专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种空间用紫外反射膜的制备方法-CN201510875744.2有效
  • 孙希鹏;杜永超;肖志斌 - 中国电子科技集团公司第十八研究所;天津恒电空间电源有限公司
  • 2015-12-03 - 2018-08-28 - C23C14/30
  • 本发明涉及光学薄膜制备技术领域,主要公开了一种空间用紫外反射膜的制备方法。该空间用紫外反射膜的制备方法包括以下步骤:a)预处理玻璃盖片:清洗所述玻璃盖片;b)制备反射膜:通过电子枪热蒸发的方式在所述玻璃盖片的表面沉积所述反射膜,并利用离子源辅助所述反射膜在所述玻璃盖片的表面进行沉积;其中,所述反射膜由高折射率材料HfO2和低折射率材料MgF2复合而成。本发明的有益效果是:加入离子源进行辅助淀积是为了提高HfO2层的成膜质量,提高HfO2淀积粒子的迁移率,增加HfO2膜层聚集密度,填充膜内空隙缺陷。加之,所述反射膜由高折射率材料HfO2和低折射率材料MgF2复合而成,因此这样便可以顺利获得高反射率且光学性良好的反射膜。
  • 一种空间紫外反射制备方法

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