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[发明专利]液处理装置、液处理方法以及存储介质-CN201710443443.1有效
发明人：安倍昌洋;稻田博一;东徹;中岛常长;木下尚文;梶原英树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-13 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置、液处理方法以及存储介质。在喷嘴载置区域与多个基板载置区域上的各处理位置之间进行喷嘴的输送的液处理装置抑制对与喷嘴连接的配管的损伤并且抑制生产率的下降。将装置构成为具备设置在基板载置区域的列的后方，用于载置喷嘴的喷嘴载置区域以及用于使臂绕转动轴在水平方向上转动并且使所述转动轴在左右方向上移动的驱动部。从喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置，接着使该喷嘴在该待机位置待机，之后将该喷嘴输送到所述处理位置。所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。
处理装置方法以及存储介质

[实用新型]液处理装置-CN202021007532.5有效
发明人：梶原英树;米光祐弥;山中晋一郎;水篠真一;饭田成昭;川上浩平;东徹 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本实用新型提供液处理装置。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
处理装置

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN202010500958.2在审
发明人：梶原英树;米光祐弥;山中晋一郎;水篠真一;饭田成昭;川上浩平;东徹 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理方法。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
处理装置方法

[实用新型]液处理装置-CN201720684031.2有效
发明人：安倍昌洋;稻田博一;东徹;中岛常长;木下尚文;梶原英树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-13 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种液处理装置。在喷嘴载置区域与多个基板载置区域上的各处理位置之间进行喷嘴的输送的液处理装置抑制对与喷嘴连接的配管的损伤并且抑制生产率的下降。将装置构成为具备设置在基板载置区域的列的后方，用于载置喷嘴的喷嘴载置区域以及用于使臂绕转动轴在水平方向上转动并且使所述转动轴在左右方向上移动的驱动部。从喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置，接着使该喷嘴在该待机位置待机，之后将该喷嘴输送到所述处理位置。所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。
处理装置