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- [实用新型]一种测试装置-CN202320033649.8有效
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袁俊超;吴晓萍;蒋延标
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江苏永鼎光电子技术有限公司
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2023-01-06
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2023-09-15
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G01R31/28
- 本实用新型公开了一种测试装置,涉及光芯片生产技术领域;而本实用新型包括操作台、温度控制器和数据显示器,所述温度控制器位于操作台上方,所述数据显示器位于操作台上方,所述操作台外侧面固定设有加热板,所述加热板远离操作台的一侧呈路径阵列分布的承载台,所述承载台内开设有卡槽,所述操作台靠近加热板的一侧开设有T型滑道,所述T型滑道内滑动设有T型滑块;本实用新型中通过设置了若干个承载台和加热板,可以对光芯片进行加热检测,可以通过温度控制器控制温度,通过数据显示器进行实时监控,本实用新型中通过设置了负极针和探针可以对芯片进行通电检测,然后通过数据显示器进行电流进行测试。
- 一种测试装置
- [实用新型]一种放置机构-CN202223444849.7有效
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马泽斌;李文强;蒋延标
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江苏永鼎光电子技术有限公司
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2022-12-22
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2023-08-04
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B25B11/00
- 本实用新型公开了一种放置机构,涉及光芯片生产技术领域;而本实用新型包括一号底座,所述一号底座外侧固定设有呈对称分布的一号插块,所述一号底座靠近一号插块的一侧活动插设有二号底座,所述二号底座远离一号底座的一侧固定设有呈对称分布的二号插块,所述二号底座靠近二号插块的一侧活动插设有三号底座,所述一号底座的外侧固定设有一号支撑板;本实用新型通通过设置了一号底座、二号底座和三号底座可以对放置块进行前后前后左右进行移动,方便在生产过程中对光芯片进行加工,本实用新型中通过设置了双向丝杆、T型滑块、一号夹板和三号夹板对任意规格的光芯片进行夹紧固定,方便对其进行加工。
- 一种放置机构
- [实用新型]一种检测设备-CN202223276468.2有效
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吴晓萍;袁俊超;蒋延标
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江苏永鼎光电子技术有限公司
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2022-12-07
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2023-06-13
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G01N21/89
- 本实用新型公开了一种检测设备,涉及半导体生产检测技术领域;而本实用新型包括呈圆形的转板,所述转板上贯穿开设有三个呈环形分布呈圆形的放置槽,其中一个所述放置槽正上方设有竖直设置的下料筒,所述转板正下方设有直径大于自身的固定板;本实用新型中电机通过立杆带动摆动板和摆动杆进行转动,使得摆动杆推动活动板进行转动,当摆动杆随之摆动板转动一圈后,将重新插设在活动板上的下一活动槽内,驱动轴间歇转动,当一个硅片从下料口排出后,下料筒内的硅片将会一个个自动间歇下料,可无需工作人员一个个进行下料,再进行检测,提高对半导体硅片的检测效率,减少工作人员的工作量。
- 一种检测设备
- [实用新型]一种成品检测台-CN202223276513.4有效
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吴晓萍;袁俊超;蒋延标
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江苏永鼎光电子技术有限公司
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2022-12-07
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2023-06-13
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G01R31/26
- 本实用新型公开了一种成品检测台,涉及半导体成品检测台技术领域;而本实用新型包括平台,所述平台下表面四角处设有竖直设置的立柱,所述立柱同平台间设有调节装置,所述平台上表面一端开设有放置槽,所述放置槽内设有分隔装置;本实用新型中电机通过连接轴驱动第一皮带和第二皮带进行转动,使得转轴带动与之连接设置的螺杆进行转动,当螺杆在顶杆内转动时,将使得顶杆上移,第二皮带可使得另外一个不与电机连接的连接轴进行转动,从而使得一个电机工作时可一并驱动四个转轴同时带动螺杆转动,使得四个顶杆同时推动平台稳定上移,根据检测人员的实际情况进行调节,方便检测人员进行对平台上的半导体成品进行检测。
- 一种成品检测
- [发明专利]一种半导体生产用加工设备-CN202211628519.5在审
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蒋延标;李文强;马泽斌;李靖亮
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江苏永鼎光电子技术有限公司
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2022-12-17
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2023-04-18
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B21F1/00
- 本发明公开了一种半导体生产用加工设备,涉及半导体生产的技术领域;而本发明包括输送装置,所述输送装置包括有进料输送带机构和出料输送带机构,所述输送装置上固定安装有型模座,电机通过同步带使进料输送带机构和出料输送带机构同步转动,并通过主动齿轮传动被动齿轮转动,使摇臂通过拉条带动凹形架反复式滑动,继而通过凹形框使芯片半导体追一的输送至凹形块处,而凹形架同时通过连杆机构使压条能将多个引脚压持呈L形状,当凹形架反向滑动时,能通过齿条传动第一齿轮转动,通过丝杆传动推框沿横板向上移动,使芯片半导体能翻转脱料,并通过出料输送带机构快速出料,实现芯片半导体的引脚高效率加工。
- 一种半导体生产加工设备
- [发明专利]一种浸入式光刻设备-CN202211610866.5在审
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蒋延标;李文强;马泽斌;李靖亮
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江苏永鼎光电子技术有限公司
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2022-12-14
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2023-04-18
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G03F7/20
- 本发明公开了一种浸入式光刻设备,具体涉及光刻设备技术领域,包括置物外框,所述置物外框的底部设有定位机构,所述定位机构的底端固定安装有支撑底座,所述定位机构的一侧设有电机,所述置物外框、定位机构的中部设有排液组件,所述置物外框的一侧设有干燥组件,本发明,通过设置置物外框、定位机构,配合使用排液组件,对硅片进行夹持定位,从而提升后续硅片浸入式光刻的稳定性,且可对置物外框中的液体介质进行热传导冷却,防止光刻时,液体介质升温出现气泡,影响硅片浸入式光刻的质量,以及硅片光刻完毕后,解除定位的同时,并置物外框中的排空液体介质,从而便于后续光刻后硅片的干燥以及卸料。
- 一种浸入光刻设备
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