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- [发明专利]涂敷处理装置和杯体-CN201810207953.3有效
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畠山真一;川上浩平
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东京毅力科创株式会社
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2018-03-14
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2023-04-04
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H01L21/027
- 本发明在以旋转式在基板上涂敷涂敷液的涂敷处理装置中，防止涂敷液被设置于杯体内的气流控制板弹返而飞散到晶片的表面上。抗蚀剂涂敷装置包括收纳旋转卡盘(121)并从底部排气的杯体，该杯体包括：与保持于旋转卡盘(121)的晶片(W)相比位于顶部侧，包围该晶片(W)的外周的气流控制部(151)；和支承气流控制部的支承部(153)，该支承部其一个端部与杯体(125)的内周面连接，另一个端部与上述一个端部相比位于顶部侧并且与气流控制部连接，在上述支承部形成有在与晶片的旋转轴垂直的方向上穿透的形状的第1孔(153a)，在比该第1孔靠外侧下方的位置形成有在晶片的旋转轴方向上穿透的形状的第2孔(153b)。
- 处理装置
- [实用新型]基板处理装置-CN202220205274.4有效
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畠山真一;川上浩平
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东京毅力科创株式会社
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2022-01-25
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2022-08-16
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H01L21/67
- 本实用新型涉及基板处理装置，其不提高排气压地防止自基板甩出的成膜处理液向液体接受部的外部泄漏。基板处理装置包括：保持基板并使其旋转的保持旋转部、向基板供给成膜处理液的供给部以及接受因旋转而自基板甩出的成膜处理液的液体接受部，液体接受部在上部具有供基板穿过并向上方的空间开口的孔，液体接受部的内部被排气，基板处理包含供给处理和干燥处理，基板处理装置还包括相对于液体接受部的上表面进退自如的圆环状的圆环构件，在供给处理时，圆环构件以封堵液体接受部的孔的周缘的方式设于液体接受部的上表面，在干燥处理时，圆环构件自液体接受部的上表面退避。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN202210088864.8在审
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畠山真一;川上浩平
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东京毅力科创株式会社
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2022-01-25
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2022-08-02
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H01L21/67
- 本发明涉及基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，不提高排气压地防止自基板甩出的成膜处理液向液体接受部的外部泄漏。基板处理装置包括：保持基板并使其旋转的保持旋转部、向基板供给成膜处理液的供给部、接受因旋转而自基板甩出的成膜处理液的液体接受部以及对基板处理进行控制的控制部，液体接受部在上部具有供基板穿过并向上方的空间开口的孔，液体接受部的内部被排气，基板处理包含供给处理和干燥处理，基板处理装置还包括相对于液体接受部的上表面进退自如的圆环状的圆环构件，控制部控制为：在供给处理时，圆环构件以封堵液体接受部的孔的周缘的方式设于液体接受部的上表面，在干燥处理时，圆环构件自液体接受部的上表面退避。
- 处理装置方法以及存储介质
- [实用新型]喷嘴待机装置以及液处理装置-CN202122105214.3有效
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新村聪;川上浩平;稻田博一;高柳康治
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东京毅力科创株式会社
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2021-09-02
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2022-04-26
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H01L21/67
- 一种喷嘴待机装置以及液处理装置，喷嘴在喷嘴收容部待机并在顶端部吸入溶剂而形成液层时，即使喷出的处理液高粘度也能在顶端部形成溶剂的液层。包括：喷嘴收容部，包含以包围喷嘴顶端部的方式形成的内周面并与喷嘴的喷出口相对地形成排出口；溶剂喷出口，在喷嘴收容部内开口，使喷出的溶剂沿喷嘴收容部的内周面引导而自排出口排出，喷嘴收容部在排出口的上方侧在溶剂呈涡流下落的部位具有缩径部，缩径部包括相对于喷嘴收容部的中心线的角度不同的第1内周面和第2内周面，在以包含喷嘴收容部的中心线的方式沿其剖切的剖面中，沿相对的各第1内周面延伸的两直线交点位于比当喷嘴的顶端部配置于缩径部时的喷嘴的喷出口靠上方。
- 喷嘴待机装置以及处理
- [实用新型]液体处理装置-CN202022881855.3有效
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山内刚;柴田大树;川上浩平
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东京毅力科创株式会社
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2020-12-03
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2021-08-31
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G03F7/16
- 本实用新型涉及一种液体处理装置。在对向喷出喷嘴供给的处理液进行温度调整时防止水分混入该处理液。液体处理装置具有：基板保持部，其用于保持基板；喷出喷嘴，其向保持于基板保持部的基板喷出处理液；液体供给管，其将来自处理液的储存源的处理液向喷出喷嘴供给；气体管，其内包液体供给管，处理液的温度调整用的非活性气体在该气体管与液体供给管之间的空间流通；处理容器，其在内部设有基板保持部、喷出喷嘴、液体供给管以及气体管；以及气氛气体供给部，其向处理容器内供给气氛气体，气体管在处理容器内的上游侧端与内包有液体供给管的内包部分之间的部分、即延伸部在该处理容器内以俯视为折返的方式设置。
- 液体处理装置
- [实用新型]液处理装置-CN202021007532.5有效
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梶原英树;米光祐弥;山中晋一郎;水篠真一;饭田成昭;川上浩平;东徹
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东京毅力科创株式会社
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2020-06-04
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2021-05-04
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H01L21/027
- 本实用新型提供液处理装置。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
- 处理装置
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