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[发明专利]一种增强密集图形光刻分辨率的方法-CN202010638023.0有效
发明人：许箭;秦龙;耿文练;花雷 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2020-07-03 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种增强密集图形光刻分辨率的方法，包括执行胶图案化工艺，从而形成第一掩模图案；执行胶层处理工艺；再次执行胶图案化工艺，从而形成第二掩模图案，第二掩模图案中的图形与第一掩模图案中的图形间隔设置；其中，胶图案化工艺包括：在衬底上依次形成第一胶层和第二胶层；通过光刻曝光工艺在第一胶层上形成曝光区和非曝光区；采用第一溶剂去除曝光区和第二胶层的部分区域，或者先采用第二溶剂去除曝光区，再采用第三溶剂去除第二胶层的部分区域，从而在第一胶层形成第一图案，在第二胶层形成第二图案，第二图案是在第一图案基础上缩进后的图案；采用第四溶剂去除非曝光区；胶层处理工艺用于使第一胶层耐第一溶剂或第三溶剂溶解。
一种增强密集图形光刻分辨率方法

[发明专利]碱溶性丙烯酰胺树脂及含其的金属剥离胶组合物-CN202110290025.X有效
发明人：秦龙 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2021-03-18 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C08F220/56 文献下载
摘要：本申请涉及一种碱溶性丙烯酰胺树脂，其由非N‑取代丙烯酰胺单体或其衍生物、N‑取代丙烯酰胺单体或其衍生物、丙烯酸类单体或其衍生物和丙烯酸酯类单体或其衍生物共聚而成。本申请还涉及如上所述的碱溶性丙烯酰胺树脂的制备方法及一种金属剥离胶组合物，该组合物由上述主体树脂、增感剂、感光剂和光刻胶溶剂配制而成，能够广泛应用于金属剥离工艺。本申请不仅极大简化了树脂生产工艺流程，所述金属剥离胶组合物可用常规去边溶剂进行去边，软烘后原位酰胺化成环，使薄膜在有机溶剂中可以达到阻溶效果，而且解决了实际量产光刻工艺中所产生的涂覆缺陷问题。
碱溶性丙烯酰胺树脂金属剥离组合

[发明专利]一种聚合物树脂及其制备方法与应用-CN201910489077.2有效
发明人：许箭;花雷;耿文练 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2019-06-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C08F222/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚合物树脂，其具有如结构式I～III所示的结构单元：其中，x、y、z表示该结构单元在所有结构单元中的数量占比，分别为30％‑70％、2％‑40％、2％‑30％。该聚合物树脂具有优良的热力学性能及溶解性能，由其作为主体树脂配制而成的金属剥离胶，能够广泛应用于金属剥离工艺。本发明还公开了该聚合物树脂的制备方法、包含该聚合物树脂的金属剥离胶组合物，以及金属剥离胶组合物的应用。
一种聚合物树脂及其制备方法应用

[发明专利]一种增强光刻图形分辨率的方法-CN202010638024.5有效
发明人：许箭;袁华;耿文练;孙小侠 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2020-07-03 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种增强光刻图形分辨率的方法，其包括在衬底上依次形成第一胶层和第二胶层；通过光刻曝光工艺在所述第一胶层上形成曝光区和非曝光区；采用第一溶剂去除所述曝光区和所述第二胶层的部分区域，或者先采用第二溶剂去除所述曝光区，再采用第三溶剂去除所述第二胶层的部分区域，从而在所述第一胶层形成第一图案，在所述第二胶层形成第二图案，所述第二图案是在所述第一图案基础上缩进后的图案；采用第四溶剂去除所述非曝光区。
一种增强光刻图形分辨率方法

[发明专利]一种聚合物树脂及其制备方法和金属剥离胶组合物-CN202011405540.X有效
发明人：秦龙;耿文练;花雷 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： C08F222/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚合物树脂，其具如下通式：其中，R1、R2、R3、R4、R6、R8中的每个选自H、苯基或含1‑4个碳的烷烃基团；R5选自含1‑10个碳原子的直链、支链或环状烃类基团，苯基或苄基；R7选自1‑10个碳原子的直链、支链或环状烃类基团；X选自含1‑10个碳原子的直链、支链、环状烃类基团，醚类基团，酯基，酰胺基团或芳香基团。本发明还公开了该聚合物树脂的制备方法、包含该聚合物树脂的金属剥离胶组合物。
一种聚合物树脂及其制备方法金属剥离组合

[发明专利]一种碱溶性聚合物树脂及其制备方法与应用-CN201910655315.2有效
发明人：袁华;许箭;秦龙;汪武平;花雷;陈一鸣;耿文练 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C08F234/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种碱溶性聚合物树脂，其具有如结构式I～V所示的结构单元：其中，x、y、z、w、v表示该结构单元在所有结构单元中的数量占比，分别为40‑70％、0‑20％、10‑30％、0‑10％、5‑20％。该碱溶性聚合物树脂具有优良的热力学性能、黏附性能和碱溶可调性能，由其作为主体树脂配制而成的金属剥离胶，能够广泛应用于金属剥离工艺。本发明还公开了该聚合物树脂的制备方法、包含该聚合物树脂的金属剥离胶组合物，以及金属剥离胶组合物的应用。
一种碱溶性聚合物树脂及其制备方法应用

