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[发明专利]激光结晶设备及其驱动方法-CN201710541686.9有效
发明人：徐宗吾;李童敏;姜美在;全祥皓 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-07-05 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种激光结晶设备及其驱动方法。所述激光结晶设备包括：激光产生模块，被构造成产生激光束；光学模块，被构造成引导激光束；退火室，包括其上设置有目标基底的台，所述目标基底包括形成在其中的非晶薄膜，台沿X轴方向和Y轴方向是可移动的；以及倾斜折射透镜，被构造成将具有矩形形状的横截面区的激光束转换成具有非矩形的平行四边形形状的横截面区的倾斜的激光束并且被构造成与台垂直地照射所述倾斜的激光束。
激光结晶设备及其驱动方法

[发明专利]退火装置、其检测方法、退火设备、以及退火工艺方法-CN202310737765.2在审
发明人：陈科全;路兆里;全祥皓;李若尧;江玲;刘晓锋;易靖洋;王云飞;张苁;王丙海;于泽;李思捷;邹澳;罗平;程正东;罗晓霜;李栋梁;何寿超;季子云 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2023-06-20 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C21D1/26 文献下载
摘要：本发明公开一种退火装置、其检测方法、退火设备、以及退火工艺方法。其中一实施例的退火装置，应用于准分子激光退火设备，所述退火装置包括：承载台，用于承载和移动待加工的显示基板，所述承载台包括具有长边和短边的载物台；设置在所述载物台上方的具有腔体的退火室，所述退火室包括靠近所述载物台一侧的底壁和与所述底壁相对设置的远离所述载物台一侧的顶壁，所述底壁上设置有狭缝，所述狭缝在所述载物台的正投影的延伸方向平行于所述长边；设置在所述顶壁远离所述腔体一侧的光学镜组，用于传输激光发射器出射的激光光束；以及设置在所述腔体内位于所述狭缝上方的遮挡件，遮挡件在底壁的正投影和狭缝在底壁的正投影形成部分重叠或完全重叠。
退火装置检测方法设备以及工艺

[发明专利]一种激光退火设备-CN202010278970.3有效
发明人：汪庆;路兆里;刘松林;全祥皓;赵东升 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光退火设备，包括：脱氧室，位于脱氧室上方的准分子激光发生器，以及位于脱氧室下方的退火室；退火室包括承载台，用于承载具有非晶硅膜的基板；脱氧室包括：底部盖板、退火窗口和氮气输送管；底部盖板包括：激光出射狭缝和分布在激光出射狭缝周围的多个气体扩散孔；氮气输送管提供的氮气填充脱氧室并通过激光出射狭缝和各气体扩散孔扩散至承载台；准分子激光发生器发射的激光依次经退火窗口和激光出射狭缝射向承载台。通过在激光出射狭缝周围增设多个气体扩散孔，使得由激光出射狭缝和各气体扩散孔吹扫至承载台表面的氮气氛围较均匀，保证了熔融再结晶区域处于纯氮气环境，提高了结晶质量，进而提升了产品良率。
一种激光退火设备

[发明专利]激光退火设备-CN202110241720.7有效
发明人：李若尧;刘松林;路兆里;全祥皓 -专利权人：重庆京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种激光退火设备。在本申请实施例提供的激光退火设备中，由于光束截止器朝向收集腔室的一面为凹弧面，且凹弧面的焦距不小于第一尺寸且小于设计焦距上限，从而使得第一激光光束经过光束截止器的反射后，投射在第一侧壁的第一光斑的面积大于设计面积。从而能够避免第一激光光束集中投射在第一侧壁的某一区域处，能够避免第一侧壁中第一光斑投射处出现温度明显升高的问题，有利于降低第一侧壁中第一光斑投射处的温度，进而能够避免光束收集器出现温度升高的问题，有利于降低光束收集器的温度，从而有利于降低激光退火设备整体的温度。
激光退火设备

[发明专利]激光退火装置及激光退火系统-CN202211352262.5在审
发明人：陈科全;路兆里;全祥皓;李若尧;江玲;刘晓锋;王丙海;于泽;倪仁旺;熊月;张苁;王云飞;易靖洋;罗平;季子云;罗晓霜;程正东 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开关于一种激光退火装置及激光退火系统。涉及激光退火技术领域。激光退火装置包括激光发射器、补偿机构和出光镜组。补偿机构包括分光组件、第一翻转组件、第二翻转组件和光路引导组件；分光组件用于将激光发射器发射的激光至少分为第一光束和第二光束；第一翻转组件和第二翻转组件用于将第一光束进行不同方向上的翻转。出光镜组光路引导组件用于引导第一光束在依次经过第一翻转组件和第二翻转组件后照射至出光镜组，以及引导第二光束照射至出光镜组，并与翻转后的第二光束叠加。
激光退火装置系统

