专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高分子量聚硅烷及其制造方法-CN201580038296.9有效
  • 远藤雅久;孙军;后藤裕一;永井健太郎 - 薄膜电子有限公司
  • 2015-06-30 - 2019-10-25 - C01B33/04
  • [问题]本发明提供使用重均分子量大的聚硅烷制成涂布型聚硅烷组合物,在涂布于基板并烧成后而得到导电性高且良好的硅薄膜。[解决方案]所述聚硅烷具有5000~8000的重均分子量。聚硅烷为环戊硅烷的聚合物。硅膜是将聚硅烷溶解于溶剂而成的聚硅烷组合物涂布于基材并在100℃~425℃下进行烧成而得到的。环戊硅烷的聚合在负载于聚合物的钯催化剂的存在下进行。负载于聚合物的钯催化剂是将催化剂成分的钯固定于官能化聚苯乙烯而成的。钯为钯化合物或钯络合物。钯的固定化是用官能化聚苯乙烯对零价钯络合物或二价钯化合物进行微胶囊化。零价钯络合物为四(三苯基膦)钯(0)络合物。
  • 分子量硅烷及其制造方法
  • [发明专利]制造含氧硅氢化物有机溶剂的方法-CN201580072282.9在审
  • 后藤裕一;远藤雅久;孙军;永井健太郎 - 薄膜电子有限公司
  • 2015-10-13 - 2017-12-01 - C01B33/145
  • [问题]提供一种制造用于能够在衬底上形成的硅氢化物氧化物涂覆膜的含氧硅氢化物有机溶剂(涂覆液)的方法。使用含氧硅氢化物的有机溶剂不需要在涂覆衬底时将涂覆液放置在非氧化气氛中,或者不需要在涂覆之后对衬底进行热处理,因为在涂覆之前硅氢化物氧化物形成在了涂覆溶液中。[方案]一种制造含氧硅氢化物有机溶剂的方法,包括在含有硅氢化物或其聚合物的有机溶剂上吹入含氧气体。硅氢化物是环状硅烷。硅氢化物是环戊硅烷。所含有的硅氢化物或其聚合物的氧化物的比例是(剩余Si‑H基)/(氧化之前的Si‑H基)=1‑40mol%。环状硅烷能够通过在卤化铝存在的情况下使环状硅烷与卤化氢在环己烷中反应、将得到的环状硅烷溶解在有机溶剂中并将其还原而得到。
  • 制造含氧硅氢化物有机溶剂方法

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