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[发明专利]涂覆基板的方法以及涂覆系统-CN201710492256.2有效
发明人：达伦·索斯沃斯;奥马尔·法赫尔 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2017-06-26 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：描述了用涂覆材料，具体用涂料或光刻胶，涂覆基板(12)的方法，其中所述方法中提供所述基板(12)。将所述涂覆材料施加到基板(12)的上侧(22)。产生气流，所述气流从基板(12)的下侧(18)引导到基板(12)的上侧(22)，其中气流防止在基板(12)的上侧(22)的边缘(26)形成涂覆材料的珠粒或通过气流去除先前存在的珠粒。此外，还描述了涂覆系统(10)。
涂覆基板方法以及系统

[发明专利]用于结合基板的结合装置以及方法-CN201980098507.6在审
发明人：乔治·格雷戈里 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2019-05-13 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开涉及一种结合装置(10)，该接合装置具有两个卡盘(24，26)、两个气体压力调节器(38，40)和控制单元(32)。卡盘(24，26)各自具有保持表面(46，48)，该保持表面带有与对应的气体压力调节器(38，40)流体连接的压力端口(50，52)。控制单元(32)与气体压力调节器(38，40)电气连接和/或无线连接，并且被配置成彼此独立地控制气体压力调节器(38，40)。还设置了可移动地安装在压力端口(50，22)内的销形式的支撑元件(68，70)以测量基材偏转量并调节对应的气体压力，并且还用于向基板(12，14)施加额外的机械压力。两个卡盘(24，26)可以安装在相应的支撑结构(20，22)上以便彼此热隔离。两个卡盘(24，26)的温度可以通过将卡盘(24，26)移动成接触来均衡。卡盘调温装置(30)可以用于均衡两个卡盘(24，26)的温度。结合装置(10)用于通过结合波传播来结合两个基板(12，14)。
用于结合装置以及方法

[发明专利]管嘴末端适配器、管嘴组件以及管嘴-CN201810637857.2有效
发明人：托马斯·格伦德;加里·肖凯特;卡德·梅基亚斯 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本发明提供了管嘴末端适配器、管嘴组件以及管嘴。管嘴末端适配器(12)具有抽吸管道(34)、供给管道(36)以及具有装置端部(18)和基板端部(20)的基部本体(16)。基部本体(16)具有在其基板端部(20)处的用于容纳管嘴末端(14)的管嘴末端凹入部(26)以及延伸到管嘴末端凹入部(26)中的突出部分(30)，其中抽吸管道(34)延伸穿过突出部分(30)，并且供给管道(36)通向管嘴末端凹入部(26)，其中抽吸管道(34)至少部分地被供给管道(36)围绕。此外，示出了管嘴组件(10)和管嘴(60)。
末端适配器组件以及

[发明专利]适配器、连接装置和供应系统-CN202110865976.5在审
发明人：迈克尔·布劳恩;西蒙·舒茨巴赫;卡德·梅基亚斯;迪内希·维贾亚拉加万;奥拉齐奥·蒙特塞拉托 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： B05B15/00 文献下载
摘要：一种用于处理基板、特别是晶圆的湿法处理模块、特别是喷漆模块的供应系统的液体容器(14)的适配器，该适配器包括用于紧固到液体容器(14)的容器零件(62)和用于紧固到供应系统的通道零件(66)，其中，容器零件(62)具有中心开口(68)和用于将容器零件(62)紧固到液体容器(14)的紧固装置。通道零件(66)包括连续的第一通道部分(42)和连续的第二通道部分(44)，第一和第二通道部分(42，44)各自通向容器零件(62)的中心开口(68)。进一步描述了连接装置和供应系统。
适配器连接装置供应系统

