专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法-CN202110402233.4有效
  • 李继文;雷金坤;李召阳;刘伟;赵清;魏世忠;徐流杰;张国赏;潘昆明 - 河南科技大学
  • 2021-04-14 - 2023-07-25 - C04B35/495
  • 本发明属于磁控溅射用靶材的制备领域,具体涉及一种含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法。该含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法包括以下步骤:1)以三氧化钼粉、铝粉、钼酸钠粉为原料,经球磨混合,得到混合粉末;混合粉末中,钠原子占钼、氧、钠、铝总原子比为3~9%,铝原子占钼、氧、钠、铝总原子比为1~3%;2)将混合粉末在真空条件下进行放电等离子烧结。本发明的含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法,采用氧化钼和钼酸钠为原料,铝作粘接剂,通过放电等离子烧结炉(SPS)实施烧结制备工艺,降低烧结温度,降低气体含量,提高钠元素收得率,提高靶材致密度和均匀性,制备出均匀、高致密、高钠含量的含钼钠陶瓷靶材。
  • 一种氧化钼陶瓷溅射制备方法

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