专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]俯仰可调式CFRP板顺向张拉锚固装置-CN202320972630.X有效
  • 陆伟;陈小英;杨港;卓静;石杨;鲁鹏;王晗笑;罗德康;蒋月龙;苟江月 - 重庆达力索缆科技有限公司
  • 2023-04-26 - 2023-09-22 - E04C5/12
  • 本申请公开一种俯仰可调式CFRP板顺向张拉锚固装置,包括锚固座、连接件和CFRP锚具,连接件通过转轴与所述锚固座转动连接,CFRP锚具通过牵引螺杆与连接件滑动连接,在CFRP锚具与连接件之间可拆卸式的设置有预应力调节机构,预应力调节机构用于调节CFRP锚具在牵引螺杆上的滑动位置,在牵引螺杆上还设置有用于锁定CFRP锚具滑动位置的锁紧螺母。在预应力调节机构对CFRP板施加预应力的过程中,CFRP锚具能在转轴的作用下自适应调节其相对待加固结构件的夹角,以应对CFRP板与CFRP锚具间因截面变化和材料刚度变化而引起的应力集中,消除垂直于CFRP板平面的外力,在高效施加预应力的同时防止CFRP板脆断。
  • 俯仰调式cfrp锚固装置
  • [发明专利]一种硅通孔铜膜抛光液-CN202111218996.X有效
  • 宋英英;王晗笑;姜鉴哲;张琳 - 博力思(天津)电子科技有限公司
  • 2021-10-20 - 2023-07-28 - C09G1/02
  • 本发明为一种硅通孔铜膜抛光液,其组成包含磨料、两种或两种以上螯合剂、碟形坑抑制剂,其特征为:所述磨料中具有大、中、小三种级别的不同粒径按比例混合而成,其中大级别指磨料粒径在70‑120nm范围内取值,中级别指磨料粒径在50‑80nm范围内取值,小级别指磨料粒径在30‑50nm范围内取值,三种级别的粒径在选取时按照等差数列的方式在相应范围内选择;所述螯合剂为甘氨酸与碱性氨基酸的混合物。该抛光液在CMP过程中,能快速去除铜膜,同时有效抑制铜膜表面凹凸平台之间的台阶高度。
  • 一种硅通孔铜膜抛光
  • [实用新型]一种具有改良型调整轮的无心磨床-CN202221890974.8有效
  • 刘建亮;王晗笑 - 烟台晟杰自动化科技有限公司
  • 2022-07-21 - 2022-11-08 - B24B5/30
  • 本实用新型涉及无心磨床领域,具体为一种具有改良型调整轮的无心磨床,包括磨床,所述磨床上方设有磨砂机构和调整轮机构,所述磨砂机构和调整轮机构在同一水平线上,所述调整轮机构一侧设有调整轮轴,调整轮电机输出轴穿过键的轴孔固定安装在调整轮轴上,调整轮轴上套接有若干调整轮;该具有改良型调整轮的无心磨床通过设有燕尾键、限位块、调整轮等,当需要磨削不同直径的工件时,可将限位块上的螺钉拧下,取出燕尾键,并更换合适大小的调整轮套在调整轮轴上,该方案通过对不同直径的调整轮的快速更换和自由拼装可实现对不同直径的工件进行同步磨削工作。
  • 一种具有改良调整无心磨床
  • [实用新型]一种轴销零部件加工用表面精抛光装置-CN202222230158.0有效
  • 邹黎明;王晗笑 - 烟台晟杰自动化科技有限公司
  • 2022-08-24 - 2022-11-08 - B24B5/04
  • 本实用新型涉及抛光技术领域,具体为一种轴销零部件加工用表面精抛光装置,包括底架,所述底架上安装有轴销固定组件和打磨组件保护壳,所述打磨组件保护壳内安装有打磨组件,所述打磨组件保护壳上开设有打磨盘槽。本实用新型在底架上设有打磨组件和轴销固定组件,将打磨组件设置于打磨组件保护壳内部,在打磨组件保护壳上开设打磨盘槽,使打磨盘一半置于打磨组件保护壳内,一半从打磨盘槽伸出至于打磨组件保护壳外,避免机器磕碰受损,开启电机,通过挪动轴销固定组件,使轴销表面接触到打磨盘,可对轴销进行打磨。
  • 一种零部件工用表面抛光装置
  • [发明专利]一种硅通孔阻挡层碱性抛光液-CN202111219053.9有效
  • 姜鉴哲;王晗笑;宋英英;张琳 - 博力思(天津)电子科技有限公司
  • 2021-10-20 - 2022-09-06 - C09G1/02
  • 本发明为一种硅通孔阻挡层碱性抛光液,包括甘氨酸、精氨酸和唑类化合物,所述精氨酸的加入质量至少为甘氨酸加入质量的1倍,精氨酸含有胍基,精氨酸里的胍基与唑类化合物联合使用时,调配钽和铜的去除速率比。精氨酸分子结构既包含氨基、羟基提供螯合作用,同时精氨酸自带包含胍基,且为碱性氨基酸,作为钽的速率提升剂加速去除钽,通过调整精氨酸中的胍基含量调节金属钽和铜的去除速率选择比,唑类化合物既与氨基、羟基作用,也与胍基作用,既能起到缓蚀金属铜的作用,还能起到良好的修正碟形坑作用。
  • 一种硅通孔阻挡碱性抛光

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