专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件及其形成方法-CN202310797613.1在审
  • 李旭峯;曾于平;黄立贤;庄曜群;卢胤龙 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2023-06-30 - 2023-10-24 - H01L23/538
  • 一种形成半导体器件的方法包括在第一器件管芯的第一衬底上沉积第一介电层,蚀刻第一介电层以形成沟槽,在沟槽中和第一介电层的顶表面上沉积金属材料,以及执行化学机械抛光(CMP)工艺,以从第一介电层的顶表面去除金属材料的部分来形成第一金属焊盘。在CMP工艺的执行之后,该方法选择性地蚀刻第一金属焊盘,以在第一金属焊盘的边缘部分处形成凹槽,在第二器件管芯的第二衬底上沉积第二介电层,在第二介电层中形成第二金属焊盘,以及将第二器件管芯接合至第一器件管芯。第二介电层接合至第一介电层,并且第二金属焊盘接合至第一金属焊盘。本发明的实施例还提供了半导体器件。
  • 半导体器件及其形成方法
  • [发明专利]晶片级测试方法及装置-CN202110710654.3在审
  • 何军;林裕庭;林威勋;郭永良;卢胤龙 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-06-25 - 2022-04-19 - H01L21/66
  • 本发明实施例涉及晶片级测试方法及装置。本发明实施例提供一种用于测试半导体装置的方法及系统。所述方法包含:提供具有输入端子及输出端子的受测试装置DUT;在第一周期期间将具有第一电压电平的电压施加到所述DUT的所述输入端子;在所述第一周期之后的第二周期期间将应力信号施加到所述DUT的所述输入端子;响应于所述DUT的所述输出端子处的所述应力信号获得输出信号;及将所述输出信号与所述应力信号进行比较。所述应力信号包含多个序列,每一序列具有斜升阶段及斜降阶段。所述应力信号具有第二电压电平及第三电压电平。
  • 晶片测试方法装置
  • [发明专利]半导体结构-CN202010177673.X在审
  • 吴东骏;卢胤龙;张敏妮;王明义 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2020-03-13 - 2020-12-25 - H01L23/522
  • 本发明实施例涉及半导体结构。一种包含金属‑绝缘体‑金属MIM电容器的半导体结构包含:衬底;MIM电容器,其安置于所述衬底上方;第一绝缘层,其安置于所述MIM电容器上方;氧化物‑氮化物‑氧化物‑氮化物ONON堆叠,其安置于所述第一绝缘层上方;连接通路,其安置于所述第一绝缘层中;及连接垫,其安置于所述ONON堆叠中且与所述连接通路接触。所述ONON堆叠覆盖所述连接垫的侧壁及所述连接垫的顶面的部分。
  • 半导体结构
  • [发明专利]晶片级测试方法和系统-CN201910751987.3在审
  • 军·何;林裕庭;林威勋;郭永良;卢胤龙 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-08-15 - 2020-03-17 - G01R31/26
  • 本发明实施例涉及晶片级测试方法和系统。本公开提供用于测试半导体装置的方法和系统。所述方法包含以下操作。提供上面形成有IC的晶片。通过使所述IC的电压在第一周期期间升高到第一电压电平来为所述IC供能。将应力信号施加到所述IC。在第一周期之后的第二周期期间,所述应力信号包含多个序列。所述序列中的每一者具有斜升阶段和斜降阶段。所述应力信号致使所述IC的所述电压在第二电压电平与第三电压电平之间变动。在施加所述应力信号之后,确定所述IC是否符合测试准则。
  • 晶片测试方法系统

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