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[发明专利]具有导通控制的化学沉积设备-CN202110249882.5有效
发明人：拉梅什·钱德拉赛卡兰;卡尔·利泽;夏春光;杰里米·塔克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2014-07-03 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：一种具有导通控制的化学沉积设备，其包括：具有面板和背板的喷头模块，所述喷头模块包括输送反应器化学成分到腔体以及清除反应器化学成分的排放出口；基座模块，其被配置为支撑衬底，并且垂直移动以关闭所述基座模块与所述面板的外部之间的腔体；以及至少一个导通控制组件，经由所述排放出口流体连通所述腔体。所述至少一个导通控制组件选自以下各项中的一个或多个：磁耦合旋转板和/或基于线性的磁系统。
具有控制化学沉积设备

[发明专利]具有导通控制的化学沉积设备-CN201910353875.2有效
发明人：拉梅什·钱德拉赛卡兰;卡尔·利泽;夏春光;杰里米·塔克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2014-07-03 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：一种具有导通控制的化学沉积设备，其包括：具有面板和背板的喷头模块，所述喷头模块包括输送反应器化学成分到腔体以及清除反应器化学成分的排放出口；基座模块，其被配置为支撑衬底，并且垂直移动以关闭所述基座模块与所述面板的外部之间的腔体；以及至少一个导通控制组件，经由所述排放出口流体连通所述腔体。所述至少一个导通控制组件选自以下各项中的一个或多个：球阀组件、流体阀、磁耦合旋转板和/或基于线性的磁系统。
具有控制化学沉积设备

[发明专利]整体式陶瓷气体分配板-CN201880050217.X在审
发明人： 杰里米·塔克;兰基山·拉奥·林加姆帕利 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-07-26 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理室(其中能处理半导体衬底)中的整体式陶瓷气体分配板包括：整体式陶瓷体，其具有上表面、下表面以及在上表面和下表面之间延伸的外圆柱形面。下表面包括在均匀间隔开的第一位置处的第一气体出口，第一气体出口通过第一组竖直延伸的通孔与上表面中的第一气体入口流体连通，第一组竖直延伸的通孔将第一气体入口与第一气体出口连接。下表面还包括在与第一位置相邻的均匀间隔开的第二位置处的第二气体出口，第二气体出口通过第二组竖直延伸的通孔与整体式陶瓷体内的内部气室流体连通，第二组竖直延伸的通孔将第二气体出口与内部气室连接。内部气室与位于上表面的中心部分中的第二气体入口流体连通；内部气室由内上壁、内下壁、内外壁和在内上壁和内下壁之间延伸的成组的柱限定。第一组竖直延伸的通孔中的每一个穿过柱中的相应的一个柱以将第一气体和第二气体隔离开。
整体陶瓷气体分配

[发明专利]具有导通控制的化学沉积设备-CN201410314732.8有效
发明人：拉梅什·钱德拉赛卡兰;卡尔·利泽;夏春光;杰里米·塔克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2014-07-03 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种具有导通控制的化学沉积设备，其包括：具有面板和背板的喷头模块，所述喷头模块包括输送反应器化学成分到腔体以及清除反应器化学成分的排放出口；基座模块，其被配置为支撑衬底，并且垂直移动以关闭所述基座模块与所述面板的外部之间的腔体；以及至少一个导通控制组件，经由所述排放出口流体连通所述腔体。所述至少一个导通控制组件选自以下各项中的一个或多个：球阀组件、流体阀、磁耦合旋转板和/或基于线性的磁系统。
具有控制化学沉积设备

[发明专利]包括等温处理区的等离子体处理设备-CN201410317527.7有效
发明人：拉梅什·钱德拉赛卡兰;杰里米·塔克;卡尔·利泽;艾伦·斯考普 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2014-07-03 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及包括等温处理区的等离子体处理设备，即涉及一种具有等温处理区的用于处理半导体衬底的沉积设备，其包括化学离析室，半导体衬底在化学离析室中处理。处理气体源流体连通喷头模块，喷头模块从处理气体源输送处理气体到等温处理区，其中喷头模块包括：面板，其中面板的下表面形成限定等温处理区的腔体的上壁；背板；和隔离环，隔离环包围面板和背板。至少一个压缩密封件被压缩在面板与背板之间，在面板与背板之间形成中心气体充气室。衬底基座模块被配置为加热并支撑半导体衬底，其中基座模块的上表面在化学离析室内形成限定等温处理区的腔体的下壁。真空源流体连通等温处理区，以便从等温处理区抽空处理气体。
包括等温处理等离子体设备

[发明专利]具有气体密封的化学沉积室-CN201711373152.6在审
发明人：拉梅什·钱德拉赛卡兰;杰里米·塔克;桑格伦特·桑普伦格 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-12-19 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及具有气体密封的化学沉积室。具有在化学隔离室内形成的化学沉积室的化学沉积装置包括气体密封。化学沉积室包括喷头模块，该喷头模块具有带气体入口的面板，气体入口用于将反应器化学物质输送到晶片腔以处理半导体衬底。喷头模块包括主排放气体出口，以从晶片腔去除反应气体化学物质和惰性气体。惰性气体供给装置输送密封气体，所述密封气体至少部分地通过喷头模块的台阶与基座模块之间的间隙径向向内流动以形成气体密封。次排放气体出口抽出流过间隙的惰性气体中的至少一些，以提供高的佩克莱特数。
化学沉积喷头模块气体密封惰性气体化学物质密封气体气体入口晶片腔惰性气体供给装置排放气体出口反应气体化学隔离基座模块间隙径向气体出口反应器主排放衬底向内去除半导体抽出室内流动

[发明专利]空心阴极放电抑制电容耦合等离子体电极和气体分配面板-CN201510290218.X有效
发明人： 杰里米·塔克;爱德华·奥古斯蒂尼克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及空心阴极放电抑制电容耦合等离子体电极和气体分配面板。本发明涉及一种用于等离子体处理室的气体分配系统的面板，包括面板主体，该面板主体具有第一表面、与第一表面相对的第二表面和侧面。在面板主体中的第一多个孔从所述第一表面延伸到第二表面。所述第一多个孔中的至少一些在与所述第一表面平行的平面上具有第一尺寸和第二尺寸。所述第一尺寸横向于所述第二尺寸。所述第一尺寸小于由所述等离子体处理室产生的等离子体的3个等离子体鞘层的厚度。所述第二尺寸大于所述第一尺寸的2倍。
空心阴极放电抑制电容耦合等离子体电极气体分配面板