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[实用新型]一种矩形平面溅射靶-CN202320902376.6有效
发明人：吴向方;吴煦;梁家禄;蔡豫;梁玉生;孔祥鹏 -专利权人：鹏城半导体技术（深圳）有限公司
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种矩形平面溅射靶，涉及磁控溅射技术领域。该矩形平面溅射靶可以包括底座、磁性组件、T型连接件、连接板、矩形靶材和压环。其中，底座具有冷水腔，冷水腔内用于通入冷却水。磁性组件设置于冷水腔内。两个平行设置的T型连接件，T型连接件的腹板与底座的上表面垂直相连。连接板具有第一板面和与第一板面相对的第二板面，其中，第一板面上开设有两个平行的T型槽；一个T型连接件插接于一个T型槽内。矩形靶材设置于连接板的第二板面上，矩形靶材的靶面与第二板面平行。压环设置于矩形靶材远离连接板的一侧，且压环与连接板的四周相连，压环中间具有中心孔。其中，矩形靶材的一部分在中心孔处露出。本实用新型用于对基片镀膜。
一种矩形平面溅射

[实用新型]一种热丝CVD设备-CN202320617444.4有效
发明人：吴向方;梁玉生;孔祥鹏;吴煦;梁家禄;蔡豫 -专利权人：鹏城半导体技术（深圳）有限公司
申请日： 2023-03-27 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种热丝CVD设备，涉及真空设备技术领域，该设备包括镀膜腔室、阴极柱、阳极柱、热丝、电源、喷气管路、气源、聚气罩和机械泵，其中，镀膜腔室，具有真空腔。并列设置的两个阴极柱，一部分设置于所述真空腔内。并列设置的两个阳极柱，一部分设置于所述真空腔内。热丝安装于两个阴极柱和两个阳极柱之间。电源与所述阴极柱和阳极柱相连。喷气管路设置于所述真空腔内，且绕设置于所述热丝上方，所述喷气管路靠近所述热丝的一侧开设有喷气孔。气源与所述喷气管路相连通。聚气罩设置于所述真空腔内，且罩设于所述喷气管路上方。机械泵与所述真空腔内相连通，用于对所述真空腔内进行抽真空。本实用新型用于基片覆膜。
一种 cvd 设备

[实用新型]一种废气处理水浴箱-CN202320009443.1有效
发明人：吴煦;蔡豫;梁家禄;吴向方;孔祥鹏 -专利权人：鹏城微纳技术（沈阳）有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本实用新型公开一种废气处理水浴箱，涉及废气处理技术领域，可以包括箱体、循环泵、喷雾装置、磁性浮球液位变送器、过滤件和福马轮，其中，箱体内部形成有容纳腔，容纳腔内用于承装反应溶液。箱体侧壁开设有进气口用于通入废气。循环泵具有进水口和出水口，其中进水口与容纳腔内的反应溶液相连通。喷雾装置具有多个喷头，喷雾装置与循环泵的出水口相连通。磁性浮球液位变送器与容纳腔相连通，用于检测容纳腔内反应溶液高度。箱体上方还开设由排气孔与容纳腔相连通，排气孔处安装过滤件。多个福马轮设置于箱体底部，且与箱体相连。本实用新型用于废气处理。
一种废气处理水浴

[实用新型]一种磁控溅射靶组件-CN202320823873.7有效
发明人：吴向方;吴煦;梁家禄;蔡豫;梁玉生;孔祥鹏 -专利权人：鹏城半导体技术（深圳）有限公司
申请日： 2023-04-14 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种磁控溅射靶组件，涉及磁控溅射技术领域，该磁控溅射靶组件可以包括靶头本体、第一连接环、靶材、磁环、磁柱、固定环和第二连接环，其中，靶头本体内形成有容纳腔。第一连接环设置于靶头本体的上表面，且与靶头本体相连为一体结构，第一连接环具有第一中心孔。靶材设置于第一中心孔内。磁环设置于容纳腔内。磁柱设置于容纳腔内，且位于磁环内。固定环设置于靶头本体的上表面，固定环具有第二中心孔，第二中心孔用于露出靶材的一部分。第二连接环设置于固定环靠近靶头本体的一侧，且与固定环相连为一体结构。第一连接环和第二连接环相连。本实用新型用于磁控溅射靶。
一种磁控溅射组件

[实用新型]一种矩形磁控溅射靶-CN202320223661.5有效
发明人：吴向方;梁玉生;吴煦;梁家禄;蔡豫;杨涛;母立民 -专利权人：鹏城微纳技术（沈阳）有限公司
申请日： 2023-02-16 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种矩形磁控溅射靶，涉及磁控溅射技术领域。包括底座本体、下盖、外壳和溅射靶本体。其中，底座本体具有第一表面。下盖盖设于第一表面上，且与底座本体相连，下盖靠近底座本体的一侧开设有多个交叉相连的气槽，底座本体开设至少一个与气槽相连通的进气孔，进气孔用于通入溅射气体。外壳开设有第二开口和与第二开口相连通的容纳腔。溅射靶本体安装于下盖远离底座本体的一侧。其中，底座本体、下盖、溅射靶本体均位于容纳腔内，均与外壳的壳壁之间具有间隙，间隙与气槽相连通，第二开口用于露出溅射靶本体的一部分。本实用新型用于对基片镀膜。
一种矩形磁控溅射

