专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光电探测器及其制备方法-CN202310972128.3在审
  • 杨珏晗;周劲澍;刘岳阳;刘端阳;文宏玉;魏钟鸣 - 中国科学院半导体研究所
  • 2023-08-03 - 2023-09-12 - H01L31/101
  • 本公开提供了一种光电探测器,包括:衬底;绝缘层,设置在部分的衬底上;碲化镓层,设置在衬底和绝缘层上,与衬底形成异质结,使异质结中的电子吸收来自外部照射的光子产生跃迁;第一电极,设置在碲化镓层上;第二电极,设置在衬底的与绝缘层相对的一侧,通过第一电极和第二电极施加的外加电场使电子定向移动产生探测电流并通过第一电极和第二电极输出。采用低对称晶体结构的碲化镓层与衬底形成异质结,使能带相交或错位,导致电子运输现象的变化,可以同时发挥衬底和碲化镓层两个材料的不同特性,使光电探测器可以探测较宽波长范围内的激光。
  • 光电探测器及其制备方法
  • [发明专利]日盲紫外通讯探测器、制备方法及通讯方法-CN202210874130.2有效
  • 魏钟鸣;赵凯;杨珏晗 - 中国科学院半导体研究所
  • 2022-07-21 - 2023-07-25 - H04B10/11
  • 本公开提供了一种日盲紫外通讯探测器,包括:硅片衬底;多组宽禁带半导体纳米带,设于硅片衬底上,每组数量为2,相互串联且呈90°;各组宽禁带半导体纳米带的设置角度以预设步进增加,设置角度范围为0°~180°;多组金属电极,设于硅片衬底上,每组金属电极包括正电压电极、中位电压电极和接地电极,正电压电极与一组宽禁带半导体纳米带中的其中一个的非串联端连接,用于提供正电压,接地电极与该组宽禁带半导体纳米带中的另一个的非串联端连接,中位电压电极与该组宽禁带半导体纳米带的串联端连接,用于输出该组宽禁带半导体纳米带响应日盲紫外光信号产生的电压信号。本公开还提供了一种日盲紫外通讯探测器制备方法及通讯方法。
  • 紫外通讯探测器制备方法
  • [发明专利]偏振放大系统、制备方法及偏振分析方法-CN202211224131.9在审
  • 魏钟鸣;王小宇;杨珏晗;沈国震;文宏玉 - 中国科学院半导体研究所
  • 2022-10-08 - 2023-01-06 - G01J4/04
  • 本发明提供一种偏振放大系统、制备方法及偏振分析方法,涉及半导体光电探测器及其制备技术领域。该偏振放大系统包括偏振探测器、参考电阻和晶体管,其中:偏振探测器包括第一硅片基底,以及从左至右依次位于第一硅片基底上的第一有源层、第一源电极和第一漏电极,第一源电极和第一漏电极均为金属材料;晶体管包括第二硅片基底,以及从左至右依次位于第二硅片基底上的第二有源层、第二源电极、第二漏电极、介电层和栅电极,第二源电极、第二漏电极和栅电极均为金属材料;偏振探测器的第一漏电极与参考电阻电连接,并共同连接至晶体管的栅电极;其中,第一有源层和第二有源层均为二维半导体材料,偏振探测器的探测波段为可见光至近红外波段。
  • 偏振放大系统制备方法分析
  • [发明专利]量子点的制备方法-CN202210477996.X在审
  • 翟慎强;李利安;辛凯耀;杨珏晗;魏钟鸣;刘峰奇 - 中国科学院半导体研究所
  • 2022-04-29 - 2022-08-02 - C30B25/18
  • 本公开提供一种量子点制备方法,包括:采用二维材料制备二维材料衬底;将二维材料衬底置于生长腔中,升高生长腔的温度使二维材料衬底处于第一预设温度;通过分子束外延束源炉将原材料以预设密度的束流喷射至二维材料衬底的表面,使反应物以范德华外延模式在二维材料衬底的表面依次经过吸附、脱附、迁移、成核、长大的动力学反应过程以生长量子点。该方法以二维材料为衬底生长量子点,不需要特定晶格匹配条件,甚至在晶格对称性不一样的情况下,也能够实现量子点的生长。
  • 量子制备方法
  • [发明专利]二维半导体异质结的制备方法-CN202111168077.6在审
  • 魏钟鸣;于雅俐;杨珏晗;刘岳阳;文宏玉 - 中国科学院半导体研究所
  • 2021-09-30 - 2021-12-21 - H01L21/02
  • 本发明提出一种二维半导体异质结的制备方法,包括将反应前驱体置于反应容器中,反应前驱体包括一种硫属元素粉末及两种四族金属化合物粉末,硫属元素粉末置于第一位置,四族金属化合物粉末置于第二位置,两种四族金属化合物粉末熔点差不超过第一值;将衬底置于反应容器第三位置;密封反应容器并通入运载气体;加热反应容器使反应前驱体反应生成反应生成物且沉积到衬底上;自然冷却至室温,停止通入运载气体,反应生成物在衬底上完成沉积,得到异质结。本发明操作简单,可重复性好,可实现快速大批量生长;工艺可控,可实现厚度可控的大面积生长;解决了机械堆叠构筑异质结中干法转移或湿法转移得到二维半导体异质结时带来的材料厚度不均匀的问题。
  • 二维半导体异质结制备方法

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