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[发明专利]覆层用组合物及金属/树脂接合部件的制造方法-CN201980024859.7有效
发明人：细谷守;岩井武;藤本隆史;前田知宏 -专利权人：东京应化工业株式会社;辉创株式会社
申请日： 2019-04-03 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： B29C65/16 文献下载
摘要：本发明提供一种在接合金属基材与树脂部件时，使用含有金属粉末、粘合剂与有机溶剂的覆层用组合物。并且使用具有以下工序的金属/树脂接合部件的制造方法：在金属基材的至少一部分涂布该覆层用组合物的工序；对金属基材中的该覆层用组合物的涂布部照射激光的工序；在金属基材中的激光照射部上配置树脂部件的工序；加热激光照射部与树脂部件的界面从而将金属基材与树脂部件接合的工序。
覆层组合金属树脂接合部件制造方法

[发明专利]图案形成方法及固化性组合物的制造方法-CN202210442088.7在审
发明人： 岩井武;昆野健理;青山洋平;森莉纱子 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2022-04-25 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及图案形成方法及固化性组合物的制造方法。图案形成方法，其包括下述工序：使用含有金属氧化物纳米粒子的固化性组合物，在基板上形成固化性膜的工序；将具有线与间隔图案的模具按压于固化性膜，从而在固化性膜上转印线与间隔图案的工序；在将模具按压于固化性膜的同时，使转印有线与间隔图案的固化性膜进行固化，从而形成固化膜的工序；以及，将模具从固化膜剥离，从而在基板上形成线与间隔图案的工序，形成于基板上的线与间隔图案的基部的线宽度x、与金属氧化物纳米粒子的体积平均一次粒径φ满足：0.03xφ0.08x，x≤500nm。
图案形成方法固化组合制造

[发明专利]氢检测用元件、氢检测用元件的制造方法以及氢检测装置-CN201880021278.3有效
发明人：西岛喜明;岩井武;平野勋 -专利权人：国立大学法人横浜国立大学;东京应化工业株式会社
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01N21/41 文献下载
摘要：本发明公开了一种氢检测用元件，将储氢金属以规定的形状以及大小配置于基材，基于由入射的光而感应的表面等离子共振对氢进行检测。储氢金属由包括钯与贵金属的膜体形成。通过了储氢的储氢金属的光的光谱在偏离于二氧化碳相对于光的吸收光谱(C1)与水相对于光的吸收光谱(H1～H3)的波长带宽具有峰。
检测元件制造方法以及装置

[发明专利]纳米结构体阵列、氢检测用元件及氢检测装置-CN202010097888.0在审
发明人：西岛喜明;冈崎慎司;红贵朗;山作直贵;岩井武 -专利权人：国立大学法人横浜国立大学;东京应化工业株式会社
申请日： 2020-02-17 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： G01N21/552 文献下载
摘要：本发明涉及纳米结构体阵列、氢检测用元件及氢检测装置。纳米结构体阵列，其具备基体、和形成于该基体上的纳米结构体，且所述纳米结构体阵列排列有多个上述纳米结构体，上述纳米结构体由存在表面等离振子、且具有吸藏及释放氢的性质的金属形成，上述基体由与氢反应而从导体可逆地向电介质变化的氢响应性材料形成，通过入射至上述纳米结构体的光而发生表面等离振子共振。
纳米结构阵列检测元件装置

[发明专利]光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置-CN200910164462.6有效
发明人：羽田英夫;岩井武;嶋崎真明;室井雅昭;厚地浩太;富田浩明;尾崎弘和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-12-18 - 公布日： 2010-04-21 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
光致抗蚀剂组合制造方法过滤装置

[发明专利]光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置-CN200910164463.0有效
发明人：羽田英夫;岩井武;崎真明;室井雅昭;厚地浩太;富田浩明;尾崎弘和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-12-18 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
光致抗蚀剂组合制造方法过滤装置

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、新型化合物及其制法-CN200810212866.3有效
发明人：川上晃也;岩井武;羽田英夫;秀坂慎一;黑泽刚志;圆山夏子;松泽贤介;濑下武广;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-09-10 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物[式中，X是-O-、-S-、-O-R³-或-S-R⁴-，R³和R⁴分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R²是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q¹是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y¹是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M⁺是碱金属离子；A⁺是有机阳离子。
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物及其制法

