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[发明专利]分析装置和分析方法-CN201810951851.2有效
发明人：梅基毅;西村晋哉;伊藤晋;大久保信明 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2018-08-21 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G01N25/00 文献下载
摘要：提供分析装置和分析方法，在遵照标准规格进行基于规定的分析方法的分析时能够减轻操作人员的负担、防止错误的分析。分析装置(100)具有：存储部(102)，其存储按照一个以上的分析方法的每个分析方法分别规定了分析条件的一个以上的标准规格的分析条件；控制部(104)；显示部(106)；输入部(108)；以及分析部(120)，其进行与分析方法对应的分析，在指定了分析方法时，控制部读出相对应的标准规格的分析条件，按照时间序列顺序显示其中的分析部的分析所需的分析条件或按照时间序列顺序提示输入分析条件，在从输入部输入了分析条件的情况下，控制部判定所输入的分析条件是否适合读出的分析条件，在判定为肯定的情况下，显示分析部的分析所需的下一个分析条件、或提示输入下一个分析条件。
分析装置方法

[发明专利]双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法-CN201880093234.1有效
发明人：彼得·约翰·罗伯茨;藤井宪晃;伊藤晋 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：实现透镜调整敏感性改善了的双透镜光学系统、光束合成模块、投影仪、以及双透镜光学系统的组装方法。双透镜光学系统(100)具备：第1透镜(1)，其仅沿从光源放射的光的光轴方向移动，并且用于进行准直调整；以及第2透镜(2)，其仅沿与光轴方向相对垂直的2个轴方向移动，并且用于进行光束转向。
透镜光学系统光束合成模块投影仪以及组装方法

[发明专利]图像显示元件-CN202111455920.9在审
发明人：井口胜次;大沼宏彰;伊藤晋;安西伸介 -专利权人：夏普福山激光株式会社
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01L25/16 文献下载
摘要：图像显示元件包括：像素，其配置为阵列状，且包括微型发光元件；驱动电路基板，其包括向所述微型发光元件供给电流并使其发光的驱动电路；微透镜，其针对每个所述像素配置；以及像素间隔壁，其配置在所述像素之间，且从所述微型发光元件的光释放面延伸到所述微透镜。
图像显示元件

[发明专利]生物体认证装置-CN201680076283.5有效
发明人： 伊藤晋;村田彻;土田和弘 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2016-09-29 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： G06T1/00 文献下载
摘要：使用简单的光学系统提高摄像精度。摄像装置(1)包括：偏振滤光片(3)，其从光源(2)照射的红外线的偏振光中，阻挡未透射摄像对象(5)的非透射光以及未散射而透射摄像对象(5)的内部的透射光，并使在摄像对象(5)的内部散射并透射的透射光透射；摄像元件(4)，其接收透射偏振滤光片(3)的光以拍摄摄像对象(5)。
生物体认证装置

[发明专利]出射光调整装置及出射光调整方法-CN202110944439.X在审
发明人： 伊藤晋;增井克荣;彼得·约翰·罗伯茨 -专利权人：夏普福山激光株式会社
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G02B19/00 文献下载
摘要：出射光调整装置(20)具备：在从聚光透镜(23)出射的第二出射光(Lo2)的路径的长度与第一距离(Le1)一致的位置获得第二出射光的第一像的第一光束分析器(24)；以及在第二出射光的路径的长度与第二距离(Le2)一致的位置获得第二出射光的第二像的第二光束分析器(25)。
出射光调整装置方法

[发明专利]热分析装置的控制部以及热分析装置-CN202011638716.6在审
发明人：山崎绿平;伊藤晋 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： G01N25/20 文献下载
摘要：本发明提供热分析装置的控制部以及热分析装置，能够掌握难以进行热分析的测定对象的热特性。热分析装置进行伴随测定对象(X、Y)的加热或冷却引起的温度变化的热性能的测定，该热分析装置的控制部(51)针对时间和温度中的任意变量取得测定对象对照射在该测定对象上的电磁波的响应信号的强度，用变量对强度进行微分，针对温度或时间输出该微分值，或者使规定的显示部(53)针对温度或时间显示该微分值。
分析装置控制以及

[发明专利]扫描探针显微镜和扫描探针显微镜的光轴调整方法-CN201610773686.7有效
发明人：渡边将史;上野利浩;伊藤晋;长谷川晶一 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G01Q20/02 文献下载
摘要：本发明涉及扫描探针显微镜和扫描探针显微镜的光轴调整方法。提供能够使用配置于扫描探针显微镜的物镜来自动地进行光杠杆的光轴调整的扫描探针显微镜和其光轴调整方法。是一种扫描探针显微镜（100），所述扫描探针显微镜（100）具备：悬臂支承部（11），以规定的安装角（θ）安装悬臂（4）；移动机构（21），对悬臂的位置进行调整；光源部（1），照射检测光（L0）；检测部（6），对检测光（L1）进行检测来对悬臂的移位进行检测；以及物镜（17），对悬臂的附近进行观察或拍摄，所述扫描探针显微镜（100）还具备控制单元（40），对使用物镜拍摄的检测光的光斑光的光斑位置（G1）进行检测，接着，对使用物镜拍摄的悬臂的位置（G2）进行检测，基于光斑位置、悬臂的位置、检测光（L0）的入射角（φ）、以及安装角，对移动机构进行控制，以使在将悬臂安装于悬臂支承部时在反射面反射检测光。
扫描探针显微镜光轴调整方法