[实用新型]一种磁控溅射仪-CN202320224610.4有效
发明人：吴向方;梁玉生;吴煦;梁家禄;蔡豫;杨涛;母立民 -专利权人：鹏城微纳技术（沈阳）有限公司
申请日： 2023-02-16 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种磁控溅射仪，涉及磁控溅射镀膜技术领域，可以包括真空腔体、门盖、分子泵、机械泵、基片台和至少一个磁控溅射靶。其中，真空腔体开设有工艺腔和与工艺腔相连通的开口，真空腔体上还开设有进气口和出气口与工艺腔相连通。门盖盖设于开口处，且与工艺腔的开口活动相连。分子泵设置于真空腔体的外壁下方，分子泵具有第一进风口和第一出风口，第一进风口通过第一管路与真空腔体相连通。机械泵具有第二进风口和第二出风口，分子泵的第一出风口通过第二管路与机械泵的第二进风口相连通，机械泵的第二进风口还通过第三管路与工艺腔相连通。本实用新型用于镀膜。
一种磁控溅射

[发明专利]一种立式双室热丝CVD系统及其使用方法-CN202211432334.7在审
发明人：吴向方;梁玉生;孔祥鹏;吴煦;梁家禄;蔡豫 -专利权人：鹏城半导体技术（深圳）有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开一种立式双室热丝CVD系统及其使用方法，涉及化学沉积镀膜设备技术领域，进样室具有预处理腔。工艺室具有工艺腔，工艺腔与预处理腔相连通。若干个传动辊设置于预处理腔和工艺腔底部。插板阀用于插设于进样室靠近工艺室的一侧，将预处理腔和工艺腔隔离开。还用于拔出插板阀时，将预处理腔和工艺腔之间连通。样品车位于传动辊上，且沿着传动辊在预处理腔和工艺腔之间移动；样品车具有安装腔，安装腔用于安装基片。热丝用于在样品车移动至工艺腔内时，位于安装腔内，且基片位于热丝的一侧或者两侧。进气管路设置于工艺腔顶部，进气管路用于通入混合气体。抽气系统用于抽真空，与预处理腔和工艺腔底部相连通。本发明用于基片镀膜。
一种立式双室热丝 cvd 系统及其使用方法

[发明专利]一种气盘以及PECVD镀膜设备-CN202211429851.9在审
发明人：吴煦;蔡豫;梁家禄;孔祥鹏;吴向方;梁玉生;母立民 -专利权人：鹏城微纳技术（沈阳）有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：本发明公开一种气盘以及PECVD镀膜设备，涉及等离子技术领域，应用于镀膜设备，气盘位于真空腔内，且与真空腔顶壁相连，气盘内形成依次相连的第一气腔、第二气腔和第三气腔。第一气腔和第二气腔之间具有第一隔离壁，第一隔离壁上开设有若干个第一通孔；第二气腔和第三气腔之间具有第二隔离壁，第二隔离壁上开设有若干个第二通孔；第三气腔具有与第二隔离壁相对的第三隔离壁，第三隔离壁上开设有若干个第三通孔。该气盘还包括若干个毛细管，具有管孔，毛细管的一端与第一隔离壁相连，且毛细管的一端的管孔与第一通孔相连通；毛细管的一部分位于第二通孔内，且毛细管的外壁与第二通孔壁之间具有间隙。本发明用于镀膜设备。
一种以及 pecvd 镀膜设备

[发明专利]一种插板阀以及立式双室热丝CVD系统-CN202211429895.1在审
发明人：吴向方;梁玉生;孔祥鹏;吴煦;梁家禄;蔡豫 -专利权人：鹏城半导体技术（深圳）有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开一种插板阀以及立式双室热丝CVD系统，涉及化学沉积镀膜设备技术领域，两个连接板一端由开口伸入至壳腔内，且分别与壳腔内两个相对的侧壁相连。两个冷水板间隔设置于两个连接板之间；其中，连接板靠近冷水板的一侧开设有两排滑槽，每排滑槽包括间隔设置的第一凹槽和第二凹槽；第一凹槽靠近第二凹槽的一端弯曲形成第一弧形段。第二凹槽远离第一凹槽的一端弯曲形成第二弧形段。冷水板相对的两个侧壁分别设置至少两个滑杆，且滑杆一端与冷水板相连，滑杆另一端伸入至第一凹槽内滑动或伸入至第二凹槽内滑动。气缸与外壳相连，气缸具有气缸杆，气缸杆伸入至壳腔内与两个冷水板铰接。本发明用于镀膜设备隔离真空腔室。
一种插板以及立式双室热丝 cvd 系统