[发明专利]激光退火设备、系统及方法-CN202211167693.4在审
发明人：江玲;路兆里;全祥皓;李若尧;陈科全;熊月;易靖洋;刘晓锋;王云飞;张苁;于泽;王丙海 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开提供一种激光退火设备、系统和方法，涉及半导体制造技术领域。激光退火设备包括激光发射装置和分光组件，分光组件用于将激光发射装置发射的激光分为多个光束，且各光束间隔分布；分光组件包括至少一个第一镜片和第二镜片，第一镜片位于第二镜片和激光发射装置之间；第一镜片用于对激光发射装置发出的激光进行透射和反射，第二镜片至少用于对激光发射装置发出的激光进行反射；每个第一镜片反射一束激光后，得到一个光束，每个第二镜片反射激光后，得到一个光束。本公开的激光退火设备、系统和方法可在不降低生产效率的前提下，提高显示效果的均一性。
激光退火设备系统方法

[发明专利]激光退火设备及系统-CN202210314619.4在审
发明人：李若尧;路兆里;全祥皓;刘松林;江玲;易靖洋;陈科全;刘晓锋;熊月;张苁;王云飞;于泽;黄万奇;王丙海;罗平;程正东;罗晓霜;倪仁旺;季子云;曹烘燕 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供了一种激光退火设备及系统，激光退火设备包括：激光装置和光学补偿装置；激光装置用于向光学补偿装置发射激光光束；光学补偿装置包括分束结构和翻转结构；分束结构用于对激光光束进行反射和透射，分别得到第一光束和第二光束，并将第一光束和能量翻转后的第二光束叠加后输出；翻转结构位于分束结构的远离入射光束的一侧，用于对第二光束进行能量翻转。本申请的技术方案可提高激光光束的能量均一性。
激光退火设备系统

[发明专利]激光退火窗装置及激光退火设备-CN202111662295.5在审
发明人：李若尧;路兆里;全祥皓;刘松林;熊月;易靖洋;刘晓锋;陈科全;张苁;江玲;王云飞;罗平;季子云;程正东 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开一些实施例提供了一种激光退火窗装置及激光退火设备，涉及显示技术领域，用于改善激光退火工艺的工艺质量，以及提高激光退火窗装置的使用寿命。所述激光退火窗装置包括壳体、光学镜组和至少一个驱动结构。壳体围成容纳腔。光学镜头设置于容纳腔内；光学镜头沿第二方向延伸，光学镜头沿第三方向的尺寸小于容纳腔沿第三方向的尺寸。第一方向垂直于参考面；第二方向平行于参考面；第三方向平行于参考面，且垂直于第二方向。沿第三方向，驱动结构设置于光学镜头的一侧，被配置为驱动光学镜头在容纳腔内沿第三方向运动。本公开一些实施例提供的激光退火窗装置及激光退火设备用于制备显示面板。
激光退火装置设备

[发明专利]激光晶化装置及晶化激光束的控制方法-CN201711084695.6有效
发明人：李童敏;全祥皓;姜美在;徐宗吾;苏炳洙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B23K26/53 文献下载
摘要：本发明公开一种能够发出均匀的激光束而能够进行高质量的非晶硅层晶化的激光晶化装置及晶化激光束的控制方法，本发明的激光晶化装置包括能够发出激光束的激光束产生部、将激光束匀化的匀化器以及光扩散部，且匀化器包括分光透镜、叠光镜。
激光化装激光束控制方法

[发明专利]一种阵列基板、制备方法以及显示装置-CN202110727811.1在审
发明人： 全祥皓;赵志伟;肖喻钊;戴文连;任佳艺;朴海兰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种阵列基板、制备方法以及显示装置。在一具体实施方式中，该阵列基板包括多个薄膜晶体管，该阵列基板的制备方法包括在衬底上形成图案化的有源材料层，图案化的有源材料层包括待形成的薄膜晶体管的沟道区以及对应薄膜晶体管的源漏电极的非沟道区；在衬底上形成金属层，金属层使得多个薄膜晶体管的非沟道区电连接；在金属层和图案化的有源材料层上形成栅极绝缘层、栅极以及与非沟道区电连接的源漏电极，以形成多个薄膜晶体管。该实施方式的制备方法通过形成与多个薄膜晶体管的非沟道区电连接的金属层，从而降低制备得到的阵列基板的薄膜晶体管之间的电流电阻，改善薄膜晶体管之间的电流移动。
一种阵列制备方法以及显示装置

