专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]晶粒与三维元件结构-CN202210580440.3在审
  • 张任远;李建璋;赖佳平 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-05-25 - 2022-12-27 - H01L23/528
  • 一种晶粒与三维元件结构,晶粒包括半导体基板、互连结构以及第一硅通孔结构。互连结构设置于半导体基板上且包括金属间介电层、嵌入于金属间介电层中的金属特征与第一保护环结构。第一保护环结构包括延伸通过金属间介电层的至少一子集的同心的第一与第二保护环。第一硅通孔结构延伸通过半导体基板与金属间介电层的子集,以电性接触金属特征的其中一个。第一保护环围绕第一硅通孔结构。第二保护环围绕第一保护环,第二保护环配置用以降低第一保护环结构与第一硅通孔结构之间的寄生电容。
  • 晶粒三维元件结构
  • [发明专利]晶粒堆叠及系统集成电路结构-CN202210252087.6在审
  • 张任远;赖佳平;李建璋 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-03-15 - 2022-12-23 - H01L23/538
  • 一种晶粒堆叠及系统集成电路结构,晶粒堆叠包含:第一晶粒,包含第一半导体基板;第一重分布层(RDL)结构,设置在第一晶粒的前表面上且电连接至第一半导体基板;第二晶粒,接合至第一晶粒的前表面且包含第二半导体基板;第三晶粒,接合至第一晶粒的前表面且包含第三半导体基板;第二RDL结构,设置在第二晶粒及第三晶粒的前表面上且电连接至第二半导体基板及第三半导体基板;及介电穿孔(TDV)结构,在第二晶粒与第三晶粒之间延伸且电连接至第一RDL结构及第二RDL结构。第二晶粒及第三晶粒设置在垂直于晶粒堆叠的垂直堆叠方向延伸的平面中。
  • 晶粒堆叠系统集成电路结构
  • [实用新型]一种辅助多功能坡度测量的装置-CN202220165578.2有效
  • 李建璋 - 广东商立科技有限公司
  • 2022-01-21 - 2022-09-06 - G01C9/24
  • 本实用新型公开了一种辅助多功能坡度测量的装置,包括指示杆,所述指示杆的顶端固定设置有圆头,所述圆头的内部安装有转轴,所述转轴的两端设置有底座,所述两个底座的顶端设置有固定壳,所述固定壳的一端表面贯穿设置有固定螺杆,且所述固定杆贯穿于两个底座的顶端连接于固定壳的内部,所述固定壳的另一侧设置有L形连接杆,所述固定壳靠近L形连接杆的表面与底端的表面设置有滑槽,所述滑槽的内部设置有滑块固定连接于L形连接杆。本实用新型通过固定壳,使得整体可以对设备进行单独更换,降低使用成本,并且使得时检测方便,同时便于收纳,方便携带。
  • 一种辅助多功能坡度测量装置
  • [发明专利]半导体结构-CN202110652726.3在审
  • 张任远;赖佳平;李建璋 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-06-11 - 2022-07-26 - H01L27/108
  • 本案描述的一些实施例提供了一种半导体结构。半导体结构包括一电容器元件,此电容器元件位于基板的凹入部分中。此凹入部分具有侧壁及位于基板的顶表面下方的底表面。半导体结构包括设置在电容器元件下方且在凹入部分内的介电材料。半导体结构包括邻近凹入部分的侧壁中的一或多者的第一导电结构。第一导电结构可包括基板的导电部分或设置在凹入部分内的导电材料。半导体结构包括耦接至第一导电结构的第二导电结构,其中第二导电结构提供从第一导电结构至电压源极或电压漏极的电连接。
  • 半导体结构

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