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[发明专利]一种加速人脸特征相似度分析的装置及方法-CN202010435467.4有效
发明人：余学儒;李琛;王鹏飞;段杰斌;王修翠;傅豪;周涛;燕燕;许博闻;郭令仪;李立人;孙红霞 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司;上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
申请日： 2020-05-21 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G06V40/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种加速人脸特征相似度分析的方法，针对分析对进行神经网络模型运算，获取w层中间节点特征和末端节点特征；针对每次获取的中间节点特征，判断该层中间节点特征的特征相似度是否大于对应的中间阈值，若大于等于对应的中间阈值，则输出所述分析对中两张人脸图片为同一人的结论，同时停止对分析对的神经网络模型运算；若w层中间节点特征的特征相似度均小于对应的中间阈值，判断末端节点特征的特征相似度是否大于末端阈值，并输出判断结论。本发明提供的一种加速人脸特征相似度分析的装置及方法，利用神经网络模型的中间节点特征进行人脸特征相似度分析，可以提高分析效率以及分析结果的准确性。
一种加速特征相似分析装置方法

[发明专利]一种关键尺寸误差分析方法-CN201911197188.2有效
发明人：余学儒;孙红霞;李琛;王鹏飞;段杰斌;王修翠;傅豪;周涛;燕燕;许博闻;郭令仪;李立人 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种关键尺寸误差分析方法，包括如下步骤：S01：对晶圆进行光刻，分别测量每个场中N个测试点的关键尺寸值CD；S02：清洗关键尺寸异常值；S03：基于重建模型拟合方法对剩余的关键尺寸值进行重建，得到重建之后的关键尺寸值CD”，将剩余的关键尺寸值划分为A个场景；S04：基于参数估计的方法计算每个场景中各个测试点在校正模型对应的参考系下的分量以及相应的残差；S05：根据上述计算结果，采用校正模型修改机台参数和掩模版。本发明提供的一种关键尺寸误差分析方法，利用外限估计清洗异常值，可快速准确地分析出光刻过程中关键尺寸误差。
一种关键尺寸误差分析方法

[发明专利]一种基于机器学习的CDSEM图像虚拟测量方法-CN202011459003.3有效
发明人：李立人;时雪龙;燕燕;许博闻;周涛 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：一种基于机器学习的CDSEM图像虚拟测量方法，其包括训练集和验证集的生成步骤、将光刻空间像图和CDSEM图像对齐步骤、采用神经网络模型，将所述光刻空间像图作为输入，与之对应的所述CDSEM图像作为目标输出，遍历所述训练集中的N1组所述光刻空间像图‑CDSEM图像数据对完成所述神经网络模型的训练；遍历验证集中的N2组所述光刻空间像图‑CDSEM图像数据对完成所述神经网络模型的验证。本发明通过建立OPC后光罩图案和光刻工艺后的CDSEM图像的映射，实现采用机器学习生成CDSEM图像，得到一个独立于OPC模型的验证模型，用于确认光刻后的图形的质量。
一种基于机器学习 cdsem 图像虚拟测量方法

[发明专利]基于逆向刻蚀模型确定光学临近修正光刻目标图案的方法-CN202011462245.8有效
发明人：燕燕;时雪龙;周涛;许博闻;李立人 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基于逆向刻蚀模型确定光学临近修正光刻目标图案的方法，其包括训练集和验证集的生成步骤、在进行模型训练之前将所述第一目标CDSEM图像与所述第二目标CDSEM图像对齐步骤、遍历N组所述第一目标CDSEM图像‑第二目标CDSEM图像数据对完成神经网络模型的训练、以及神经网络模型应用步骤。因此，本发明在已知设计图案的情况下，给出了光刻目标图案的准确解，其不仅实现了在不需要进行刻蚀偏差估计的情况下，进一步满足了光学临近修正精度的要求，且该逆向刻蚀模型速度比较快。
基于逆向刻蚀模型确定光学临近修正光刻目标图案方法

[发明专利]一种基于图像的离线的光刻工艺稳定性控制方法-CN202011459019.4有效
发明人： 许博闻;时雪龙;燕燕;周涛;李立人 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基于图像的离线的光刻工艺稳定性控制方法，其包括训练集和验证集的生成步骤、在进行模型训练之前将空间像和CDSEM图像对齐步骤、遍历N组空间像‑CDSEM图像数据对完成神经网络模型的训练的步骤、以及基于神经网络模型计算出的CDSEM图像反向推导出光刻工艺参数的步骤。本发明代替了使用散射仪和专门设计的光栅图样，从散射轮廓曲线来推断实际光刻工艺参数的传统方式，提出离线的空间像到CDSEM图像的方式，完成对光刻工艺参数的推导，缩短了时间周期和器件的使用成本，实现了离线的光刻工艺稳定性的控制。
一种基于图像离线光刻工艺稳定性控制方法