[发明专利]激光晶化设备和方法-CN201710447134.1有效
发明人：苏炳洙;姜美在;李镐锡;任在均;全祥皓;田姸熙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-06-14 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： B23K26/53 文献下载
摘要：本发明公开一种激光晶化设备和方法。该激光晶化方法包括激发密封容器中的气体介质以生成激光束；通过使所述激光束在分别面对所述密封容器的相对端部设置的高反射镜与低反射镜之间反射来放大所述激光束，其中第一透明窗和第二透明窗被固定至密封容器的相应端部并且输出放大后的激光束；以及将清洁镜设置在已透过所述第二透明窗的激光束的路径中。
激光设备方法

[发明专利]激光补偿光学系统和准分子激光退火设备-CN202011050289.X在审
发明人： 全祥皓;姜畯盛;路兆里;刘松林;李若尧;朴海兰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光补偿光学系统和准分子激光退火装置。激光补偿光学系统包括：激光源、分束器和回转组件，激光源向分束器发射激光光束。分束器将激光源发射的激光光束分为沿不同路径传输的第一光束和第二光束。回转组件将第二光束回转并反射至分束器以使第一光束与回转后的第二光束合束输出。本申请实施方式的激光补偿光学系统将激光源发射的原始激光光束分为第一光束和第二光束，通过将第二光束回转后与第一光束合束输出，从而改善原始激光光束的非对称性，提高输出光束的稳定性，有利于在低温多晶硅薄膜制造过程中提高多晶硅薄膜的质量，改善薄膜表面平坦性，提高晶粒尺寸及晶粒均匀性的控制。
激光补偿光学系统准分子激光退火设备

[发明专利]准分子激光退火系统-CN202010838749.9在审
发明人：刘松林;路兆里;赵志伟;全祥皓;王灿;胡成龙;谢璞;张宇 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
申请日： 2020-08-19 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： H01S3/034 文献下载
摘要：本申请提供一种准分子激光退火系统。所述准分子激光退火系统包括激光器，所述激光器用于产生初始激光束。所述激光器包括激光管，所述激光管的相对两个端口分别设有透明镜片。所述透明镜片设有至少两个目标区域，所述至少两个目标区域并列排布。所述目标区域与所述端口形状匹配，所述目标区域可与所述端口配合将所述端口封堵。所述准分子激光系统还包括固定结构，所述固定结构包括滑动部及滑轨，所述滑动部用于固定透明镜片，所述滑动部可在所述滑轨上移动，以切换与所述端口配合的所述目标区域。
准分子激光退火系统

[发明专利]NMOS器件及其制备方法以及显示装置-CN201810098930.3在审
发明人：强朝辉;全祥皓 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-07-17 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明提供一种NMOS器件及其制备方法以及显示装置，该制备方法包括：在基板上形成半导体图案；在基板上形成覆盖半导体图案的栅极绝缘层；在栅极绝缘层上形成第一导电层，经过刻蚀后形成第一栅极；以第一栅极作为掩模，对半导体图案进行第一掺杂；在栅极绝缘层上形成第二导电层，经过刻蚀后形成第二栅极并且第二栅极包覆第一栅极；以第二栅极作为掩模，对半导体图案进行第二掺杂；在栅极绝缘层上形成层间介电层；形成贯穿层间介电层和栅极绝缘层的过孔；形成源极和漏极，源极和漏极分别通过过孔与半导体图案连接。本发明的NMOS器件采用叠层栅极结构，在形成叠层的同时可以完美匹配离子注入工艺，避免了在离子掺杂过程中使用光刻胶所导致的碳化问题。
半导体图案栅极绝缘层制备显示装置叠层基板刻蚀漏极掩模源极掺杂离子掺杂过程离子注入工艺层间介电层第二导电层第一导电层碳化问题栅极结构光刻胶介电层包覆匹配贯穿覆盖

[发明专利]等离子体显示面板-CN200910212128.3无效
发明人：孙承贤;全祥皓;金贤硕;尹福天;郑实根;金炫彻;黄义晶;金正珉;崔城铉;南文浩;金城秀;李惠贞;安商赫;赵晟希;金起永;金明燮 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2009-11-10 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： H01J17/49 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体显示面板。该等离子体显示面板具有放电单元，该放电单元的每个在第一基板与第二基板之间具有宽度范围。此外，放电单元由非放电空间分隔，非放电空间的高度与放电单元的高度基本相等。
等离子体显示面板

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