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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]细胞培养构件及其表面改性方法-CN202180087668.2在审
发明人：斋藤直人;植村健;久野和俊;佐藤良宪;山本雅士;二井启一;西田哲郎 -专利权人：国立大学法人信州大学;斯泰拉化工公司
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C12M1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种具备优异的细胞培养性能及其长期稳定性的细胞培养构件及细胞培养构件的表面改性方法。本发明的细胞培养构件为至少的保持区域包含高分子化合物的细胞培养构件，其特征为，所述保持区域的至少一部分是在构成所述高分子化合物的碳原子和/或硅原子的一部分上直接化学键合有包含氮原子的官能团的表面改性区域，能够提供提高对表面改性区域的粘附性，抑制粘附性的经时劣化，细胞培养性能和其长期稳定性优异的细胞培养构件。
细胞培养构件及其表面改性方法

[发明专利]细胞培养构件及其表面改性方法-CN202180086647.9在审
发明人：斋藤直人;植村健;久野和俊;佐藤良宪;山本雅士;二井启一;西田哲郎 -专利权人：国立大学法人信州大学;斯泰拉化工公司
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C08J7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种具备优异的细胞培养性能及其长期稳定性的细胞培养构件及细胞培养构件的表面改性方法。本发明的细胞培养构件为至少粘附性细胞的保持区域包含高分子化合物的细胞培养构件，其特征为，所述保持区域的至少一部分是氟原子与构成所述高分子化合物的碳原子和/或硅原子的一部分直接化学键合的表面改性区域，能够提供提高粘附性细胞对表面改性区域的粘附性，抑制粘附性的经时劣化，细胞培养性能和其长期稳定性优异的细胞培养构件。
细胞培养构件及其表面改性方法

[发明专利]磷酸盐化合物的制造方法-CN202180006821.4在审
发明人：江田昌平;桂静郁;西田哲郎;山本雅士;佐藤良宪 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2021-03-02 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： C07F9/09 文献下载
摘要：本发明提供一种能够通过极其简便的方法制造高纯度的磷酸盐化合物的新型的磷酸盐化合物的制造方法。本发明的磷酸盐化合物的制造方法的特征在于，包括使化学式(A)所示的磷酸酯与化学式(B)所示的原料盐反应，生成化学式(C)所示的磷酸盐化合物的工序(I)。[反应式中，Z表示C或Si。M表示碱金属等。X1和X2各自独立地表示卤素原子等。X3～X5各自独立地表示碳原子数为1～10的烃基、碳原子数为1～10的烷氧基等，并且，至少1个为碳原子数1～10的烃基或碳原子数1～10的烷氧基中的任一者。X6表示卤素原子等。n表示1～4的自然数。]
磷酸盐化合物制造方法

[发明专利]二次电池用非水电解液及具备其的二次电池-CN201680076242.6有效
发明人：坂口纪敬;桂静郁;近壮二郎;山本雅士;西田哲郎 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2016-12-22 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： H01M10/0567 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在高温环境下也表现出优异的循环特性的二次电池用非水电解液以及具备其使用其的二次电池。本发明涉及的二次电池用非水电解液是用于二次电池的二次电池用非水电解液，其特征为包含至少1种以上由下述化学式(1)表示的成分(A)。(其中，所述Mn+表示选自由氢离子、碱金属离子、碱土金属离子、铝离子、过渡金属离子以及鎓离子组成的组的任意1种。所述X表示卤素原子。上述R1表示碳数为1～20的烃基，或表示碳数在1～20的范围、且具有卤素原子、杂原子或不饱和键中的至少任意一个的烃基。所述n表示化合价。)
二次电池水电具备

[发明专利]磷酸二酯盐、其制造方法、蓄电元件的非水电解液及蓄电元件-CN201680044466.9有效
发明人：坂口纪敬;近壮二郎;桂静郁;山本雅士;西田哲郎 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2016-08-09 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C07F9/09 文献下载
摘要：本发明提供例如能够抑制蓄电元件的充放电特性的下降、且抑制高温保存后的内部电阻的上升的磷酸二酯盐、其制造方法、蓄电元件的非水电解液及蓄电元件。本发明的特征在于，其是下述化学式(1)所表示的磷酸二酯盐。(上述Mn+表示氢离子、碱金属离子、碱土金属离子、铝离子、过渡金属离子或鎓离子。上述R1及R2彼此不同，表示碳原子数为1～10的烃基、或碳原子数为1～10的范围、且具有卤素原子、杂原子或者不饱和键中的至少任意1个的烃基。上述n表示价数。)
磷酸二酯制造方法元件水电

