“奥田良治”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果21个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]感光性树脂组合物及电子部件-CN201680013754.8在审
发明人：小山祐太朗;奥田良治;增田有希;北村友弘;荘司优 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2016-02-29 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：本发明提供一种树脂，所述树脂用于感光性树脂组合物时具有高伸长率、低应力性、高敏感度、高残膜率。本发明为一种感光性树脂组合物，其含有树脂，所述树脂的特征在于，具有通式(1)及/或(2)表示的结构，并且，(a)含有10～80摩尔％具有脂环结构的碳原子数为4～40的有机基团作为通式(1)及(2)的R1，(b)含有10～80摩尔％具有聚醚结构的碳原子数为20～100的有机基团作为通式(1)及(2)的R2。(通式(1)及(2)中，R1表示具有单环式或稠合多环式的脂环结构的碳原子数为4～40的四价有机基团。R2表示具有聚醚结构的碳原子数为20～100的二价有机基团。R3表示氢或碳原子数为1～20的有机基团。n1、n2各自表示10～100,000的范围，p、q表示满足0≤p+q≤6的整数。)
感光性树脂组合电子部件

[发明专利]研磨垫-CN201280044813.X无效
发明人：野呂阳平;奥田良治;福田诚司 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2012-09-13 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种至少具有研磨层的化学机械研磨用的研磨垫，在所述研磨层的研磨面具有第一槽以及第二槽，所述第一以及第二槽在各自的槽宽方向的缘端部具有与所述研磨面连续的侧面，在所述第一槽中，至少在槽宽方向的一侧的缘端部处，所述研磨面和与该研磨面连续的侧面所成的角度比105度大且为150度以下，在所述第二槽中，在槽宽方向的两个缘端部双方，所述研磨面和与该研磨面连续的侧面所成的角度为60度以上且105度以下。
研磨

[发明专利]研磨垫-CN201280044522.0无效
发明人：本田智之;福田诚司;奥田良治 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2012-09-14 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：为了抑制因晶片中央部的研磨速率不足造成的研磨速率的下降和晶片面内均匀性的恶化，研磨垫是至少具有研磨层和垫层的研磨垫，在上述研磨层上设有在厚度方向上贯通的多个孔，并且在上述研磨层的研磨面上设有多个槽；贯通孔率为0.13%以上2.1%以下；上述研磨面与和该研磨面连续的槽侧面所成的角度在两侧面都为105度以上150度以下。
研磨

[发明专利]研磨垫-CN201280008992.1无效
发明人：竹内奈奈;福田诚司;奥田良治;笠井重孝 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2012-02-08 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：一种至少具有研磨层和垫层的研磨垫，在其研磨面上具有槽；研磨面和上述槽的与研磨面连续的侧面所成的角度的至少一方为105度以上、150度以下，上述垫层的应变常数为7.3×10－6μm/Pa以上、4.4×10－4μm/Pa以下；通过使用这样的研磨垫，能够解决在保持较高的研磨速率的同时抑制研磨速率的变动的课题。
研磨

[发明专利]感光性树脂组合物和耐热性树脂膜的制造方法-CN03812102.6有效
发明人：三好一登;奥田良治;富川真佐夫 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2003-05-28 - 公布日： 2005-08-17 - 主分类号： G03F7/037 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性树脂组合物，其含有(a)具有特定结构的树脂、(b)感光剂、(c)在大气压下沸点在100℃～140℃的有机溶剂，并且(c)成分的含量相对于有机溶剂总量为50重量％～100重量％，本发明还提供采用该树脂组合物的耐热性树脂膜的制造方法。根据本发明，可提供难以产生转印痕和划出条纹等缺陷的感光性树脂组合物。
感光性树脂组合耐热性制造方法

[发明专利]正型感光性树脂先质及其制造方法-CN99801861.9有效
发明人：富川真佐夫;冈本尚代;吉田智之;奥田良治 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 1999-09-07 - 公布日： 2004-01-28 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种可以碱液显影的高光敏度的感光性树脂组合物，它是一种正型感光性树脂先质组合物，其特征在于，其中含有(a)结构单元间的键以通式(1)表示的结构单元为主要成分的聚合物和(b)光酸发生剂，通过光照射及其后续的显影可以形成图案，上述聚合物1g中含有的羧基总量为0.02mmol以上、2.0mmo1以下。R¹为具有至少2个以上碳原子的3价～8价有机基团，R²为具有至少2个以上碳原子的2价～6价有机基团、R³为氢或碳原子数1～20的有机基团。n为3～100000的整数，m为1或2，p、q为0～4的整数，且p+q>0。
感光性树脂及其制造方法