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[实用新型]液处理装置-CN202021007532.5有效
发明人：梶原英树;米光祐弥;山中晋一郎;水篠真一;饭田成昭;川上浩平;东徹 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本实用新型提供液处理装置。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
处理装置

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN202010500958.2在审
发明人：梶原英树;米光祐弥;山中晋一郎;水篠真一;饭田成昭;川上浩平;东徹 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供液处理装置和液处理方法。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
处理装置方法