[发明专利]一种废气处理水浴箱以及废气处理组件-CN202310006271.7在审
发明人：吴煦;蔡豫;梁家禄;吴向方;孔祥鹏 -专利权人：鹏城微纳技术（沈阳）有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本发明公开一种废气处理水浴箱以及废气处理组件，涉及废气处理技术领域，可以包括箱体、循环泵、喷雾装置、磁性浮球液位变送器和过滤件，其中，箱体内部形成有容纳腔，容纳腔内用于承装反应溶液。箱体侧壁开设有进气口用于通入废气。循环泵具有进水口和出水口，其中进水口与容纳腔内的反应溶液相连通。喷雾装置具有多个喷头，喷雾装置与循环泵的出水口相连通。磁性浮球液位变送器与容纳腔相连通，用于检测容纳腔内反应溶液高度。箱体上方还开设由排气孔与容纳腔相连通，排气孔处安装过滤件。本发明用于废气处理。
一种废气处理水浴以及组件

[外观设计]真空镀膜机-CN202230562482.5有效
发明人：吴煦;蔡豫;郭垒;梁家禄;吴向方;孙铁帅;冯永旭 -专利权人：鹏城微纳技术(沈阳)有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：真空镀膜机。2.本外观设计产品的用途：用于半导体基片镀膜。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
真空镀膜

[实用新型]一种超高真空磁控溅射靶以及磁控溅射装置-CN202222617798.7有效
发明人：吴向方;梁玉生;吴煦;梁家禄;蔡豫;孔祥鹏 -专利权人：鹏城半导体技术（深圳）有限公司
申请日： 2022-10-06 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种超高真空磁控溅射靶以及磁控溅射装置，涉及磁控溅射技术领域，该超高真空磁控溅射靶可以包括支杆、升降组件、靶头、底座、磁环和磁柱。其中，升降组件与支杆相连，用于驱动支杆沿着支杆的延伸方向移动。靶头与支杆的一端相连，靶头还与电源阴极相连，靶头内部形成有安装腔。底座设置于安装腔内，且与安装腔底壁相连。磁环设置于安装腔内，且位于底座上。磁柱设置于安装腔内，且位于底座上，还位于磁环内。靶材设置于靶头远离支杆一侧的外表面。其中，磁环上表面、磁柱上表面与安装腔内壁之间均具有间隙。安装腔内通入冷却液。本实用新型用于镀膜设备。
一种超高真空磁控溅射以及装置

[实用新型]一种用于热丝薄膜沉积的热丝固定组件-CN202222160638.4有效
发明人：吴煦;蔡豫;郭垒;梁家禄;吴向方;孙铁帅;冯永旭 -专利权人：鹏城半导体技术（深圳）有限公司
申请日： 2022-08-17 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于热丝薄膜沉积的热丝固定组件，涉及半导体镀膜设备技术领域，为解决热丝端部不易固定的问题。本实用新型实施例提供一种热丝固定组件，固定底座包括上下错开且间隔设置的至少两个固定板，以及连接件，连接件与固定板相连。两个第一电极柱并排设置于固定底座的一侧。两个第二电极柱并排设置于第一电极柱远离固定底座一侧，第二电极柱与第一电极柱相对为正极或者负极中的一种。一个导电柱两端分别与两个第一电极柱相连；另一个导电柱两端分别与两个第二电极柱相连。条形板与第二电极柱上的导电柱相连。多个热丝一端与固定板相连，另一端与条形板相连，多个热丝的一部分抵接于两个导电柱。本实用新型用于对工艺气体加热。
一种用于薄膜沉积固定组件

[实用新型]一种用于低压气相沉积的抽气装置-CN202222182972.X有效
发明人：吴煦;蔡豫;郭垒;梁家禄;吴向方;孙铁帅;冯永旭 -专利权人：鹏城微纳技术（沈阳）有限公司
申请日： 2022-08-19 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于低压气相沉积的抽气装置，涉及机床技术领域，为解决机械泵功率过大，抽气时影响真空腔室内基片工艺位置的问题。该抽气装置可以包括真空腔室、第一连通件、第一管路、第二管路、第三管路、第二连通件、第一阀门、第二阀门、蝶阀和机械泵。其中，第一连通件，与真空腔室相连通。第一管路一端与第一连通件相连通。第二管路一端与第一连通件相连通，第二管路的直径大于第一管路的直径。第三管路一端与第一连接件相连通。第二连通件与第一管路的另一端、第二管路的另一端、第三管路的另一端相连通。第一阀门安装于第一管路上。第二阀门安装于第二管路上。蝶阀安装于第三管路上。机械泵与第二连通件相连通。
一种用于压气沉积装置

[外观设计]镀膜设备（热丝薄膜沉积）-CN202230563190.3有效
发明人：蔡豫;吴煦;郭垒;梁家禄;吴向方;孙铁帅;冯永旭 -专利权人：鹏城微纳技术(沈阳)有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：镀膜设备（热丝薄膜沉积）。2.本外观设计产品的用途：热丝薄膜沉积在半导体表面进行镀膜。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
镀膜设备薄膜沉积

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