[发明专利]基于机器学习预测刻蚀工艺后CDSEM图像的方法-CN202011461483.7有效
发明人：燕燕;时雪龙;周涛;许博闻;李立人 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G06V10/774 文献下载
摘要：一种基于机器学习预测刻蚀工艺后CDSEM图像的方法，其包括训练集和验证集的生成步骤、在进行模型训练之前将所述空间像‑CDSEM图像对齐步骤、遍历N组所述空间像‑CDSEM图像数据对完成神经网络模型的训练、遍历所述验证集中的空间像数据，对训练完成的所述神经网络模型进行验证、以及神经网络模型应用步骤。因此，本发明在刻蚀之前根据空间像推算出实际刻蚀后的CDSEM图像，以检查是否有缺陷并进行进一步的修正，其优点在于速度快、精度高和成本低。
基于机器学习预测刻蚀工艺 cdsem 图像方法

[发明专利]存储运算电路-CN202111655724.6在审
发明人：郭令仪;李琛;段杰斌;余学儒;许博闻 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G11C16/26 文献下载
摘要：本申请提供一种存储运算电路，包括第一芯片、第二芯片以及多个数据引脚。其中，第一芯片与第二芯片三维堆叠，多个数据引脚为第一芯片的数据引脚，以二维阵列的形式排布。第一芯片包括多个存储块，每个存储块包括多个存储单元。第二芯片包括多个与存储块一一对应的运算块，每个运算块包括读写电路以及与读写电路相连接的块内运算电路。本申请的存储运算电路，第一芯片与第二芯片三维堆叠，从而可以使数据引脚以二维阵列的形式排布，个数不再受限于存储器的边长，从而在一个读写周期内，可以读写并传输多于现有存储器内一行的数据参与运算，提高了带宽，进而提高了运算速度。
存储运算电路

[发明专利]一种提升缺陷检测性能的方法-CN202011459029.8有效
发明人： 许博闻;时雪龙;燕燕;周涛;李立人 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： G06V10/774 文献下载
摘要：一种提升缺陷检测性能的方法，其包括训练集、验证集和测试集的生成步骤、遍历训练集中的N1组三通道图像‑目标CDSEM图像数据对完成神经网络模型的训练步骤、遍历验证集中的N2组三通道图像‑目标CDSEM图像数据对完成目标检测神经网络模型的验证步骤、遍历测试集中的N3组三通道图像‑目标CDSEM图像数据对完成目标检测神经网络模型的测试步骤以及基于最终的目标检测神经网络模型，对新的原始CDSEM图像进行缺陷检测步骤。因此，本发明将原始CDSEM图像的灰度信息和梯度信息进行结合，作为目标检测神经网络模型的输入图像，有助于模型从不同的视野去学习图像的缺陷特征，从而进一步提升模型训练的速度和准确度。
一种提升缺陷检测性能方法

[发明专利]像素单元及图像传感器-CN202111572846.9在审
发明人：余学儒;李琛;许博闻;燕燕;郑宇 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H04N5/374 文献下载
摘要：本发明提供了一种像素单元及图像传感器，所述像素单元包括目标二极管单元、辅助二极管单元、源跟随器单元和电流源单元，所述目标二极管单元和所述辅助二极管单元具有相同的漏电流特性，所述电流源单元一端和所述辅助二极管单元的阳极均接地，所述电流源单元另一端与所述源跟随器单元电连接，所述源跟随器单元的源极或漏极接工作电压，且所述目标二极管单元的阳极和所述辅助二极管单元的阴极均与所述源跟随器单元栅极电连接以根据输入信号进行分压并输出图像信号。本发明能够以较少的电路器件输出弱光照条件下的图像信号，并有效屏蔽暗电流的影响。
像素单元图像传感器

[发明专利]一种去噪模型生成方法、系统、设备及介质-CN202111392331.0在审
发明人：燕燕;时雪龙;周涛;许博闻 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种去噪模型生成方法、系统、设备及介质，该方法包括：获取晶圆光刻后的SEM图像集合；将所述SEM图像集合中相同坐标的SEM图像像素值叠加取平均值，得到目标图像集合；利用卷积神经网络模型对所述SEM图像集合中的SEM图像进行特征提取，得到SEM图像特征信息；获取所述目标图像集合的目标图像特征信息；利用所述SEM图像特征信息和所述目标图像特征信息对卷积神经网络模型进行训练，得到去噪模型。本发明通过获取目标图像集合中的目标图像特征信息，利用SEM图像特征信息和目标图像特征信息对卷积神经网络模型进行训练，得到去噪模型，采用该去噪模型实现对SEM图像进行去噪，提高了去噪的可靠性和效率。
一种模型生成方法系统设备介质