[发明专利]抗蚀剂图案的形成方法-CN200580046147.3有效
发明人： 岩井武;岩下淳 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-11-08 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明的抗蚀剂图案的形成方法，是包括下述工序(i)～(ii)的抗蚀剂图案的形成方法：(i)使用正型抗蚀剂组合物在基板上形成第1抗蚀剂层，选择性地进行曝光，在该第1抗蚀剂层上形成密图案的潜像部的工序；(ii)使用负型抗蚀剂组合物在该第1抗蚀剂层上形成第2抗蚀剂层，选择性地进行曝光后，同时使第1抗蚀剂层和第2抗蚀剂层显像，使所述密图案的潜像部的一部分露出的工序；该抗蚀剂图案的形成方法的特征在于：作为所述负型抗蚀剂组合物，使用在不溶解第1抗蚀剂层的有机溶剂中溶解的负型抗蚀剂组合物。
抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]形成抗蚀图案的方法、正型抗蚀剂组合物和层状产品-CN200380104689.2无效
发明人：羽田英夫;宫入美和;久保田尚孝;岩井武 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-12-01 - 公布日： 2007-07-11 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种形成抗蚀图案的方法，该方法可以使在良好控制图案尺寸下形成抗蚀图案，并且提供在该方法中使用的正型抗蚀剂组合物和使用正型抗蚀剂组合物形成的层状产品。在上面方法中，将包含树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物涂布在基材上，所述的树脂组分(A)包含衍生自由下面通式(I)表示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，并且在酸作用下显示提高的碱溶解度，进行预烘焙，选择性地曝光抗蚀剂组合物，进行后曝光烘焙(PEB)，然后使用碱性显影以形成抗蚀图案，然后通过热处理使由此产生的抗蚀图案的图案尺寸变窄。
形成图案方法正型抗蚀剂组合层状产品

[发明专利]高分子化合物、酸发生剂、正型抗蚀剂组合物、和抗蚀图案形成方法-CN200580026129.9有效
发明人：松丸省吾;竹下优;岩井武;羽田英夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-07-01 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： C08F220/38 文献下载
摘要：本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2－1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
高分子化合物发生正型抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法-CN200610007166.1有效
发明人： 岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-11-29 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(B)能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，组分(A)含有：(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有内酯的单环基团或多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有羟基的多环基团；组分(A)还含有结构单元(a4)，由(甲基)丙烯酸酯衍生并含有多环基团，此多环基团不同于含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团、含有内酯的单环基团或多环基团、或含有羟基的多环基团。
正型抗蚀剂组合使用形成图形方法

[发明专利]正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法-CN200610007163.8有效
发明人： 岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-11-29 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
正型抗蚀剂组合使用形成图形方法

[发明专利]用于抗蚀剂的树脂、正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法-CN200480022815.4有效
发明人：林亮太郎;羽田英夫;岩井武 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-08-10 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：一种具有优异的分辨率和景深的正性抗蚀剂组合物，一种用于在所述正性抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂的树脂，以及一种使用所述正性抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。所述用于抗蚀剂的树脂包括衍生自(α－低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a)作为主要组分，其中这些结构单元(a)包括衍生自含酸可离解的溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯以及包含含内酯的单环基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，并且所述结构单元(a1)包括如上所示通式(a1－1)表示的结构单元[其中，R表示氢原子或低级烷基，而R¹¹表示含单环脂肪族烃基但不含多环脂肪族烃基的酸可离解的溶解抑制基团]。
用于抗蚀剂树脂正性抗蚀剂组合形成图案方法

[发明专利]正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法-CN200610007165.7有效
发明人： 岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-11-29 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中组分(A)含有下列两种结构单元：丙烯酸酯衍生的结构单元(al)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；及甲基丙烯酸酯衍生的结构单元(al′)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
正型抗蚀剂组合使用形成图形方法

[发明专利]正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法-CN200610007164.2有效
发明人： 岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-11-29 - 公布日： 2006-08-16 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
正型抗蚀剂组合使用形成图形方法

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