专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]穿线孔可调式配电箱-CN202123303810.9有效
  • 皮春明;高锡春;后羿;李成辉 - 中交(广州)建设有限公司;广东力生电器有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-06-14 - H02B1/46
  • 本实用新型公开了一种穿线孔可调式配电箱,包括箱体和至少一组遮挡组件,箱体侧壁开设有穿线孔;遮挡组件包括滑槽和挡板,滑槽设置于箱体侧壁,挡板活动设置于滑槽;其中,挡板能够沿着滑槽移动覆盖部分穿线孔或覆盖整个穿线孔。通过在穿线孔处设置遮挡组件,遮挡组件包括滑槽和挡板,挡板能够沿着滑槽移动并覆盖部分穿线孔或覆盖整个穿线孔,使得工作人员可以根据线缆的实际大小,将穿线孔调节至与线缆适配的大小;当穿线孔不使用时,也可以将穿线孔关闭,由此能够灵活调节穿线孔的大小,扩大配电箱的适用范围,提高配电箱的安全性能。
  • 穿线调式配电箱
  • [发明专利]忆阻器件及其制备方法-CN201210587167.3有效
  • 刘力锋;后羿;李悦;于迪;陈冰;高滨;韩德栋;王漪;康晋锋;张兴 - 北京大学
  • 2012-12-28 - 2013-04-03 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种忆阻器件,包括衬底层,所述衬底层之上有多层隔离层,每两层隔离层之间包括一层忆阻单元,忆阻单元包括两层可动离子阻挡层和中间的平面电极层;还包括从最上层的隔离层刻蚀至最下层隔离层的顶电极刻蚀槽;所述顶电极刻蚀槽及最上层隔离层的表面覆盖有电解质层;所述顶电极刻蚀槽内设置有顶电极;还包括分别从最上层隔离层表面覆盖的电解质层刻蚀至各忆阻单元的平面电极层而形成的多个底电极。本发明并提供了制备该忆阻器件的制备方法。本发明提出的垂直结构的忆阻器件,简化了三维忆阻器件的工艺,同时采用可动金属离子阻挡层技术,有效解决可动离子污染问题。
  • 器件及其制备方法

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