[发明专利]湿制工艺模块和操作方法-CN202110697629.6在审
发明人：迈克尔·布劳恩;西蒙·舒茨巴赫 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理衬底(特别是晶片)的湿制工艺模块(10)，特别是涂漆模块，其具有工艺室(12)，该工艺室包括用于处理衬底的工艺釜(24)、用于将空气供应到工艺室(12)中的空气入口(16)、至少一个旁路出口(38)和至少一个工艺釜出口(36)。至少一个旁路出口(38)和至少一个工艺釜出口(36)是用于将空气排出工艺室(12)的空气出口。此外，至少一个工艺釜出口(36)设置在工艺釜(24)中，并且至少一个旁路出口(38)设置在工艺釜(24)的外部。此外，示出了操作这种湿制工艺模块(10)的方法。
工艺模块操作方法

[发明专利]半导体接合装置及相关技术-CN201710111647.5有效
发明人：哈勒·约翰逊;格雷戈里·乔治 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2017-02-24 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种半导体接合装置及相关技术。该装置可以包括被构造成提供装置的上部块组件和下部块组件的调平调节的调平调节系统。在某些情况下，调平调节系统可以包括多个螺纹杆、差动螺纹调节套环以及调平套管。在某些情况下，调平调节系统还可以包括被构造成提供给定的预加载能力和调节范围的多个预加载弹簧。在某些情况下，调平调节系统还可以包括螺纹杆之一可以插入穿过的测压元件。在某些实施方式中，上部块组件还可以包括被构造成减少上部块组件的变形的反作用板。在某些实施方式中，上部块组件还可以包括隔热板，该隔热板被构造成提供顺应性偏转并且根据需要具有整体或多片构造。
半导体接合装置相关技术

[发明专利]用于涂覆基板的方法-CN201610217798.4有效
发明人：卡特琳·费舍尔;佛罗莱恩·帕利奇卡;达伦·罗伯特·索思沃思;威廉·惠特尼 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2016-04-08 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及涂覆设有过孔的基板。在此背景下，发生问题是由于涂层试剂围住过孔中的空气。这对于表面的平面化来说是不利的。为解决此问题，本发明提供了用于涂覆设有过孔的基板的方法，其中执行以下步骤：调整处理该基板；并且将基板涂覆以电绝缘材料使得过孔被完全地填充。
用于涂覆基板方法

[发明专利]用于晶圆照射单元的间隔器移位装置与晶圆照射单元-CN201610547979.3有效
发明人：马蒂亚斯·康拉迪;雅努什·舒尔茨 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2016-07-12 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于晶圆照射单元(10)的间隔器移位装置(30)，包括致动器(34)、通过致动器(34)能够在工作位置与非工作位置之间移位的间隔器(32)，以及联接到致动器(34)的力传输元件(48)，其特征在于，力传输元件(48)包括线材。本发明还涉及包括此类型的间隔器移位装置的晶圆照射单元(10)。
用于照射单元间隔移位装置

[发明专利]用于处理圆盘形基板的装置和支撑适配器-CN201610366122.1有效
发明人：斯文·汉森;亨里克·彼得里 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种处理圆盘形基板的装置(10)，其包括具有用于圆盘形基板的支撑面(16)的支撑件(14)以及可联接至支撑件(14)并且可支撑用于处理圆盘形基板的掩模(22)的支撑适配器(20)，其中，提供接口(24)，其检测支撑适配器(20)与支撑件(14)的联接，并且其中，提供控制系统(36)，其与接口(24)协作并且检测支撑适配器(20)是否联接至支撑件(14)，特别是接口(24)是否被占用。本发明还公开了一种用于这种类型装置(10)的支撑适配器(20)。
用于处理圆盘形基板装置支撑适配器

[发明专利]晶片处理设备以及用于晶片处理设备的密封环-CN201610166588.7有效
发明人：迪特尔·艾伯特;迈克尔·布劳恩 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2016-03-22 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于附接到晶片处理设备的盖环的密封环，其具有环形载体与可释放地附接到载体的密封唇。本发明还涉及晶片处理设备，其具有用于晶片的接收件、布置在接收件上的盖环、以及前述类型的密封环，晶片通过所述密封环可以密封在接收件上。最终地，本发明涉及用于通过以下步骤制造密封环的方法：初始地设置环形载体，此环形载体在其上侧上设有凹槽以及从上侧径向向内地倾斜的支承表面。此外提供设有凸缘的密封唇，其中在密封唇的初始状态中的凸缘的直径小于凹槽的直径。然后，密封唇适配在凹槽中使得其沿着支承表面延伸并且其自由端延伸超过载体的下侧。
晶片处理设备以及用于密封

