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- [实用新型]槽式清洗设备-CN202320710604.X有效
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闫亮;李圆晨;南建辉;张金斌;张明
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2023-04-03
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2023-10-13
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H01L21/66
- 本实用新型提供一种槽式清洗设备。其包括:工艺槽体;升降机构,包括多个用于承载晶圆且沿第一水平方向间隔排布的卡槽;传感器组件和反光件,二者沿第二水平方向相对设置于工艺槽体两侧,且高于工艺槽体的上边沿;第二水平方向与第一水平方向相互垂直;传感器组件包括多个漫反射传感器,且多个漫反射传感沿第一水平方向间隔排布,并且每相邻两个卡槽的间隔中对应设置有一个漫反射传感器;漫反射传感器用于向反光件发射光信号,并接收反光件反射而来的反射信号。本申请的槽式清洗设备可以检测升降机构是否出现异常,且扩大了可检测到的升降机构异常的范围,以提高对于升降机构异常检测的准确性。
- 清洗设备
- [发明专利]电解法制备硒化氢的方法和设备-CN201910424759.5有效
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赵青松;闫冬升;胡有光;刘文杰;彭小磊;南建辉
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紫石能源有限公司
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2019-05-21
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2023-08-01
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C25B1/01
- 本发明提供一种电解法制备硒化氢的方法和设备,属于电子气体制备技术领域,其可至少部分解决现有的硒化氢的制备过程中工艺不安全、工艺系统复杂、转化率低的问题。本发明的电解法制备硒化氢的方法包括提供电解池,电解池内设置有离子交换膜,离子交换膜将电解池分割为第一电解槽和第二电解槽,第一电解槽内存储有阴极电解液,第二电解槽内存储有阳极电解液,离子交换膜仅允许阴极电解液和阳极电解液中的氢离子透过该离子交换膜且不允许气体通过该离子交换膜,阴极电解液为纯水或酸溶液;在第一电解槽内设置硒阴极,在第二电解槽内设置阳极,阳极由电解时不与阳极电解液反应的材料形成;分别向硒阴极和阳极通入设定工作电压以制备硒化氢。
- 解法制备硒化氢方法设备
- [发明专利]清洗装置-CN202310108974.0在审
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张亚斌;王昭;王锐廷;南建辉;赵宏宇;李嘉
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2023-01-31
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2023-04-21
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H01L21/67
- 本申请公开一种清洗装置。所公开的清洗装置用于清洗晶圆夹持机构。所公开的清洗装置包括装置主体和调节件,装置主体设有进水口和与进水口连通的过水空间,调节件与装置主体相连,且调节件与装置主体形成水幕喷射缝隙,水幕喷射缝隙与过水空间连通;调节件可相对于装置主体具有多个相对位置,调节件处在不同的相对位置时与装置主体形成的水幕喷射缝隙的第一尺寸均不相等,第一尺寸为调节件与装置主体用于形成水幕喷射缝隙的部位之间的距离。上述方案能解决相关技术涉及的清洗装置存在的水幕喷射缝隙无法较好地适应不同供水场景下的清洗任务的问题。
- 清洗装置
- [实用新型]半导体清洗设备-CN202220192461.3有效
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张虎威;高少飞;南建辉;张金斌
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2022-01-24
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2022-07-19
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H01L21/67
- 本实用新型提供一种半导体清洗设备,包括:晶片清洗单元、干燥单元以及上下料单元,上下料单元用于对晶片进行上料以及下料;第一机械手、第二机械手以及洗手单元,洗手单元用于对第一机械手进行清洗和/或吹干,洗手单元内部设有晶片暂存结构,用于对待清洗的晶片进行暂时存放,第一机械手用于将待清洗的晶片由上下料单元传送至晶片暂存结构,且在通过洗手单元清洗后还用于将清洗后的晶片由晶片清洗单元传送至干燥单元,且在通过洗手单元吹干后还用于将干燥后的晶片由干燥单元传送至上下料单元,第二机械手用于将待清洗的晶片由晶片暂存结构传送至晶片清洗单元。第一机械手和第二机械手配合调度,从而改善晶片传输效率,提升设备产能。
- 半导体清洗设备
- [实用新型]轴承保持架盖-CN202122781182.9有效
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南建辉;熊高明;韩瑞瑞;王辉;张喜民;李瑶;杨宇祥
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杭州人本装备轴承有限公司
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2021-11-15
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2022-05-10
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F16C33/46
- 本实用新型公开了轴承保持架盖,属于轴承技术领域,目前的保持架盖与凸筋榫头间铆合存在如下不足:铆合处存在缝隙,无法做到完全焊接,则凸筋存在径向晃动;盖环与凸筋端面贴合不够紧密,凸筋存在轴向晃动,本方案包括第一盖环和第二盖环,第一盖环和第二盖环相靠近的一端端面间设有多个凸筋,凸筋的两侧外壁均开有转槽,相邻转槽围成兜孔,第一盖环和第二盖环上均开有多个榫槽,凸筋的两端端面均固定安装榫头,榫头贯穿榫槽并与第一盖环和第二盖环铆接。凸筋端面的榫头与榫槽紧密贴合匹配,从而热铆合连接后凸筋在第一盖环和第二盖环间完全固定,滚动体转动卡接在转槽内,并通过兜孔限位,配合精度高,提高轴承转动精度。
- 轴承保持
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