[发明专利]一种金属剥离胶组合物在光刻工艺中的应用-CN202011396352.5在审
发明人：许箭;秦龙;耿文练;花雷 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属剥离胶组合物在光刻工艺中的应用，所述金属剥离胶组合物作为碱溶牺牲层应用在金属剥离工艺中，其上层可兼容光刻胶，所述光刻胶选自G线、I线光刻胶、248nm光刻胶、193nm光刻胶、极紫外光刻胶、纳米压印光刻胶或电子束光刻胶。
一种金属剥离组合光刻工艺中的应用

[发明专利]含碱性香豆素结构的聚合物树脂及其光刻胶组合物-CN201710858228.8有效
发明人：许箭;刘晓华;秦龙;汪武平;耿文练 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提出了含碱性香豆素结构的聚合物树脂及其光刻胶组合物，涉及一系列含碱性香豆素结构的聚合物树脂的合成方法及包含该聚合物树脂的光刻胶材料的制备方法。本发明将碱性香豆素结构引入光刻胶主体树脂中，该树脂既可以满足化学光刻胶基本树脂的要求，又可以作为吸光剂和碱性添加剂，能够有效地改善光刻图形分辨率和形貌。该光刻胶主要应用于大规模集成电路光刻技术中，如紫外、深紫外、极紫外及电子束等光刻技术中，尤其适用于248nm光刻技术。
碱性香豆素结构聚合物树脂及其光刻组合

[实用新型]新型光刻胶罐装瓶-CN202020287349.9有效
发明人：耿文练 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： B65D23/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型光刻胶罐装瓶，包括瓶体，所述瓶体外侧固定连接有竖直设置的定位座，定位座内开设有定位孔，所述定位孔内套设有定位管，所述定位管内放置有温度计，所述温度计包括透明管体，所述透明管体上设置有用于显示温度的刻度，所述透明管体的底端设置有玻璃泡，所述透明管体中心设有空心管腔，所述空心管腔与玻璃泡通过毛细管相连通，所述定位管上凸出设置有与定位座进行搭接的定位环。本实用新型罐装瓶可以很直观地判断光刻胶是否经历过高温环境，避免光刻胶出现异常影响正常的使用。
新型光刻罐装

[实用新型]一种便于取液的光刻胶瓶-CN202020287330.4有效
发明人：耿文练 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： B65D23/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种便于取液的光刻胶瓶，包括外瓶和设置于外瓶内部的内囊，所述外瓶内侧底端对称设置有若干组支撑部，所述支撑部包括弹簧和与弹簧连接的卡爪，所述内囊为圆锥体结构，所述卡爪卡设于内囊外围，所述外瓶上端设置有伸入内囊的吸管。本实用新型便于取液的光刻胶瓶将内囊设置为圆锥体结构，内囊底部通过支撑部支撑，通过吸管插入圆锥体底部，便于将内囊中的光刻胶全部析出，避免残留带来浪费，同时支撑部的设置提高了光刻胶瓶的稳定性。
一种便于光刻

[发明专利]一种交联型丙烯酸酯类共聚物及其光刻胶-CN201710371950.9有效
发明人：秦龙;许箭;汪武平;耿文练 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2017-05-24 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种交联型丙烯酸酯类共聚物及其光刻胶，通过引入交联型单体，制备出具有交联度可控地三维网状结构的丙烯酸酯共聚物，利用该共聚物制备得到的光刻胶不仅能够满足实际量产工艺的要求(密集的line/space图形在最佳光刻条件下分辨率达到140纳米)，而且与同等含碳量非交联型的光刻胶对比，三维网状的树脂结构能够有效调整光刻胶的抗刻蚀性能，满足刻蚀工艺中对刻蚀比的要求。
一种交联丙烯酸酯共聚物及其光刻

[发明专利]一种聚合物树脂及其制备方法和应用-CN201811525923.3在审
发明人：许箭;秦龙;袁华;汪武平;耿文练;花雷;陈一鸣 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： C08F222/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚合物树脂，其具如下通式：其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₆、R₈中的每个选自H、苯基或含1‑4个碳的烷烃基团；R₅选自含1‑10个碳原子的直链、支链或环状烃类基团，苯基或苄基；R₇选自1‑10个碳原子的直链、支链或环状烃类基团；X选自含1‑10个碳原子的直链、支链、环状烃类基团，醚类基团，酯基，酰胺基团或芳香基团。本发明还公开了该聚合物树脂的制备方法、包含该聚合物树脂的金属剥离胶组合物，以及金属剥离胶组合物的应用。
聚合物树脂个碳原子环状烃类直链胶组合物金属剥离苯基制备方法和应用芳香基团烷烃基团酰胺基团醚类苄基酯基制备应用

[发明专利]电子束光刻胶组合物及制备方法-CN201810383600.9在审
发明人：秦龙;许箭;袁华;曾霞;刘晓华;汪武平;耿文练;花雷 -专利权人： 儒芯微电子材料（上海）有限公司
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了一种电子束光刻胶组合物，其主要成分包括卤代丙烯酸酯共聚物和光致产酸剂，所述卤代丙烯酸酯共聚物为卤代丙烯酸酯单体单元和芳香族丙烯酸酯或芳香族烯类单体单元的共聚物。通过引入侧链取代的卤族原子及刚性的芳香环，并选取了合适的单体单元的组合，本发明组合物中的共聚物具有较高的灵敏度和抗蚀性能。此外，本发明组合物中还具有光致产酸剂，能够加速组合物中的共聚物的裂解，有效提高了曝光效率，进一步提高了光刻胶的灵敏度。
共聚物卤代丙烯酸酯单体单元电子束光刻胶光致产酸剂灵敏度丙烯酸酯芳香族烯抗蚀性能卤族原子曝光效率芳香环芳香族光刻胶侧链裂解制备引入

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