[发明专利]燃料电池用催化剂、燃料电池用膜电极接合体及具备该燃料电池用膜电极接合体的燃料电池-CN201980012135.0在审
发明人：近壮二郎;峰夏辉;佐藤良宪;山本雅士;西田哲郎 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2019-04-15 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： H01M4/90 文献下载
摘要：本发明提供一种电力的输出特性高，并抑制由启动、停止或负载变动导致的发电性能的降低的燃料电池用催化剂、其制造方法、燃料电池用膜电极接合体及具备其的燃料电池。本发明中的燃料电池用催化剂至少具有催化活性物质、及负载所述催化活性物质的载体，其中，所述催化活性物质为选自铂、铂合金、及用包含铂的壳包覆与铂不同的金属的核而成的核壳催化剂中的至少一种，所述载体为碳材料，所述催化活性物质及所述载体中的至少任一者包含氟原子。
燃料电池催化剂电极接合具备

[发明专利]二次电池用非水电解液和具备其的二次电池-CN201680033409.0在审
发明人：坂口纪敬;近壮二郎;桂静郁;山本雅士;西田哲郎 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2016-06-08 - 公布日： 2018-01-19 - 主分类号： H01M10/0567 文献下载
摘要：提供在温度负荷环境下保存后的充放电特性的降低与内部电阻的上升少的二次电池用非水电解液、和具备其的二次电池。在二次电池中使用的二次电池用非水电解液，其特征在于，包含通式(1)~(4)中任一者所示的至少1种磷化合物、即成分(A)、和通式(5)所示的至少1种的磷酸二酯盐、即成分(B)。
二次电池水电具备

[发明专利]微空腔的内壁面处理方法-CN201380075653.X在审
发明人：酒井健;吉田达郎;平塚亮辅;石川俊;大见忠弘;长谷部类;高野顺;菊山裕久;山本雅士 -专利权人：国立大学法人东北大学;斯泰拉化工公司
申请日： 2013-04-18 - 公布日： 2015-12-02 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供一种孔的内壁面处理方法，即使要被处理的基体中设置的孔是窄而深的孔，仍能可靠地进行蚀刻和清洗。对设置有基体(100)且可减压的处理空间进行减压，其中该基体在其内部具有被施予处理液(106)的表面以及在该表面中具有开口(110)的微空腔(104)；然后向该被减压的处理空间导入处理液(106)，以处理微空腔(104)的内壁面。这里，该微空腔(104)的纵横比(l/r)为5或更大，或者纵横比小于5且V/S(V：微空腔的容积、S：开口的面积)为3或更大。
空腔内壁处理方法

[发明专利]清洗液及清洗方法-CN201210019335.9有效
发明人：宫下雅之;久次米孝信;山本雅士;伊达和哉 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2012-01-20 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： C11D7/60 文献下载
摘要：本发明涉及一种清洗液及清洗方法。本发明的目的是提供对于表面附着有氧化铈的被清洗物，能够将该氧化铈以铈离子的形式溶解而清洗除去的清洗液以及使用该清洗液的清洗方法。一种清洗液，其特征在于，该清洗液除去被清洗物表面残留的氧化铈，该清洗液含有(1)氟化氢和(2)铵盐，所述铵盐是选自氯化铵、硝酸铵、硫酸铵、四甲基氯化铵、四甲基硝酸铵和四甲基硫酸铵中的至少1种。
清洗方法

[发明专利]清洗液和清洗方法-CN200980159163.1无效
发明人：宫下雅之;久次米孝信;二井启一;山本雅士 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2009-05-21 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： C11D7/60 文献下载
摘要：本发明提供对于在表面附着有氧化铈的被清洗物，能够使氧化铈溶解为铈离子而清洗除去的清洗液以及使用该清洗液的清洗方法。本发明的清洗液的特征在于，是除去氧化铈的清洗液，含有氟化氢与选自盐酸、硝酸、硫酸、醋酸、磷酸、碘酸及氢溴酸中的至少任一种酸，及水而构成，使上述氧化铈溶解为铈离子而除去。
清洗方法

[发明专利]半导体装置的处理液、处理方法及半导体制造装置-CN200580021970.9有效
发明人：大见忠弘;寺本章伸;菊山裕久;二井启一;山本雅士 -专利权人：国立大学法人东北大学;斯特拉化工公司
申请日： 2005-07-11 - 公布日： 2007-06-13 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种半导体表面的原子洗脱少、能够制成清洁且平坦的半导体表面的处理液、处理方法及半导体制造装置。本发明使用含有醇类或酮类中的至少一种的水溶液，由此能够得到实现从半导体表面的洗脱少的处理及清洁且平坦的表面的处理液、处理方法及半导体制造装置。
半导体装置处理方法制造

[发明专利]季铵盐与电解质及电化学装置-CN200480015741.1有效
发明人：西田哲郎;田代康贵;富崎惠;山本雅士;平野一孝;锅岛亮浩;德田弘晃;佐藤健儿;肥后野贵史 -专利权人：大塚化学株式会社;斯特拉化学株式会社
申请日： 2004-06-30 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： C07D295/08 文献下载
摘要：式(1)表示的季铵盐与电解质及电化学装置。式中，R¹表示C₁～C₄的直链或支链的烷基，R²表示甲基或乙基。X^－表示含氟阴离子。
铵盐电解质电化学装置

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