[发明专利]热分析装置-CN202010561225.X在审
发明人： 伊藤晋;下田瑛太 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2020-06-18 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： G01N25/20 文献下载
摘要：本发明提供一种热分析装置。通过将试样的伴随温度变化的颜色信息的变化与热行为进行对照，能够更准确地掌握试样的热变化。热分析装置(100)具备加热炉(3)，并测定该加热炉内的试样(S1)的伴随温度变化的热行为，其中，加热炉具有开口部(W)，能够经由该开口部观察试样，热分析装置(100)具备：热行为测定单元(81)，其测定热行为；拍摄单元(90)，其经由开口部拍摄加热炉内的试样的图像数据；存储单元(84)，其将热行为以及图像数据与温度对应地存储起来；控制单元(81)；以及图像处理单元(82)，其根据图像数据生成规定的颜色信息，控制单元指示图像处理单元与多个温度对应地生成颜色信息，并且在规定的显示单元(86)使多个颜色信息以及热行为与温度对应地叠加显示。
分析装置

[发明专利]基板、发光装置以及照明装置-CN201580058650.4有效
发明人：小西正宏;伊藤晋;山下弘司;野久保宏幸;板仓祥哲 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2015-09-25 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L33/60 文献下载
摘要：提供一种具备绝缘耐压性和光反射性进而量产性也优良的用于配置发光元件的基板。一种用于安装发光元件(20)的基板(10)，具备：基体(12)；和绝缘层(30)，被直接或者间接地配置于基体(12)的表面，绝缘层(30)由反射光的反射层(32)、和被配置于反射层(32)内且线膨胀率比反射层(32)小的网眼状的玻璃片(31)构成。
以及发光装置

[发明专利]发光装置以及液晶显示器-CN201710135406.4有效
发明人：曾田义树;太田将之;玉置和雄;山口真司;伊藤晋;木村公士;辰巳正毅 -专利权人：厦门三安光电有限公司
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： H01L33/60 文献下载
摘要：本发明提供一种发光装置(1)，其使用了构成与一个或多个发光元件(2)对应的电极的引线框架(3、4)、以及利用白色树脂进行了一体成形的白色树脂成型封装体(5)，与发光元件(2)的搭载面为同一平面的反射面上的白色树脂表面的俯视面积构成得大于引线框架(3、4)的表面和发光元件所占的俯视总面积。另外，在引线框架(3、4)的表面形成阶差部，在阶差部中填充白色树脂，以增加搭载发光元件(2)的反射面上的白色树脂表面的面积。据此，提高光取出效率。
发光装置

[发明专利]发光装置用基板、发光装置及发光装置用基板的制造方法-CN201480069824.2有效
发明人：小西正宏;伊藤晋 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2014-11-11 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： H01L33/62 文献下载
摘要：基板(5A)具备：铝基体(10)；反射层(12)，形成在用于与发光元件(6)取得电连接的电极图案(20)和铝基体(10)之间且含有反射来自发光元件(6)的光的第1陶瓷；以及中间层(11)，含有通过喷镀而形成的第2陶瓷来加强反射层(12)的绝缘耐压性能。
发光装置用基板制造方法

[发明专利]发光装置用基板以及发光装置-CN201480067588.0有效
发明人：小西正宏;伊藤晋;野久保宏幸;山口一平 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2014-11-05 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： H01L33/60 文献下载
摘要：本发明提供一种高反射率、高散热性、绝缘耐压性、耐热/耐光性优异的基板。基板(5)具备：铝基体(10)；反射层(17)，形成在用于与发光元件取得电连接的电极图案(20)和铝基体(10)之间、含有陶瓷、且反射来自所述发光元件的光；以及中间层(16)，为了加强反射层(17)的绝缘耐压性能而形成、含有树脂、且导热性高。
发光装置用基板制造方法

[发明专利]发光装置用基板、发光装置及发光装置用基板的制造方法-CN201480072071.0有效
发明人：小西正宏;伊藤晋;野久保宏幸;板仓祥哲 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2014-12-04 - 公布日： 2019-08-20 - 主分类号： H01L33/60 文献下载
摘要：提供兼备高反射率、高散热性、绝缘耐压性、和包括耐热/耐光性的长期可靠性、且量产性也优异的发光装置用基板。发光装置用基板(20)具备：形成在金属基体(2)的一侧的面上且具有导热性的第1绝缘层(11)、形成在第1绝缘层(11)之上的布线图案(3)、以及使布线图案(3)的一部分露出地形成在第1绝缘层(11)之上以及布线图案(3)的一部分之上且具有光反射性的第2绝缘层(12)，第1绝缘层(11)是由通过喷镀而形成的陶瓷构成的层。
发光装置用基板制造方法

[发明专利]照明装置、照明用反射器及其制造方法-CN201480037880.8有效
发明人： 伊藤晋;小西正宏 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2014-07-09 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： F21K9/20 文献下载
摘要：具备朝向在轴向的一端开口的光出射口(14)而使内周面(13a)进行了扩径的金属制的基材(11)的照明用反射器(10)中，在内周面(13a)上的至少与光出射口(14)相反的一侧的端部，设置由含有陶瓷的薄膜形成的并且使光发生散射的薄膜层(17)。
照明装置反射及其制造方法

[发明专利]发光装置用基板、发光装置及照明装置-CN201580016800.5有效
发明人：小西正宏;伊藤晋;野久保宏幸;板仓祥哲 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2015-02-27 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： H05K1/05 文献下载
摘要：本发明提供一种发光装置用基板，其兼备高散热性、绝缘耐压性、和光反射性，而且量产性也优异，为了实现此目的，基板(5)具备：包含铝材料的铝基体(10)、和在铝基体(10)的表面上包含通过气溶胶沉积法形成的陶瓷的中间层(11)。
发光装置用基板

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