁控软体装置-CN202223507851.4有效
发明人：王靖淳;蒋文波;王画然 -专利权人：西华大学
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G02B27/58 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于超分辨成像的介质微球磁控软体装置，其包括底座以及通过支撑架设置在底座上的介质微球操作台和三维电磁线圈，三维电磁线圈包括两个轴线重合的第一线圈、两个轴线重合的第二线圈和两个轴线重合的第三线圈，第一线圈、第二线圈和第三线圈的轴线均相互垂直，介质微球操作台上设置有水平槽箱，水平槽箱内放置有若干介质微球，介质溶液内设置有受磁场驱动的磁性软体操作手，磁性软体操作手呈透明状，磁性软体操作手的底部设置有一个开口朝下的半球槽，介质微球的上半部置于半球槽内，磁性软体操作手的顶部设置有用于定位的十字标记；本方案通过磁驱动的方式，实现对介质微球移动的无接触操控，其结构简单、操控精度高。
一种用于分辨成像介质微球磁控软体装置

[发明专利]一种基于介质微球超分辨成像的复合光刻对准系统及方法-CN202111027353.7在审
发明人：蒋文波;王画然 -专利权人：西华大学
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于介质微球超分辨成像的复合光刻对准系统及方法，包括分束器，分束器的一端依次安装有显微物镜、掩膜和硅片，分束器的另一端依次安装有低通滤波片、镜筒透镜和CMOS相机，所述分束器的一侧安装有激光器，所述激光器与分束器之间设置有柯勒照明系统；掩膜的一端设有介质微球层，掩膜上设有第一对准标记、第二对准标记和第三对准标记，硅片上设有与掩膜上标记分别匹配的第四对准标记、第五对准标记和第六对准标记。本发明通过设置低通滤波片、柯勒照明系统和介质微球层等光学器件或子系统，提高了对准图像的分辨率；并通过粗对准、精对准预处理和精对准等步骤，实现了掩膜和硅片的高精度对准。
一种基于介质微球超分辨成像复合光刻对准系统方法

[实用新型]一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统-CN202120399493.6有效
发明人： 王画然;蒋文波;刘雪梅;卜云;宋潇潇;付钱华;郭奕 -专利权人：西华大学
申请日： 2021-02-23 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻技术领域，具体涉及一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统，其包括依次共轴设置第二反射镜、第三分光镜、第一分光镜、第二分光镜、光子筛、掩膜和硅片；第一分光镜一侧依次共轴设有对准光源和第一准直透镜，且第一准直透镜邻近第一分光镜；第二分光镜一侧依次共轴设有曝光光源和第二准直透镜，且第二准直透镜邻近第二分光镜；第三分光镜相对的两侧分别设有第一反射镜和CCD相机。采用分区域结构设计的双波长光子筛替代传统的投影物镜，解决了为了透过波长不同的对准光源和曝光光源，物镜镜片需镀双峰增透膜而导致系统结构复杂、透射率低的问题，既保证了双光源同时成像，又具有优良的聚焦成像性能，且降低了系统复杂度。
一种基于波长光子光源光刻对准系统