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[发明专利]电解液及非水电解液锂二次电池-CN200480031883.7有效
发明人：西田哲郎;富崎惠;平野一孝;锅岛亮浩;德田弘晃 -专利权人：大塚化学株式会社;斯特拉化学株式会社
申请日： 2004-11-02 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： H01M10/40 文献下载
摘要：本发明涉及非水电解液锂二次电池用电解液及使用该非水电解液锂二次电池用电解液的锂二次电池，其特征在于，在含有以式(1)表示的作为脂肪族季铵盐的常温熔融盐、有机溶剂、以式(2)表示的锂盐的非水电解液锂二次电池用电解液中，该有机溶剂含有相对于电解液1～5重量％的碳酸亚乙烯酯，式(1)、(2)中，R¹～R³是碳原子数1～4的链状烃，R⁴表示甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基或者异丙氧基甲基，X¹、X²是含氟阴离子。
电解液水电解液锂二次电池

[发明专利]闪烁体与放射线检测器以及放射线检查装置-CN200480024303.1无效
发明人：福田承生;菊山裕久;里永知彦;小池光 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2004-08-25 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： G01T1/202 文献下载
摘要：提供一种闪烁体材料，具有优良的发光强度与衰减速度特性，并且容易培育结晶。闪烁体是Pr_1－xCe_xF₃ (0＜x＜0.5)的结晶，可以在紫外线或可见光区域发出光线或射线。
闪烁放射线检测器以及检查装置

[发明专利]氟化物晶体的制造方法-CN200480020566.5有效
发明人：里永知彦;菊山裕久;福田承生 -专利权人： 斯特拉化学株式会社;株式会社福田结晶技术研究所
申请日： 2004-07-20 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： C30B29/12 文献下载
摘要：本发明提供一种可以制造任意形状的氟化物晶体的氟化物晶体的制造方法。本发明是通过从容纳氟化物原料的熔融液且底部具有孔的坩埚中下拉单晶来制造氟化物单晶的氟化物晶体的制造方法，其特征在于，使位于前述孔的出口部的面形成为所希望的任意的面形状来进行单晶的下拉。通过使用能够对应于氟化物的坩埚材料的碳、铂、铱，并设置考虑了与各个氟化物之间的润湿性的坩埚的形状，可以育成适合目的形状的氟化物晶体。
氟化物晶体制造方法

[发明专利]季铵盐与电解质及电化学装置-CN200480015741.1有效
发明人：西田哲郎;田代康贵;富崎惠;山本雅士;平野一孝;锅岛亮浩;德田弘晃;佐藤健儿;肥后野贵史 -专利权人：大塚化学株式会社;斯特拉化学株式会社
申请日： 2004-06-30 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： C07D295/08 文献下载
摘要：式(1)表示的季铵盐与电解质及电化学装置。式中，R¹表示C₁～C₄的直链或支链的烷基，R²表示甲基或乙基。X^－表示含氟阴离子。
铵盐电解质电化学装置

[发明专利]氟化物晶体的制造装置-CN200480010535.1有效
发明人：福田承生;菊山裕久;里永知彦 -专利权人： 斯特拉化学株式会社;株式会社福田结晶技术研究所
申请日： 2004-04-23 - 公布日： 2006-05-24 - 主分类号： C30B29/12 文献下载
摘要：提供可用极短的时间制造氟化物晶体的制造装置及制造方法。对装置实施改造，使之具有能处理氟化物的反应室、窗户材等，可进行高真空排气，且使种晶与熔融液容易接触，并且通过使用对坩埚坑部的毛细部进行了控制的坩埚，能够用短时间稳定地得到高品质的氟化物单晶。
氟化物晶体制造装置

[发明专利]氟化物中的杂质及色中心分析方法及单结晶培养用材料的制造方法-CN200480008530.5无效
发明人：福田承生;菊山裕久;里永知彦;正神和彦 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2004-03-04 - 公布日： 2006-05-03 - 主分类号： G01N21/27 文献下载
摘要：本发明之目的在于提供能极简单地分析氟化物中的杂质及色中心的氟化物中的杂质及色中心分析方法。并提供可在形成最终单结晶前对清除剂的添加效果进行评价的氟化物中的杂质及色中心分析方法。以X射线照射得到的熔融原料，通过测定该照射前后的透光率来检测形成的色中心等的吸收峰等。据此使清除剂等的熔融条件最优化，从而可培育出适合于X射线损伤少的单结晶培养的高纯度熔融原料。
氟化物中的杂质中心分析方法结晶培养用材制造