[发明专利]用漆涂覆衬底的方法和用于平面化漆层的设备-CN201510612238.4有效
发明人：卡特琳·费舍尔;佛罗莱恩·帕利奇卡;约翰内斯·普拉滕;金子健人 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2015-09-23 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： B05D1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用漆涂覆衬底(26)的方法，其包括以下步骤：‑对衬底(26)均匀地施加漆，‑降低对衬底(26)施加的漆(30)的溶剂比例，‑将涂覆的衬底(26)暴露于溶剂氛，本发明还涉及一种用于平面化漆层的设备。
用漆涂覆衬底方法用于平面化设备

[发明专利]用于将涂层施加到基板的方法与设备-CN201610217781.9有效
发明人：奥马尔·法赫尔 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2016-04-08 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及用于将涂层施加到基板(3)的设备，其包括：计量设备(5)，通过计量设备可以将涂覆流体(2)以射流施加到基板(3)；以及溶剂分配器(10)，其以使预定量的溶剂(14)配送到计量设备(5)的前端的此种方式偏心地布置并且朝向计量设备(5)的前端的侧面。本发明还涉及用于通过根据上述权利要求中任一项所述的设备将涂层施加到基板(3)的方法，其中，在施加涂覆流体(2)以前，以溶剂(14)与位于计量设备(5)的前端的涂覆流体(2)接触的此种方式使预定量的溶剂(14)与计量设备(5)的前端接触，并且，在等待时间以后，涂覆流体(2)随后通过计量设备(5)施加到基板(3)。
用于涂层施加到基板方法设备

[发明专利]评估多通道微和/或亚波长光学投影单元的质量的方法和测试系统-CN202010909823.1在审
发明人：伊莎贝尔·阿格林;卡特琳·辛德勒;威尔弗里德·诺埃尔;索菲安妮·图尔诺伊斯;苏珊娜·韦斯特恩赫费尔 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：公开了一种用于评估多通道微和/或亚波长光学投影单元(28)的质量的方法。该方法包括以下步骤：对光学投影单元(28)的至少预定义部分进行照明，以便通过多通道光学投影单元(28)的预定义部分的至少两个通道来生成图像。基于对图像的分析，确定至少一个特征量，其中，该特征量的值与投影单元(28)的特性特征、投影单元(28)的缺陷和/或投影单元(28)的缺陷类别相关联。基于至少一个特征量来评估投影单元(28)的质量。此外，公开了一种用于评估多通道微和/或亚波长光学投影单元(28)的质量的测试系统(10)和计算机程序。
评估通道波长光学投影单元质量方法测试系统

[发明专利]用于操作对准晶片对的装置-CN201610323805.9有效
发明人：格雷戈里·乔治;其他发明人请求不公开姓名 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于精确地操作对准与对中半导体晶片对以便晶片到晶片对准与结合应用的工业规模装置与系统。其包括末端执行器，此末端执行器具有框架构件以及连接到框架构件的浮动载体，使得其间形成间隙，其中浮动载体具有半圆形内周。对中的半导体晶片对在机械臂控制下利用末端执行器可定位在处理系统内。对中的半导体晶片对在结合装置中不存在末端执行器的情况下结合在一起。
用于操作对准晶片装置

[发明专利]用于操作对准晶片对的方法-CN201610323232.X有效
发明人：哈勒·约翰逊;格雷戈里·乔治 -专利权人： 苏斯微技术光刻有限公司
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于精确地操作对准与对中半导体晶片对以便晶片到晶片对准与结合应用的工业规模方法。其包括末端执行器，此末端执行器具有框架构件以及连接到框架构件的浮动载体，使得其间形成间隙，其中浮动载体具有半圆形内周。对中的半导体晶片对在机械臂控制下利用末端执行器可定位在处理系统内。对中的半导体晶片对在结合装置中不存在末端执行器的情况下结合在一起。
用于操作对准晶片方法

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