[发明专利]图像生成模型的训练方法及装置、图像的生成方法及装置-CN202111353672.7在审
发明人： 许博闻;时雪龙;李琛;燕燕;李立人 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种图像生成模型的训练方法及装置、图像的生成方法及装置，该图像生成模型的训练方法包括：获取第一SEM图像和训练工艺变化带宽图像；将该第一SEM图像输入图像生成模型的生成器，并以该训练工艺变化带宽图像为目标图像进行训练；根据该图像生成模型中的损失函数对该生成器进行迭代训练，直至输出的训练结果图像在坐标位置上的像素值与该训练工艺变化带宽图像在对应坐标位置的像素值满足预设的阈值条件。本发明通过在该图像生成模型输入特定工艺下的SEM图像，就可以获得在工艺窗口下的工艺变化带宽图像，便于研究曝光之后晶圆上图形的变化情况，并根据该变化情况，不断改善光刻工艺。
图像生成模型训练方法装置

[发明专利]一种用于消除莫尔条纹的像素单元和像素阵列-CN201910938919.8有效
发明人：李琛;王修翠;燕燕;许博闻 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司
申请日： 2019-09-30 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： H04N5/369 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于消除莫尔条纹的像素单元，包括第一像素子单元和第二像素子单元，所述第一像素子单元和第二像素子单元均包括两个绿色像素、一个红色像素和一个蓝色像素，且第一像素子单元和第二像素子单元中各个像素按照拜耳阵列排布；所述第一像素子单元中仅其中一个绿色像素连接第二像素子单元中红色像素或者蓝色像素。本发明提供的一种用于消除莫尔条纹的像素单元和像素阵列，通过特殊的排列方式，可以有效消除莫尔条纹。
一种用于消除莫尔条纹像素单元阵列

[发明专利]配送人员确定方法、装置、电子设备及可读存储介质-CN202011569074.9在审
发明人： 许博闻;高诗梦;阮文意 -专利权人：北京三快在线科技有限公司
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：本公开提供了一种配送人员确定方法及装置。包括：获取与处于目标业务平台上的配送人员集合中每个配送人员关联的配送特征信息；将配送特征信息输入至与目标区域对应的流失概率预测模型，获取配送人员对应的流失概率；根据配送人员集合中流失概率大于流失概率阈值的配送人员，生成第一人员集合；根据配送人员集合中每个配送人员的完单量信息，获取配送人员集合中的第一配送人员，根据第一配送人员生成第二人员集合；根据配送人员集合中每个配送人员的接单信息，获取配送人员集合中的第二配送人员，根据第二配送人员生成第三人员集合；根据第一人员集合、第二人员集合和第三人员集合，确定目标配送人员。本公开可以提升将流失配送人员的识别准确率。
配送人员确定方法装置电子设备可读存储介质

[发明专利]一种应用于先进控制系统的线宽控制方法-CN202010425461.9在审
发明人： 许博闻;李琛;时雪龙;燕燕;李立人 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于先进控制系统的线宽控制方法，包括如下步骤：设置第1次曝光的原始曝光能量Eexp(1)，并进行曝光；第1次曝光完成之后，计算第1次曝光的实际曝光能量El(1)以及预测曝光能量Ep(1)，且Ep(1)＝E(1)/f(1)；重复步骤S01‑S02，设置第x次曝光的原始曝光能量Eexp(x)等于第x‑1次曝光的预测曝光能量Ep(x‑1)，并进行曝光，再计算第x次曝光的实际曝光能量El(x)以及预测曝光能量Ep(x)；直至完成整个曝光过程；其中，E(x)表示采用平均方法计算出的初始预测曝光能量，f(x)为单调递增的调整公式，f(x)∈(0,1)，且随着x的增大，f(x)趋近于1。本发明通过对平均方法的修正，减少线宽控制过程中初始时期的偏差，在早期获得更好的曝光能量预测，使曝光后的晶圆更快的达到线宽标准。
一种应用于先进控制系统控制方法

[发明专利]一种电子设备折叠屏幕的方法和对应的电子设备-CN202010119976.6在审
发明人： 许博闻;许思雨 -专利权人：许思雨
申请日： 2020-02-26 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： H04M1/02 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种电子设备折叠屏幕的方法和对应的电子设备，电子设备可以包括手机、平板电脑、等具有主机和显示屏的移动或固定终端，通过采用两次折叠把大尺寸的电子设备变成小尺寸的手持设备，显示屏的未折叠之前相当于平板设备而折叠后变成尺寸只有原尺寸的三份之一的手持设备，且在折叠状态时只有原屏幕的三分之一显示在外，起到一个副屏的作用，另外三分之二的屏幕被折叠到设备里面，免于被划伤或损坏，解决了同一电子设备实现两种功能同时保护屏幕。
一种电子设备折叠屏幕方法对应

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