[发明专利]四级烷基铵盐的精制方法及四级烷基铵盐-CN03811021.0无效
发明人：菊山裕久;胁雅秀;桥口慎二;西田哲郎;田代康贵;青木谦治 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2003-04-17 - 公布日： 2005-08-10 - 主分类号： C07C209/84 文献下载
摘要：本发明提供一种四级烷基铵盐的精制方法，利用该方法可以高收率地得到适合作为电解液的电解质的水分含量低的粒子状的四级烷基铵四氟硼酸盐类。该方法的特征在于，包括使被精制的四级烷基铵盐分散在有机溶剂中而形成悬浊液的步骤。烷基的碳原子数为1～5的范围内。在使被精制的四级烷基铵盐分散至有机溶剂中制成悬浊液的步骤后，利用醇溶剂洗涤。
烷基铵盐精制方法

[发明专利]高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制方法-CN03804728.4无效
发明人：菊山裕久;胁雅秀;泉浩人;矢崎洋史;青木谦治;桥口慎二;川胁理谒;村上祐子 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2003-02-27 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C01G35/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够更简便且低成本地进行高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制的高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制方法。其特征在于，用通过从含有铌和/或钽的溶液晶析所得到的结晶、融液或滤液生成铌化合物和/或钽化合物，并利用该溶解度的差进行高纯度的铌化合物和/或钽化合物的分离。
纯度化合物精制方法

[发明专利]高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制方法-CN03804725.X无效
发明人：菊山裕久;胁雅秀;泉浩人;矢崎洋史;青木谦治;桥口慎二;川胁理谒;村上祐子 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2003-02-27 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C01G35/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够更为简便且低成本地进行高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制的高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制方法。其特征在于，将有机溶剂添加于含有不纯物的铌化合物和/或钽化合物所溶解的水溶液中后，进行提取。其特征在于，使用对溶解液进行晶析后所得到的结晶制成前述水溶液。
纯度化合物精制方法

[发明专利]铌化合物和/或钽化合物的精制方法-CN03804729.2无效
发明人：菊山裕久;胁雅秀;泉浩人;矢崎洋史;青木谦治;桥口慎二;川胁理谒;村上祐子 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2003-02-27 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C01G35/00 文献下载
摘要：本发明提供一种更为简便且低成本的铌化合物和/或钽化合物的精制方法。此种铌化合物和/或钽化合物的精制方法，其特征在于，利用晶析操作从铌化合物和/或钽化合物的溶解液进行精制。
化合物精制方法

[发明专利]含有多成分的玻璃基板用的微细加工表面处理液-CN02816597.7无效
发明人：菊山裕久;宫下雅之;藪根辰弘;大见忠弘 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2002-08-26 - 公布日： 2005-04-20 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸以及氟化铵、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸以及至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以x＞x1的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极大值f(x1)、x＝x2(其中x1＜x2)时具有极小值f(x2)。
含有成分玻璃基板用微细加工表面处理

[发明专利]含有多成分的玻璃基板用的微细加工表面处理液-CN02816809.7无效
发明人：菊山裕久;宫下雅之;籔根辰弘;大见忠弘 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2002-09-02 - 公布日： 2004-11-24 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以(2/5)*x₁＜x＜x₂的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x₁时具有极小值f(x₁)、x＝x₂时具有f(x)＝{f(x₂)}/2。
含有成分玻璃基板用微细加工表面处理

[发明专利]减少氟化物中的氧组分和碳组分的方法-CN02804711.7无效
发明人：菊山裕久;矢崎洋史;里永知彦 -专利权人： 斯特拉化学株式会社
申请日： 2002-02-07 - 公布日： 2004-04-21 - 主分类号： C30B29/12 文献下载
摘要：提供减少高纯度氟化物如氟化钙和氟化钡(高纯度氟化物不局限于氟化钙和氟化钡)中或稀土元素氟化物如氟化镱和氟化铈中的氧和碳组分的方法，这些氟化物被用于光学纤维、涂料等。本发明方法的特征在于高纯度氟化物中含有的氧和碳组分可通过氟气处理来减少。
减少氟化物中的组分方法

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