专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种减少放料粉尘污染的混料罐-CN202320977537.8有效
  • 李坦;曹辉;吴春龙;王合义;卜云龙;张晶晶;苗光辉;李红梅;张栓宝;李步宇 - 深州冀衡药业有限公司
  • 2023-04-26 - 2023-10-20 - B01F27/90
  • 本实用新型公开了一种减少放料粉尘污染的混料罐,包括罐体和搅拌装置,放料口上还设有与中转料斗进料口连接的密封连接装置;密封连接装置包括外密封罩和内防尘罩,外密封罩的一端设于混料罐的放料口上,另一端用于连接中转料斗的进料口;内防尘罩的一端固设于外密封罩的内壁上,另一端伸向中转料斗的进料口内;外密封罩和内防尘罩均为柔性形变材质,内防尘罩伸向中转料斗进料口的一端固设有支撑圈,支撑圈围绕内防尘罩的端口环绕一圈设置,支撑圈的直径大于进料口的直径,支撑圈为弹性形变材质。本实用新型密封性好,防止在转料过程中粉尘扩散到环境中,既避免了物料的浪费,也保证了工作环境的洁净度,适用于转料时,密封两个分离的料口。
  • 一种减少粉尘污染混料罐
  • [发明专利]一种介质二次电子发射产额的测量方法-CN201911378479.1有效
  • 封国宝;王琪;杨晶;苗光辉;谢桂柏;何鋆;崔万照 - 西安空间无线电技术研究所
  • 2019-12-27 - 2023-04-07 - G01N23/2251
  • 本发明公开了一种介质二次电子发射产额的测量方法,包括:将金属导电栅网覆盖在待测介质的表面;将入射电子照射到金属导电栅网范围内,测量得到入射电流和样品电流;根据入射电流和样品电流,解算得到测量得到的总体二次电子产额;获取金属导电栅网在待测介质的表面上的覆盖比例、金属导电栅网对下层待测介质表面出射电子的遮挡系数,以及金属导电栅网自身的二次电子产额;解算得到待测介质表面出射的二次电子产额;解算得到待测介质的本征二次电子产额。本发明无需高精度的中和手段,可通用于普通金属二次电子产额测试设备,测量结果准确且不受样品厚度限制,能较好适应于低能端。
  • 一种介质二次电子发射测量方法
  • [发明专利]一种基于三维微结构降低二次电子发射的方法-CN202110662115.7有效
  • 李韵;谢贵柏;苗光辉;王君峰;李小军;李斌 - 西安空间无线电技术研究所
  • 2021-06-15 - 2023-02-28 - H01P3/16
  • 本发明公开了一种基于三维微结构降低二次电子发射的方法,包括:确定微波部件中沿电磁场传输通道方向的待降低二次电子发射表面;确定三维深度微结构加载区域;采用金属丝构成相交且尾端位于同一平面上的簇形结构;将簇形结构周期性首尾相连,两两编织,构成微结构单元;采用3D打印工艺,在三维深度微结构加载区域逐层加工制备微结构单元,形成三维深度微结构。本发明通过三维堆叠金属丝材料,在空间中形成三维深度微结构,实现二次电子发射的强抑制;同时在电磁场传输通道中控制微结构单元的表面投影尺寸大小,最小化对电性能的影响,最终实现不影响电性能的二次电子发射强抑制的三维深度微结构,具有物理结构稳定、与器件结合度优异等优点。
  • 一种基于三维微结构降低二次电子发射方法
  • [发明专利]一种确定随机点阵二次电子发射系数的方法-CN202211203577.3在审
  • 李韵;李小军;封国宝;李斌;苗光辉;高妍 - 西安空间无线电技术研究所
  • 2022-09-29 - 2023-01-20 - G16C60/00
  • 本发明公开了一种确定随机点阵二次电子发射系数的方法,包括:建立点阵空间结构三维位置模型;确定标准入射电子集;计算得到初始入射能量为E0、初始入射角度为θ0的N个入射电子入射到点阵空间结构三维位置模型时产生的二次电子的数量;计算得到点阵空间结构三维位置模型在初始入射能量为E0、初始入射角度为θ0时的二次电子发射系数;获取实验得到的二次电子发射系数实验值,并确定修正系数;改变入射电子的初始入射能量和初始入射角度,计算得到点阵空间结构三维位置模型在不同初始入射能量Ek、不同初始入射角度θk时的二次电子发射系数并进行修正后输出。本发明实现了3D打印随机点阵二次电子发射系数的确定,具有物理结构稳定、与器件结合度优异的优势。
  • 一种确定随机点阵二次电子发射系数方法

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