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- [发明专利]MEMS传感器结构及其形成方法-CN202210885940.8在审
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陈达
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中芯集成电路(宁波)有限公司
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2022-07-26
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2022-11-08
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B81B7/00
- 本申请公开一种MEMS传感器结构及形成方法,能够减小第一晶圆的边缘区域碎裂的几率,减小器件失效的几率,包括:第一晶圆,表面和/或内部形成有功能器件,第一晶圆包括相对设置的第一表面和第二表面,且第一表面形成有焊盘,焊盘位于功能器件所在区域的外侧,电连接至功能器件,用于进行键合打线,以将功能器件电连接到第一晶圆外;第二晶圆,通过第一键合组件支撑,并相对键合至第一晶圆的第二表面;第一键合组件包括:主键合件,环绕功能器件设置,呈环状,且主键合件、第一晶圆与第二晶圆之间形成第一空腔;副键合件,键合于第一晶圆和第二晶圆之间,且设置于主键合件的外侧,副键合件的分布区域与焊盘的位置相对,支撑第一晶圆的焊盘。
- mems传感器结构及其形成方法
- [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN201811604411.6有效
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叶菲;杨天伦
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中芯集成电路(宁波)有限公司
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2018-12-26
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2022-10-18
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H01L21/336
- 一种半导体结构及其形成方法,形成方法包括:提供基底,包括至少一个器件单元区,每一个器件单元区适于形成有源器件;在每一个器件单元区中,在基底内形成阱区,在所述阱区内形成至少两个相隔离的掺杂区;在每一个所述器件单元区中,在所述阱区内形成至少一个体接触区,所述体接触区的掺杂类型和所述阱区的掺杂类型相同;其中,形成所述掺杂区和体接触区后,所述体接触区位于所述掺杂区内,所述体接触区通过相对应的掺杂区与其他掺杂区相隔离,且所述体接触区底部与所述阱区相接触。本发明在不影响半导体结构正常工作的同时,缩短了半导体结构工作时所形成体区与外部电路的电连接距离。
- 半导体结构及其形成方法
- [发明专利]封装方法-CN201811604407.X有效
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秦晓珊
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中芯集成电路(宁波)有限公司
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2018-12-26
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2022-10-18
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H01L21/56
- 本发明提供一种封装方法,包括:提供待封装结构,所述待封装结构包括多个固定放置的芯片,所述芯片具有正面和与所述正面相对的背面,且所述正面暴露出所述芯片内的电连接结构表面,其中,所述待封装结构包括多个再布线区,且所述再布线区在所述芯片正面的正投影图形与所述电连接结构在所述芯片正面的正投影图形具有重合部分;进行选择性喷涂处理,向所述再布线区喷洒导电胶,并对所述再布线区的导电胶进行固化处理,形成多个再布线层,且每一再布线层对应与至少一芯片的电连接结构电连接。本发明利用选择性喷涂处理的方式形成再布线层,提高了形成的封装结构的性能,改善了封装效果。
- 封装方法
- [发明专利]一种成像模组-CN201911144081.1有效
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桂珞
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中芯集成电路(宁波)有限公司
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2019-11-20
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2022-10-14
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H04N5/225
- 本发明公开了一种成像模组,包括被移动元件;限位槽,设置于被移动元件的表面;包括可动端和固定端的压电元件,可动端上具有转轴,转轴置于限位槽内,限位槽为转轴提供移动空间,压电元件在通电状态下,可动端带动被移动元件向上或向下移动;弹性限位件,一端连接于压电元件的可动端,另一端位于限位槽内部或连接于与可动端的端面相对的部分,当压电元件处于自由状态时,弹性限位件处于自由状态,当压电元件的可动端发生翘曲时,弹性限位件被压缩或被拉伸;支撑块,用于支撑固定压电元件,固定端固定于支撑块;外部信号连接端,与压电元件中的电极电连接。
- 一种成像模组
- [发明专利]一种光学扫描投影机构-CN201911422691.3有效
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桂珞
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中芯集成电路(宁波)有限公司
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2019-12-31
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2022-10-14
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G03B21/28
- 本发明公开了一种光学扫描投影机构,包括:光源,用于提供光束;片状的压电元件,所述压电元件包括相对的固定端和可动端,自固定端至可动端的方向为第一方向,沿第一方向上所述压电元件包括至少一个分离的子压电元件,多个所述子压电单元之间电隔离,且各子压电单元单独在通电状态下产生翘曲;支撑块,所述压电元件的固定端固定于所述支撑块,形成悬臂结构;反射结构,用于接收光束并反射光束,位于所述压电元件表面或压电元件内;电连接结构,与所述子压电元件电连接,且具有外部信号连接端;光学承载体,用于接收反射结构的反射光束。
- 一种光学扫描投影机构
- [发明专利]晶圆清洗装置及控制系统-CN201910253278.2有效
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何雨
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中芯集成电路(宁波)有限公司
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2019-03-29
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2022-09-16
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B08B1/02
- 本发明提供一种晶圆清洗装置及控制系统,包括承载部、清洗刷、喷洒部及控制结构,所述控制结构包括驱动单元和控制单元,所述控制单元用于控制所述驱动单元按照第二设定方式工作,所述驱动单元用于驱动所述承载部、清洗刷及喷洒部工作;所述第二设定方式包括:在所述承载部处于旋转状态时,所述清洗刷处于清洗位置且按照所述第一设定方式运动,所述第一喷射单元处于所述喷射位置。本发明对晶圆的清洗可实现“刷”和“洗”同步,化学方法和物理方法结合,提高了去除效率,减小对化学试剂的选择依赖,提高半导体器件的稳定性,提升产品良率。
- 清洗装置控制系统
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