专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]波导结构和制造方法-CN202180088612.9在审
  • 阿隆索·热苏斯·米兰·梅希亚 - 思敏光子控股有限责任公司
  • 2021-12-20 - 2023-08-29 - H01S5/026
  • 一种波导结构(100),其包括:衬底(102);衬底(102)上的波导层(104);与波导层(104)的第一侧接触的包层(106),波导层(104)在包层(106)与衬底(102)之间;以及包括用于调节波导层(104)的波导功能的第一材料的第一波导调节剂层(110),第一波导调节剂层(110)与包层(106)接触,并且沿第一轴线的宽度(W1)小于包层(106)的平行于第一轴线(114)的宽度(W2),第一轴线垂直于与波导层(104)内的光传播方向相对应的第二轴线(202)。提供了制造波导结构(100)的方法。
  • 波导结构制造方法
  • [发明专利]制造半导体结构-CN202080074205.8在审
  • 玛丽亚·约翰娜·海伦娜·约赫姆 - 思敏光子控股有限责任公司
  • 2020-10-16 - 2022-06-10 - H01L21/20
  • 本公开涉及制造一半导体结构的方法。该方法包含:沉积一第一层,使其与一基材的一第一表面区域接触,该基材具有一第一半导体材料且该第一层具有一第二半导体材料;沉积一第二层,使其与该基材的一第二表面区域接触,该第二表面区域基本上与该第一表面区域共面且在该第一表面区域之外,且该第二层具有该第一半导体材料或一第三半导体材料;沉积一第三层,使其与该第一层及该第二层接触,该第三层具有该第一半导体材料或该第三半导体材料或一第四半导体材料;移除该第三层的一部分以暴露该第一层的一部分;移除该第一层的至少一部分以在该基材、该第二层与该第三层之间产生一空腔。
  • 制造半导体结构

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