专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]半导体结构-CN202222446645.0有效
  • 赖彦锟;吴逸文;张国钦;蔡柏豪;李明机 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-09-15 - 2023-06-20 - H01L23/482
  • 本公开提出一种半导体结构。半导体裸片可以包括位于内连线级介电材料层内的金属内连线结构、位于最顶部内连线级介电材料层上的接合垫、位于最顶部内连线级介电材料层上的介电钝化层以及延伸穿过介电钝化层且位于接合垫上的金属凸块结构。每个金属凸块结构包括具轮廓的底面,此底面包括与接合垫的相应一者的顶面接触的最底面段、与穿过介电钝化层的相应开口的锥形侧壁接触的锥形表面段以及覆盖介电钝化层且具有从外周缘横向向内偏移一横向偏移距离的环形表面段,横向偏移距离为接合垫的相应下方一者的宽度的至少8%。
  • 半导体结构
  • [发明专利]封装结构及其形成方法-CN202210806346.5在审
  • 陈冠宏;许鸿生;蔡柏豪;李明机 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-07-08 - 2023-03-03 - H01L23/31
  • 本申请的实施例提供了一种封装结构及其形成方法,该方法包括:形成多个介电层;形成包括多个金属层的密封环的下部,每个金属层延伸到多个介电层之一中;在多个介电层上方沉积第一钝化层;在第一钝化层中形成开口;在开口中形成通孔环并物理接触密封环的下部;以及在第一钝化层上方形成金属环并接合至通孔环。通孔环和金属环形成密封环的上部。金属环包括具有Z字形图案的第一边缘部分。该方法还包括在金属环上形成第二钝化层,并且执行切割工艺以形成器件管芯,其中密封环靠近器件管芯的边缘。
  • 封装结构及其形成方法
  • [发明专利]半导体芯片封装结构-CN202210979694.2在审
  • 林俊成;蔡柏豪 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2017-06-09 - 2022-10-14 - H01L23/552
  • 提供芯片封装结构,芯片封装结构包含重布线结构,重布线结构包含介电结构和在介电结构中的接地线,接地线包含主要部分和连接至主要部分且从介电结构横向露出的末端扩大部分。芯片封装结构包含芯片结构位于重布线结构上方。芯片封装结构包含导电屏蔽膜设置于芯片结构和末端扩大部分的第一侧壁上方,导电屏蔽膜电性连接至接地线,末端扩大部分的厚度从主要部分增加至导电屏蔽膜。
  • 半导体芯片封装结构

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